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公开(公告)号：KR1020170030059A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：KR1020160115281
申请日：2016-09-07
Applicant: 니바록스-파 에스.에이.
Inventor： 뒤부아필리쁘
CPC classification number: G04B15/14 , B81B3/007 , B81B2201/035 , B81C1/0038 , B81C1/00539 , B81C1/00547 , B81C1/00714 , B81C1/00992 , B81C2201/0115 , C09K13/00 , C09K13/08 , C23C14/0611 , C23C14/0652 , C23C14/10 , C23C14/12 , C23C16/0254 , C23C16/45525 , C25F3/02 , C25F3/12 , G04D3/0069
Abstract: 실리콘기재기판 (1) 으로부터시작하는마이크로기계시계부품을제조하기위한방법으로서, a) 결정된깊이의상기실리콘기재기판 (10) 의표면의적어도일부표면상에기공들 (2) 을형성하는단계; 및 b) 다이아몬드, 다이아몬드형탄소 (DLC), 실리콘산화물, 실리콘질화물, 세라믹스, 폴리머들및 이들의혼합물로부터선택된재료로, 기공들 (2) 에서, 기공들 (2) 의깊이와적어도동등한두께의상기재료의층을형성하기위해서, 상기기공들 (2) 을완전히충전하는단계를순서대로포함하는, 마이크로기계시계부품을제조하기위한방법. 발명은또한, 실리콘기재기판 (1) 의표면의적어도일부표면상에, 결정된깊이의기공들 (2) 을갖고, 기공들 (2) 은, 기공들 (2) 의깊이와적어도동등한두께의, 다이아몬드, 다이아몬드형탄소 (DLC), 실리콘산화물, 실리콘질화물, 세라믹스, 폴리머들, 및이들의혼합물들로부터선택되는재료의층으로완전히충전되는, 실리콘기재기판 (1) 을포함하는마이크로기계시계부품과관련된다.
Abstract translation: 一种用于制造微机械时钟部件，从硅支撑衬底（1）开始的方法，a）形成的孔（2）上的至少所述确定的硅基板10中，深度的表面的表面的一部分; 和b）的金刚石，类金刚石碳（DLC），氧化硅，氮化硅，陶瓷，聚合物，和至少等于，孔（2）的材料的从混合物中选择的厚度和其深度，孔（2） 填充所述孔（2）以形成所述材料的层。 本发明还涉及用于制造在硅基衬底1的表面的至少一部分表面上具有确定深度的孔2的硅基衬底1的方法，其中孔2的厚度至少等于孔2的深度， 金刚石，类金刚石碳（DLC），微机械时钟分量含有氧化硅，氮化硅，陶瓷，聚合物，和硅基衬底1被完全充满，从它们的混合物中选择的一种材料的层和 这是相关的。
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公开(公告)号：KR101290450B1
公开(公告)日：2013-07-26
申请号：KR1020090062529
申请日：2009-07-09
Applicant: 더 스와치 그룹 리서치 앤 디벨롭먼트 엘티디
IPC: G04B37/04 , H01L21/027
CPC classification number: B81C99/008 , B81B2201/035 , B81C1/00674 , B81C2201/112 , G04B13/02 , G04D3/0069 , Y10T29/49579
Abstract: 본 발명은 기계 부품(51) 제조 방법(1)에 관한 것으로, 상기 방법은
a)미세가공 가능한 재료로 만든 기판(53)을 제공하는 단계(3)를 포함하며,
b)사진석판공정의 도움으로, 전체 기판을 통과하는 부품을 포함하는 패턴(50)을 에칭하는 단계(5)를 포함한다.
본 발명에 따르면, 상기 방법은,
c)상기 기판의 상측 표면과 바닥 표면들을 접근가능하도록 하기 위해 상기 에칭된 기판을 서포트(55') 상에 장착하는 단계(7);
d)미세가공 가능한 재료보다 더 우수한 마찰 퀄리티의 코팅을 상기 부품의 외측 표면 위에 증착시키는 단계(9, C');
e)기판으로부터 부품을 구속해제하는 단계(11)를 더 포함한다.
본 발명은 시계 제조 분야에 관한 것이다.
미세가공 가능한 재료, 기판, 정렬 수단, 카운터 서포트, 보호 마스크-
公开(公告)号：KR101253808B1
公开(公告)日：2013-04-12
申请号：KR1020090062085
申请日：2009-07-08
Applicant: 더 스와치 그룹 리서치 앤 디벨롭먼트 엘티디
IPC: C23F1/00 , H01L21/027 , G03F7/00
CPC classification number: G04D3/0069 , B81B2201/035 , B81C3/008 , B81C99/008 , G04B13/02 , Y10T29/49579 , Y10T29/49581
Abstract: 본 발명은 a) 미세-기계가공가능한 재료로 제조된 기판(53)을 제공하는 단계(3) 및 b) 포토리소그래피를 이용하여 상기 전체 기판을 통해 상기 부품을 포함하는 패턴(50)을 에칭하는 단계(5)를 포함하는 기계 부품(51)을 제조하기 위한 방법(1)에 관한 것이다. 본 발명에 따라서, 상기 방법은 c) 상기 부품상에 클립(91)을 조립하는 단계를 추가적으로 포함하고, 이에 따라 상기 부품(51)은 미세-기계가공가능한 재료를 직접적으로 처리하지 않고 장착되어질 준비가 되고, d) 장치 내에 상기 부품을 장착하기 위하여 기판(53)으로부터 부품(51)을 분리시키는 단계를 추가적으로 포함한다.
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公开(公告)号：KR1020080076300A
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：KR1020070016056
申请日：2007-02-15
Applicant: 부산대학교 산학협력단
CPC classification number: B81C99/0095 , B81B2201/035
Abstract: An extruder for fabricating micro-parts is provided to easily manufacture parts such as a micro-gear shaft by mounting a micro-scale extrusion die on a small-size extruder. An extruder includes a container(160), an actuator(120), and a micro-die. The container receives an extrusion material. The actuator exerts an extrusion load onto the extrusion material. The actuator includes a piezo-electric actuator. The actuator is connected to an actuator controller(130) varying a stroke of a RAM(150) controlling voltage applied to the actuator. The micro-die is provided at an exit of the container. The micro-die is fabricated through a MEMS(Micro-Electro-Mechanical Systems) technology. The MEMS technology includes photolithography, laser micromachining, LIGA(lithographie, galvanoformung, Abformung), and electro discharge micromachining.
Abstract translation: 提供用于制造微型部件的挤出机，通过将微型挤出模头安装在小型挤出机上来容易地制造诸如微型齿轮轴的部件。 挤出机包括容器（160），致动器（120）和微型模具。 容器接收挤出材料。 致动器在挤压材料上施加挤压负荷。 致动器包括压电致动器。 致动器连接到致动器控制器（130），其改变控制施加到致动器的电压的RAM（150）的行程。 微型模具设置在容器的出口处。 微型模具通过MEMS（微机电系统）技术制造。 MEMS技术包括光刻，激光微加工，LIGA（平版印刷，电镀，Abformung）和放电微加工。
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公开(公告)号：JP2017053855A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：JP2016173428
申请日：2016-09-06
Applicant: ニヴァロックス−ファー ソシエテ アノニム
Inventor： デュボワ,フィリップ
CPC classification number: G04B31/08 , B81B3/007 , B81B3/0075 , C23C14/22 , C23C16/45525 , G04B15/14 , G04B19/12 , B81B2201/035
Abstract: 【課題】シリコン系マイクロメカニカル時計部品を潤滑するための方法を提供する。 【解決手段】マイクロメカニカル時計部品を製造するための方法は、以下のステップをこの順で含む:a)上記シリコン系基板1を準備するステップ;b)上記シリコン系基板1の表面の少なくとも一部の表面上に、深さ少なくとも10μm、好ましくは少なくとも50μm、より好ましくは少なくとも100μmの細孔2を形成するステップであって、細孔2は、マイクロメカニカル時計部品の外側表面において外向きに開口するよう設計されている、ステップ。 【選択図】図2
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2017007086A
公开(公告)日：2017-01-12
申请号：JP2016122399
申请日：2016-06-21
Applicant: ニヴァロックス−ファー ソシエテ アノニム
Inventor： アレクス・ガンデルマン
CPC classification number: G04D99/00 , B81C1/00103 , C23F1/00 , B81B2201/035 , B81B2203/0384 , B81C2201/0132 , B81C2201/0138 , B81C2201/014
Abstract: 【課題】構成部品の美的外観を改善し、かつ機械的強度を改善するための、新たなタイプのシリコン系微小機械構成部品及び新たなタイプの製作方法を提案する。 【解決手段】本発明は、少なくとも1つの面取りを有するシリコン系微小機械構成部品に関し、このシリコン系微小機械構成部品は、少なくとも1つの傾斜した側壁のエッチングステップを、垂直な側壁の「Bosch」エッチングと組み合わせた方法から形成され、これにより、シリコン系ウェハの微小機械加工によって形成される構成部品の美的外観の改善及び機械的強度の改善が可能となる。 【選択図】図16
Abstract translation: 甲提高组件的美学外观，并且提高了机械强度，提出一种新的形态的制造方法的一个新的类型和基于硅的微机械部件。 本发明涉及一种具有至少一个倒角，所述基于硅的微机械元件，所述至少一个倾斜的侧壁的蚀刻步骤的硅基微机械部件，“博世”垂直侧壁蚀刻 它从该方法中的组合形成了，从而，提高了部件的美学外观的改进的和机械强度以由硅晶片的微细加工来形成也是可能的。 .The 16
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187.发明专利
公开(公告)号：JP2016537209A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：JP2016526215
申请日：2014-10-06
Applicant: ニヴァロックス−ファー ソシエテ アノニム , ニヴァロックス−ファー ソシエテ アノニム
Inventor： デュボワ，フィリップ , メルツァーギ，セバスチアーノ , シャルボン，クリスチャン
CPC classification number: B81C99/0085 , B81B2201/035 , G04B13/00 , G04B15/14 , G04B19/12
Abstract: 本発明は、炭素同素体ベースの合成材料で作られた一体的にされたマイクロメカニカル部品を製造する方法に関し、少なくとも3つのレベルにて、製造される一体的にされたマイクロメカニカル部品に対応する逆形状空欠部が設けられた基材を形成するステップと、前記基材の前記逆形状空欠部を、前記逆形状空欠部の前記少なくとも3つのレベルそれぞれの深さよりも小さな厚みの前記炭素同素体ベースの合成材料の層で被覆するステップと、及び前記逆形状空欠部に形成された前記一体的にされたマイクロメカニカル部品を解放するために、前記基材を除去するステップとを有する。
Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造微机械部件，它是整体地制成的碳同素异形体的合成材料制成的，至少有三个等级，对应于一体微机械元件反向制造 形成的形状被设置衬底的耗尽部分，其中，所述逆的碳形空出部，相反的形状，所述至少三个级别更小的厚度的比基板的每个深度耗尽的部分 涂层的步骤在合成材料的同素异形体系层，并且为了释放是在一体地形成在相对形状的耗尽部分微机械部件，以及去除所述基板的工序。
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公开(公告)号：JP2016080699A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：JP2015199175
申请日：2015-10-07
Applicant: ニヴァロックス−ファー ソシエテ アノニム
Inventor： フィリップ・デュボワ , クリスチャン・シャルボン
CPC classification number: C25D21/04 , B81C1/00674 , C22C19/03 , C22C45/04 , C25D1/003 , G04B1/145 , G04B13/02 , G04B15/00 , G04B15/14 , G04B37/22 , G04D3/0074 , B81B2201/035 , B81C2201/032
Abstract: 【課題】10未満の比透磁率及びはめ込み又は圧着の対象となる性質を維持しつつ耐摩耗性が改善された一体化された電鋳部品と、表面の深さを容易に制御することができる表面硬化ステップを有する製造手法とを提供する。 【解決手段】トラップされた水素を含む電鋳金属の本体を有する一体の部品17であって、電鋳金属の本体の外表面19においては、一体の部品17の耐摩耗性を改善するように、10未満の比透磁率μ R 及びはめ込み又は圧入の対象となる性質を維持しつつ、所定の深さE 1 までにのみ、電鋳金属の本体の残りと比べてトラップされた水素が脱離しており、硬化をもたらしている。 【選択図】図4
Abstract translation: 要解决的问题：提供：一体式电铸部件，其耐磨性得到改善，同时保持小于10的相对磁导率和插入或压配合能力; 以及包括表面硬化步骤的制造方法，其中可以容易地控制表面的深度。解决方案：提供包括包含被捕获的氢的电铸金属体的单件部件17。 电铸金属体的外表面19仅包括预定的深度E，相对于电铸金属体的其余部分而言，被捕获的氢的消耗导致硬化，以便提高一体成分17的耐磨性，同时 保持小于10的相对导磁率μ和插入或压配合的能力。选择图：图4
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公开(公告)号：JP5823038B2
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：JP2014520643
申请日：2012-07-17
Applicant: ザ・スウォッチ・グループ・リサーチ・アンド・ディベロップメント・リミテッド
Inventor： リシャール,ダヴィド , ブルバン,ステュース
CPC classification number: G04B13/02 , B81C99/0095 , G04B1/14 , G04B1/145 , G04B13/022 , G04B15/14 , G04B31/004 , B81B2201/035
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190.发明专利
公开(公告)号：JP5313150B2
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：JP2009535685
申请日：2007-11-01
Applicant: イーティーエー エスエー マニュファクチュア ホルロゲア スイス
Inventor： マルミー、フィリップ , ヘルファー、ジェーンルック , コヌス、スィエリー
CPC classification number: B81C99/0095 , B81B2201/035 , B81C2201/019 , B81C2201/056 , B81C2203/038 , B81C2203/051 , G04B31/004 , G04D3/0069 , Y10T29/49579
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