公开(公告)号：JP6329879B2

公开(公告)日：2018-05-23

申请号：JP2014221362

申请日：2014-10-30

Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社

Inventor： 岡田 英昭 ,  堀越 秀春

IPC: C03B11/00 ,  C03B20/00 ,  C03B11/08

CPC classification number: Y02P40/57

公开(公告)号：JP4470054B2

公开(公告)日：2010-06-02

申请号：JP2003208904

申请日：2003-08-26

Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社 ,  東ソー株式会社

Inventor： 秀春 堀越

IPC: C03B8/04 ,  C03C4/08 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B19/1461 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

公开(公告)号：JP2010018470A

公开(公告)日：2010-01-28

申请号：JP2008179536

申请日：2008-07-09

Applicant: Tohos Sgm Kk ,  Tosoh Corp ,  東ソ−・エスジ−エム株式会社 ,  東ソー株式会社

Inventor： ARAI KAZUYOSHI ,  TAKAHATA TSUTOMU ,  HASHIMOTO SHINKICHI ,  YAMADA SHUSUKE ,  HARADA YOSHINORI ,  UCHIDA MASAHITO ,  HORIKOSHI HIDEHARU

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06

CPC classification number: Y02P40/57

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To inexpensively provide molten quartz glass suitably usable for various kinds of optical material utilizing ultraviolet light, visible light and infrared light, a member for manufacturing a semiconductor, a member for manufacturing a liquid crystal and a member for manufacturing a micro electro mechanical system (MEMS). SOLUTION: The molten quartz glass contains ≤5 ppm OH group, 12.0 Pa s coefficient of viscosity at 1215°C and expresses 1×10 -10 cm 2 /sec or less diffusion coefficient of Cu ion at 20-100 μm depth from the surface in the thermal diffusion of Cu ion in the atmosphere. The molten quartz glass is obtained by forming raw material silica powder into cristobalite and melting in a non-reducing atmosphere. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：为了廉价地提供适用于利用紫外光，可见光和红外光的各种光学材料的熔融石英玻璃，用于制造半导体的部件，用于制造液晶的部件和用于 制造微机电系统（MEMS）。

解决方案：熔融石英玻璃含有≤5ppm的OH基，Li，Na，K，Mg，Ca和Cu各自为0.1ppm，Li和Na总计为≤0.05ppm，内部透射率为≥95％ 对于245nm波长的紫外线的厚度为10mm，优选含有≤3ppm的Al，在1215℃下具有≥10SSP的粘度系数，并表示1×10 -10 在大气中Cu离子的热扩散中，距离表面20-100μm处的Cu离子的扩散系数 2 / SP /秒。 熔融石英玻璃通过将原料二氧化硅粉末形成方英石并在非还原气氛中熔融而获得。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4166456B2

公开(公告)日：2008-10-15

申请号：JP2001308420

申请日：2001-10-04

Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社 ,  東ソー株式会社

Inventor： 秀春 堀越

IPC: C03C4/08 ,  C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  G02B1/00 ,  G03F1/60

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/36 ,  Y02P40/57

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide synthetic quartz glass for vacuum UV light which has excellent durability to irradiation with vacuum UV light, a method for manufacturing the same, and a mask substrate for the vacuum UV light using the same. SOLUTION: The synthetic quartz glass for the vacuum UV light characterized in that the internal transmittance to the vacuum UV light of a wavelength 157 nm is >=50% per 1 cm and the ratio of lowering of the internal transmittance is shots of the vacuum UV light of the wavelength 157 nm at an energy density of 0.1 mJ/cm , and the method for manufacturing the same and the mask substrate for the vacuum UV light using the same are used.

公开(公告)号：JP3834114B2

公开(公告)日：2006-10-18

申请号：JP32477396

申请日：1996-11-20

Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社 ,  東ソー・クォーツ株式会社

Inventor： 義尚 伊原 ,  直良 神杉 ,  伸 葛生

IPC: C03B20/00 ,  G01N31/00 ,  C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G01N21/59 ,  H01S3/034

CPC classification number: C03C4/0071 ,  C03B19/1423 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40

公开(公告)号：JP2005179071A

公开(公告)日：2005-07-07

申请号：JP2003417501

申请日：2003-12-16

Applicant: Tohos Sgm Kk ,  Tosoh Corp ,  Univ Of Fukui ,  国立大学法人福井大学 ,  東ソ−・エスジ−エム株式会社 ,  東ソー株式会社

Inventor： KOTO SEITARO ,  KUZUU SHIN ,  HORIKOSHI HIDEHARU ,  WAKAMATSU HIDETOSHI ,  IZUHARA TOSHITAKA ,  SEIGETSU HISANORI

IPC: C03B19/06

CPC classification number: C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing high-quality silica glass which contains neither bubbles nor foreign substances and have high homogeneity with a lesser distribution of OH groups etc., to a shape approximate to that of a final product.
SOLUTION: The method for manufacturing the silica glass comprises heating and vitrifying a porous or powder molded article of silica by irradiating the powder molded article with the continuous or impulsive electromagnetic waves of millimeters or submillimeters in wavelength generated from a gyrotron or magnetron etc.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种制造高质量二氧化硅玻璃的方法，其既不含气泡，也不含异物，并且具有较高均匀性，OH基等分布较小，其形状接近于最终产品 。 解决方案：制造石英玻璃的方法包括通过用从陀螺仪或磁控管等产生的波长的毫米或亚毫米的连续或脉冲电磁波照射粉末模制品来加热和玻璃化多孔或粉末状二氧化硅制品 （C）2005，JPO＆NCIPI

公开(公告)号：JP2005067913A

公开(公告)日：2005-03-17

申请号：JP2003208904

申请日：2003-08-26

Applicant: Tohos Sgm Kk ,  Tosoh Corp ,  東ソ−・エスジ−エム株式会社 ,  東ソー株式会社

Inventor： HORIKOSHI HIDEHARU

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03C4/08

CPC classification number: C03B19/1461 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide synthetic quartz glass having excellent resistance to radiation and UV irradiation, a method for manufacturing the same, and an optical base material for vacuum ultraviolet rays using the same. SOLUTION: In the synthetic quartz glass for vacuum ultraviolet rays synthesized by a soot method, the content of OH groups is 2-50 ppm, the content of F is 500-2,000 ppm, the content of Si-H bonds is ≤1×10 17 pieces/cm 3 , the concentrations of oxygen deficiency type defects and oxygen excess type defects are each ≤1×10 16 pieces/cm 3 , the internal transmittance at a wavelength of 163 nm is ≥60% per 1 cm, and the change in absorption coefficient at a wavelength of 215 nm is ≤0.001 cm -1 when 1×10 6 shots of ArF excimer laser having an energy density of 10 mj/cm 2 are made incident, so that the synthetic quartz glass exhibiting stability to radiation and UV irradiation is obtained. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Abstract translation: 要解决的问题：提供具有优异的耐辐射和紫外线照射的合成石英玻璃及其制造方法，以及使用该石英玻璃的真空紫外线的光学基材。 解决方案：在通过烟灰法合成的真空紫外线合成石英玻璃中，OH基的含量为2-50ppm，F的含量为500-2,000ppm，Si-H键的含量≤ 1×10 17 个/ cm 3 / SP>，缺氧型缺氧和氧过剩型缺陷的浓度分别为≤1×10 16 / cm 3 / SP>，波长163nm的内部透射率为1cm时≥60％，波长215nm处的吸收系数的变化为≤0.001cm -1 < / SP>当入射具有能量密度为10mj / cm 2 / SP>的ArF准分子激光器的1×10 6 时，使得合成石英玻璃表现出稳定 获得辐射和紫外线照射。 版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

公开(公告)号：JP3519426B2

公开(公告)日：2004-04-12

申请号：JP9395193

申请日：1993-03-30

Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社 ,  東ソー・クォーツ株式会社

Inventor： 野 健 一 久 ,  生 伸 葛

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  G03F1/60 ,  G03F1/14

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B19/1423 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36

公开(公告)号：JP6908237B2

公开(公告)日：2021-07-21

申请号：JP2017033349

申请日：2017-02-24

Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社 ,  国立大学法人福井大学

Inventor： 堀越 秀春 ,  葛生 伸

IPC: C03C3/06 ,  C03C23/00

公开(公告)号：JP2021024750A

公开(公告)日：2021-02-22

申请号：JP2019141698

申请日：2019-07-31

Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社

Inventor： 岡田 英昭 ,  堀越 秀春

IPC: C03B20/00

Abstract: 【課題】2枚の透明石英ガラス板の間に充填したシリカ粉末を溶融することで、所望の性能を有する、大型や円形やリング形状の多層構造石英ガラス材を調製する方法の提供。 【解決手段】(1)第1及び第2の透明石英ガラス板を対向する面が所定間隔で略平行になるようにスペーサーを介して支持した仮組材を形成し、(2)仮組材の外周縁に、原料粉末投入部を有するシール材を配置し、仮組材及びシール材を下型及び上型で挟み込んで、原料粉末充填用の鋳型を形成し、(3)シール材の原料粉末投入部が略上方に位置し、傾斜させた鋳型内の仮組材の第1及び第2の透明石英ガラス板との間の空間に、鋳型に振動を与えつつ不透明層用の原料粉末を充填して、2枚のガラス板の間に原料粉末層を有する多層構造体を調製し、(4)仮組材から取り出した多層構造体を加熱して原料粉末を溶融させ、その後に冷却して多層構造石英ガラス材を得る、多層構造石英ガラス材の製造方法。 【選択図】図6