公开(公告)号：CN114318282A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202111093101.4

申请日：2021-09-17

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 泽田成敏 ,  村上尚史 ,  宫本幸大 ,  伊藤帆奈美 ,  梨木智刚

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/24

Abstract: 本发明提供适合于在卷对卷方式的工艺中确保配置于比等离子体处理室靠下游的位置的成膜室的稳定的低压状态的光学薄膜的制造方法和光学薄膜制造装置。本发明的制造方法是一边以卷对卷方式输送工件薄膜一边制造光学薄膜的方法，包含等离子体处理室中的工序和成膜室(第2成膜室)中的工序。等离子体处理室具有在输送方向上配置于比室内的等离子体源靠上游的位置的第1排气口。在等离子体处理工序中，经由第1排气口对等离子体处理室进行排气，并对工件薄膜进行等离子体处理。在成膜工序中，在经由成膜室的第2排气口对成膜室进行排气从而将成膜室内维持在比等离子体处理室内的压力低的压力的同时，利用干式覆膜法在工件薄膜上进行成膜。

公开(公告)号：CN109073940B

公开(公告)日：2022-03-08

申请号：CN201780022668.8

申请日：2017-03-29

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 藤野望 ,  梨木智刚 ,  竹本光伸

IPC: G02F1/1343 ,  B32B9/00 ,  B32B15/04 ,  G02B5/26 ,  G02F1/13 ,  G06F3/041 ,  H01B5/14

Abstract: 液晶调光构件依次具备：透明基材、透光性导电层、和液晶调光层，透光性导电层依次具备：第1无机氧化物层、金属层、和第2无机氧化物层。

公开(公告)号：CN114127865A

公开(公告)日：2022-03-01

申请号：CN202080052490.3

申请日：2020-07-31

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 西森才将 ,  梨木智刚 ,  松本贵文

IPC: H01B5/14

Abstract: 透明导电性薄膜(1)依次具备：玻璃基材(2)和透明导电层(3)。透明导电层(3)的550nm下的反射率为12％以下。透明导电层(3)的厚度为规定的范围。

公开(公告)号：CN107615157B

公开(公告)日：2021-01-08

申请号：CN201680029550.3

申请日：2016-05-18

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 片桐正義 ,  藤野望 ,  梨木智刚

IPC: G02F1/19 ,  G02B5/00 ,  C23C14/34 ,  E06B5/00

Abstract: 调光薄膜(1)在高分子薄膜基材(10)上依次具备：状态在基于氢化的透明状态与基于脱氢化的反射状态之间可逆地变化的调光层(30)、以及促进调光层中的氢化及脱氢化的催化剂层(40)。调光层(30)在通过X射线光电子能谱法测定的元素浓度的膜厚方向分布中，在催化剂层(40)侧以10nm以上的厚度具有氧含量不足50原子％的调光区域(32)，在高分子薄膜基材(10)侧具有氧含量为50原子％以上的氧化区域(31)。

公开(公告)号：CN112020422A

公开(公告)日：2020-12-01

申请号：CN201980028034.2

申请日：2019-04-22

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  有本将治 ,  中井孝洋 ,  渡边太一 ,  陈晓雷 ,  米泽秀行 ,  梨木智刚

IPC: B32B3/10 ,  B32B15/04

Abstract: 本发明涉及电磁波透过性金属光泽物品(1)以及装饰构件，所述电磁波透过性金属光泽物品(1)具备：基体(10)、在前述基体(10)上形成的金属层(12)、和光学调整层(13)，前述金属层(12)包含多个部分(12a)，所述多个部分(12a)中，至少一部分处于彼此不连续的状态，前述光学调整层(13)包含至少1层折射率为1.75以上的高折射率层，所述装饰构件具备被粘构件和电磁波透过性金属光泽物品，前述电磁波透过性金属光泽物品借助由透明粘合剂形成的粘合剂层贴附于前述被粘构件。

公开(公告)号：CN108505014B

公开(公告)日：2020-08-21

申请号：CN201810321536.1

申请日：2014-07-16

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 梨木智刚 ,  滨田明

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/34

Abstract: 本申请的发明提供一种溅射装置，为了不使自成膜辊脱离而输送到下游侧输送辊的长条膜基材因急剧的冷却而发生变形，该溅射装置构成为包括真空室(14)、成膜辊(18)、靶材(20)、气体供给机构(24)、3根驱动辊(下游侧输送辊)(26(1)、26(2))、26(3))、以及用于将各驱动辊(26(1)、26(2)、26(3))的温度维持在80℃以下且比真空室(14)内的最低温度高的范围内的大致恒定温度的3个温度调节机构(30(1)、30(2)、30(3))。

公开(公告)号：CN111386613A

公开(公告)日：2020-07-07

申请号：CN201880075197.1

申请日：2018-06-14

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 矢野孝伸 ,  米泽秀行 ,  梨木智刚

IPC: H01L41/193 ,  C08J7/04 ,  G06F3/041 ,  H01L41/113

Abstract: 本发明的压电薄膜(10)为在基材薄膜(12)上层叠有具有压电性的涂布层(14)的薄膜状的压电薄膜。另外，压电传感器(16)在压电薄膜(10)形成有透明电极(18)、(20)。压电传感器(16)借助透明填充层(22)安装于显示器(24)。对于本发明的压电薄膜，调节基材薄膜的材料、压电层的厚度以使20℃～80℃的储能模量变化为±30％以下。由此，提供能够在温度变化大的环境下使用的压电薄膜及具备该压电薄膜的压电传感器。

公开(公告)号：CN111183374A

公开(公告)日：2020-05-19

申请号：CN201880065087.7

申请日：2018-10-26

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 高见佳史 ,  横井辽太郎 ,  梨木智刚

IPC: G02B1/14 ,  G02B1/115 ,  G02B1/18 ,  B32B7/023 ,  B32B27/00 ,  B32B27/18

Abstract: 硬涂薄膜(1)在薄膜基材(10)的一个主面上具备硬涂层(11)。硬涂层包含粘结剂树脂及无机填料，相对于粘结剂树脂100重量份，上述无机填料的含量为20～80重量份。填料的平均一次粒径优选为25～70nm。硬涂层的表面的算术平均粗糙度优选为2nm以上。硬涂层的扩散反射光的b﹡优选为-0.2以上。

公开(公告)号：CN110901198A

公开(公告)日：2020-03-24

申请号：CN201910859245.2

申请日：2019-09-11

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 松本正宪 ,  西森才将 ,  梨木智刚 ,  小川圭太

IPC: B32B27/36 ,  B32B7/12 ,  B32B17/10 ,  B32B7/06 ,  B32B33/00 ,  H01B5/14

Abstract: 本发明提供能够抑制卷曲的发生、抑制玻璃基材的破损的玻璃层叠体。玻璃层叠体(1)为具备载体薄膜(2)、和配置于其上侧且厚度为150μm以下的玻璃基材(3)的玻璃层叠体(1)，载体薄膜(2)具备厚度为100μm以下的塑料基材(4)和配置于其上侧的粘合剂层(5)，将玻璃层叠体(1)以140℃进行60分钟加热时，载体薄膜(2)与玻璃基材(3)的剥离力为0.1N/50mm以上且2.0N/50mm以下。

公开(公告)号：CN110641108A

公开(公告)日：2020-01-03

申请号：CN201910841379.1

申请日：2016-02-18

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 藤野望 ,  梨木智刚

IPC: B32B27/08 ,  B32B27/20 ,  B32B27/30 ,  B32B27/32 ,  B32B27/36 ,  B32B33/00 ,  C23C14/00 ,  C23C14/08 ,  C23C14/20 ,  C23C14/34 ,  C23C14/54 ,  C08J7/04 ,  C08L67/02 ,  G06F3/044 ,  H05K1/02

Abstract: 薄膜依次具备基材和无机层。基材由厚度为2μm以上300μm以下的高分子薄膜形成。无机层依次具备第1无机氧化物层、金属层和第2无机氧化物层。第1无机氧化物层及第2无机氧化物层含有氢原子。第2无机氧化物层中的氢原子的含量H2与第1无机氧化物层中的氢原子的含量H1之比(H2/H1)为0.10以上且10.00以下。