公开(公告)号：JPS5734213B2

公开(公告)日：1982-07-21

申请号：JP3495773

申请日：1973-03-27

IPC: C03B37/018 ,  C03B8/04 ,  C03B19/06 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03B37/014 ,  C03B37/027 ,  C03B37/15 ,  C03C3/06 ,  G02B6/00

CPC classification number: C03B19/06 ,  C03B32/00 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/01466 ,  C03B37/027 ,  C03B37/15 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/42 ,  C03B2205/16 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/31 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/52

公开(公告)号：ZA9904171B

公开(公告)日：2000-03-28

申请号：ZA9904171

申请日：1999-06-24

Applicant: CORNING INC

Inventor： HAWTOF DANIEL WARREN ,  STONE JOHN

IPC: G02B6/00 ,  C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03B37/014 ,  F23D14/48 ,  F23J ,  C01B ,  C03B ,  C10B

CPC classification number: C03B19/1423 ,  C03B37/0142 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/08 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/14 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/22 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/34 ,  C03B2207/42 ,  C03B2207/46 ,  Y02P40/57

公开(公告)号：NO834524A

公开(公告)日：1984-06-18

申请号：NO834524

申请日：1983-12-08

Applicant: CSELT CENTRO STUDI LAB TELECOM

Inventor： ROBA GIACOMO

IPC: C03B19/14 ,  C03B37/018 ,  G02B6/00 ,  C03B

CPC classification number: C03B37/01869 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/31

公开(公告)号：JP2018535176A

公开(公告)日：2018-11-29

申请号：JP2018517578

申请日：2016-10-05

Applicant: コーニング インコーポレイテッド

Inventor： クルジンスキー,ポール アンドリュー ,  フィオーディマルヴァ,ドミニク

IPC: C03B37/018

CPC classification number: C03B37/01222 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/01248 ,  C03B37/027 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/22 ,  C03B2203/224 ,  C03B2203/225 ,  C03B2203/23 ,  C03B2203/34 ,  Y02P40/57

Abstract: 本開示は:コア‐クラッド比が大きいコアケーンから形成された光ファイバプリフォーム;中間コア‐クラッド組立体;並びに上記プリフォーム及び上記コア‐クラッド組立体の作製方法を提供する。上記プリフォームは、キャッピング済みコアケーンを用いて作製される。キャッピング材料は、コアケーンの熱膨張係数より低く、かつケース・イン・スートプロセス中の周囲のクラッドモノリスの熱膨張係数により密接に一致するか又はそれ未満の熱膨張係数を有する。キャップの存在により、コアケーン及びクラッド材料の異なる熱膨張から発生する応力が低減され、欠陥の濃度が低く、かつ後続の熱処理ステップ中の破損の蓋然性が小さいプリフォームがもたらされる。

公开(公告)号：JP2018513093A

公开(公告)日：2018-05-24

申请号：JP2017549726

申请日：2016-03-22

Applicant: コーニング インコーポレイテッド

Inventor： アンナーマライ,セジアン

IPC: C03B23/203 ,  C03B25/02 ,  C03B32/02 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03C10/0009 ,  B32B3/28 ,  B32B5/16 ,  B32B5/30 ,  B32B7/04 ,  B32B17/06 ,  B32B37/04 ,  B32B2260/025 ,  B32B2260/04 ,  B32B2264/101 ,  B32B2264/102 ,  B32B2264/12 ,  B32B2307/30 ,  B32B2307/416 ,  B32B2307/704 ,  B32B2307/732 ,  B32B2551/00 ,  C03B19/066 ,  C03B23/203 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C27/06 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/28 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/50 ,  C03C2203/52 ,  C03C2204/00 ,  G02B5/0891 ,  G03F1/60

Abstract: 極紫外線リソグラフィー(EUVL)に使用するためのガラス複合体が提供される。そのガラス複合体は、第1のシリカ・チタニアガラス部分を含む。そのガラス複合体は、第1のシリカ・チタニアガラス部分の表面に機械的に結合された第2のドープされたシリカ・チタニアガラス部分をさらに含み、その第2のドープされたシリカ・チタニアガラス部分の厚さは、約1.0インチ(約2.5cm)超である。

公开(公告)号：JP5868450B2

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：JP2014092417

申请日：2014-04-28

Applicant: コーニング インコーポレイテッド

Inventor： マイケル ディー ブレイディー ,  ダニエル ダブリュ ホートフ

IPC: C03B8/04

CPC classification number: C03B19/1492 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/06 ,  C03B2207/52

公开(公告)号：JP2015527962A

公开(公告)日：2015-09-24

申请号：JP2015519041

申请日：2013-06-25

Applicant: ヘレーウス クヴァルツグラース ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG ,  ヘレーウス クヴァルツグラース ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

Inventor： ズーフ マリオ ,  ズーフ マリオ ,  シェッツ ゲアハート ,  シェッツ ゲアハート ,  ラングナー アンドレアス ,  ラングナー アンドレアス

IPC: C01B33/146 ,  C03B20/00

CPC classification number: C09K11/7706 ,  C01B33/18 ,  C03B19/066 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/36 ,  C03C1/006 ,  C03C3/06 ,  C03C3/061 ,  C03C4/12 ,  C03C2201/06 ,  C03C2201/3488 ,  C03C2201/36 ,  C09K11/025

Abstract: 本発明は、SiO2懸濁液と少なくとも1種のドープ溶液とを相互作用させる、ドープされたSiO2スラリーの製造方法であって、ここで、前記SiO2懸濁液および/または前記ドープ溶液が噴霧物として相互に作用し、その噴霧物の平均液滴径が10μm〜100μmの範囲にある前記製造方法に関する。本発明は、さらに、前記噴霧方法を用いてドープされたSiO2スラリーの、ドープされた石英ガラスの製造、特にレーザー活性石英ガラスの製造のための使用に関する。

Abstract translation: 本发明中，二氧化硅悬浮液并使其与至少一种掺杂溶液中，掺杂的SiO 2料浆的生产方法，其中所述的SiO 2悬浮液和/或浓液溶液喷雾产物相互作用 相互作用如涉及喷涂材料的平均液滴尺寸的制造方法是在10微米的范围内 - 百米。 本发明进一步涉及使用所述喷雾法，所生产的掺杂石英玻璃的，用于生产激光活性石英玻璃的使用的特别掺杂使用的SiO 2淤浆。

公开(公告)号：JP4504569B2

公开(公告)日：2010-07-14

申请号：JP2000574469

申请日：1999-10-05

Applicant: リエッキ オイLiekki Oy

Inventor： エーロラ，マルクス ,  ティッカネン，ユハ ,  ピトカネン，ヴィッレ ,  ラヤラ，マルック

IPC: C03B8/04 ,  G02B6/00 ,  C03B19/10 ,  C03B19/14 ,  C03B37/014 ,  C03B37/018 ,  C23C4/12 ,  C23C4/123 ,  C23C4/129 ,  C23C16/453 ,  C23D5/04

CPC classification number: C03B37/0142 ,  C03B19/106 ,  C03B19/1423 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/36 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/34 ,  C03B2207/46 ,  C23C4/12 ,  C23C4/123 ,  C23C4/129 ,  C23C16/453 ,  C23D5/04

公开(公告)号：JP2004523454A

公开(公告)日：2004-08-05

申请号：JP2002552867

申请日：2001-11-16

Applicant: コーニング インコーポレイテッド

Inventor： ビー オヌー，チェクウエメカ ,  エル シーフェルベイン，スーザン ,  エル ジェイムズ，ティファニー ,  ビー マシューズ，ヘイゼル ,  エル レイシー，クロード

IPC: C03B19/14 ,  C03B23/04 ,  C03B37/014 ,  C03B37/018 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B37/01446 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B23/04 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/12 ,  C03C3/06 ,  Y02P40/57

Abstract: A silica soot preform (12) is inserted into a furnace (30). The preform is then treated with heat and carbon monoxide gas (32) so as to reduce impurities that could effect the final product.

公开(公告)号：JPS6140831A

公开(公告)日：1986-02-27

申请号：JP16116884

申请日：1984-07-31

Applicant: Furukawa Electric Co Ltd:The

Inventor： FURUGUCHI MAKOTO ,  YOSHIDA KAZUAKI ,  ORIMO KATSUMI ,  OGURA KUNIO

IPC: C03B37/014 ,  C03C13/04 ,  G02B6/00

CPC classification number: C03B37/01446 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/30

Abstract: PURPOSE:To manufacture the titled base material having uniform refractive index distribution in the longitudinal direction by heat-treating the porous glass base material in the specified conditions in the atmosphere contg. halogenides and helium. CONSTITUTION:A porous glass base material B consisting of silica fine particles contg. the oxides of Ge, P, B, Al and Sb or the like as a dopant is quickly inserted into the inside of a heating furnace A wherein the gas contg. halogenides (e.g. SOCl2) and helium is flowed therein till the position in which the tip C of the base material B reaches

Abstract translation: 目的：通过在大气中的特定条件下热处理多孔玻璃基材来制造在纵向具有均匀折射率分布的标题基材。 卤化物和氦。 构成：由二氧化硅微粒组成的多孔玻璃基材B， 作为掺杂剂的Ge，P，B，Al和Sb等的氧化物被快速插入到加热炉A的内部， 卤化物（例如SOCl 2）和氦流入其中，直到基材B的尖端C达到<= 220℃。 从基材B以规定的速度下降并通过高温。 形成玻璃化部分，并且形成具有纵向均匀比的芯部直径和包层部分直径。