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公开(公告)号:CN101980979B
公开(公告)日:2014-04-09
申请号:CN200980111529.8
申请日:2009-03-24
Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
CPC classification number: C03B11/086 , C03B19/101 , C03B2215/03 , C03B2215/11 , C03B2215/12 , C03B2215/16 , C03B2215/20 , C03B2215/22 , C03B2215/32 , C03B2215/34
Abstract: 一种用来接受滴下的熔融玻璃滴的下模。在基材上形成覆盖层,在基材和覆盖层之间形成中间层,在覆盖层的表面上实施使算术平均粗糙度(Ra)增加的粗面化处理。粗面化处理后的覆盖层表面的算术平均粗糙度(Ra)在0.01μm以上,且粗糙度曲线要素的平均长(RSm)在0.5μm以下。
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公开(公告)号:CN101377564B
公开(公告)日:2014-01-29
申请号:CN200810214448.8
申请日:2008-08-26
Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
Inventor: 佐野永悟
CPC classification number: G02B13/004 , G02B9/34 , G02B13/22
Abstract: 本发明涉及的摄像镜头是用来使被摄物体成像于固体摄像元件光电变换部的摄像镜头,由从物体侧起依次为孔径光圈、具有正折射力的第1透镜、具有负折射力且凹面向着像侧的第2透镜、至少1面为非球面的第3透镜、至少1面为非球面的第4透镜构成,其中,所述第2透镜像侧面的曲率半径以及所述第3透镜的折射力满足所定的条件式。
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公开(公告)号:CN102362143B
公开(公告)日:2013-11-13
申请号:CN201080012975.6
申请日:2010-02-15
Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
Inventor: 藤本章弘
Abstract: 对工件(W)的表面形状进行测定的形状测定装置(100)具备:探测器(3);对探测器(3)进行轴支承的探测器支承轴(25);以及被安装探测器支承轴(25),使探测器(3)与工件(W)表面的测定位置接触,并且使工件(W)与探测器(3)相对移动的探测器驱动装置(2)。在工件(W)表面的形状测定中,使探测器(3)的切割面(32)与工件(W)表面的和包含测定位置的面相交叉的面对置,并且使球体(31)的表面与工件(W)的测定值接触来进行测定。
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公开(公告)号:CN101959811B
公开(公告)日:2013-09-04
申请号:CN200980107261.0
申请日:2009-02-18
Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
Abstract: 本发明涉及熔融玻璃滴微小化部件、玻璃凝块制造方法、玻璃成型体制造方法,以及玻璃微小滴制造方法微小化部件的贯通孔的内周面具有:直径向着熔融玻璃滴进入的进口展开、接受熔融玻璃滴的圆锥部;直径略一定的冲突到所述圆锥部的熔融玻璃滴穿过的笔直部。圆锥部中与熔融玻璃滴接触的区域如下:(a)由圆锥开角不同的多个区域构成,越接近笔直部的区域圆锥开角越小;(b)随接近笔直部而圆锥开角连续性减小。
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公开(公告)号:CN101661148B
公开(公告)日:2013-07-17
申请号:CN200910167478.2
申请日:2009-08-25
Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
CPC classification number: G02B9/10 , G02B13/0085
Abstract: 本发明涉及采用了适合于大量生产的晶片规模透镜光学系统的摄像镜头、采用了摄像镜头的摄像装置及便携终端。本发明涉及的摄像镜头包括具有正折射力的第1透镜块、具有正或负折射力的第2透镜块。所述第1透镜块备有为平行平板的第1透镜基板、其物体侧的面及像侧的面上分别形成的第1a透镜部及第1b透镜部,所述第1a、1b透镜部与所述第1透镜基板的折射率和阿贝数中的至少一个不同。所述第2透镜块备有为平行平板的第2透镜基板、其物体侧的面及像侧的面上分别形成的第2a透镜部及第2b透镜部,所述第2a、2b透镜部与所述第2透镜基板的折射率和阿贝数中的至少一个不同。
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公开(公告)号:CN101925640B
公开(公告)日:2013-06-12
申请号:CN200880125695.9
申请日:2008-10-15
Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
IPC: C08J5/18 , C08L1/10 , C08L33/12 , C08L101/12 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: C08J5/18 , C08J2333/08 , C08L1/10 , C08L1/14 , C08L33/08 , C08L101/00 , C08L2205/03 , G02B5/305 , Y10T428/10 , Y10T428/261 , Y10T428/31855 , C08L2666/26 , C08L2666/02
Abstract: 本发明的目的在于提供一种透明、为高耐热性且显著改善了脆性的含有丙烯酸类树脂的膜。另外,还提供一种液晶显示装置,所述液晶显示装置改善了偏振片的冲孔操作或面板贴合时等的操作中的成品率,降低依赖视角而发生的色移。利用如下所述的含有丙烯酸类树脂的膜、使用有该薄膜的偏振片和液晶显示装置可实现本发明的目的,所述含有丙烯酸类树脂的膜的特征在于,满足下述式(1)~(4),且张力软化点为105~145℃、光弹性系数为-5.0×10-8cm2/N~8.0×10-8cm2/N、不发生延展性破坏。式(1):|Ro(589)|≤10式(2):|Rth(589)|≤20式(3):|Ro(480)-Ro(630)|≤5式(4):|Rth(480)-Rth(630)|≤10()内的数值589、480、630分别表示测定双折射的光的波长(nm)。
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公开(公告)号:CN101622542B
公开(公告)日:2013-06-12
申请号:CN200880006451.9
申请日:2008-02-21
Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
CPC classification number: B01L3/502707 , B01J2219/00511 , B01J2219/00527 , B01J2219/00596 , B01J2219/00605 , B01J2219/0061 , B01J2219/00621 , B01J2219/00637 , B01L2200/0689 , B01L2300/0816 , B01L2300/0887 , B29C65/08 , B29C65/16 , B29C65/1654 , B29C65/48 , B29C66/0224 , B29C66/345 , B29C66/54 , B29C66/71 , B29C66/72324 , B29C66/81267 , B29C66/8322 , B29C66/91411 , B29C66/919 , B29C2793/00 , B29L2031/756 , B81B2201/051 , B81C1/00071 , B81C2203/032 , Y10S156/93 , Y10T156/1168 , B29K2083/00 , B29K2077/00 , B29K2069/00 , B29K2067/003 , B29K2033/20 , B29K2033/12 , B29K2031/04 , B29K2027/08 , B29K2027/06 , B29K2025/06 , B29K2023/12 , B29K2023/083 , B29K2023/06 , B29K2009/00
Abstract: 本发明提供一种微芯片的制造方法,可以在流路中形成功能性膜,并且可以将树脂制的微芯片基板彼此接合起来。该制造方法包括:在表面形成有流路槽(11)的微芯片基板(10)、和在表面形成有流路槽(21)的微芯片基板(20)各自的形成有流路槽(11、21)的面上,形成作为功能性膜的SiO2膜(12、22)的第一工序;利用粘接部件剥离除了形成在微芯片基板(10、20)的流路槽(11、21)中的SiO2膜以外的SiO2膜的第二工序;以及将形成有流路槽(11、21)的面置于内侧并重叠微芯片基板(10、20),通过激光熔接、超声波熔接、或热压接来将基板彼此接合起来的第三工序。
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公开(公告)号:CN101848872B
公开(公告)日:2013-06-05
申请号:CN200880114916.2
申请日:2008-10-22
Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
CPC classification number: C03B11/082 , C03B11/086 , C03B2215/12 , C03B2215/16 , C03B2215/32 , C03B2215/34 , C03B2215/412 , G02B3/00
Abstract: 本发明提供一种下模的制造方法,该下模用于接受由上方滴下的熔融玻璃滴,其特征在于,具有:在基材上成膜覆盖层的成膜工序,所述覆盖层含有阻止层及形成于该阻止层上的表面层;和通过蚀刻将所述覆盖层的表面粗面化的粗面化工序;表面层比阻止层的粗面化工序时的蚀刻速率大,据此,能够不缩小下模材料的可选择范围而良好地防止发生空气积存,并且耐久性优良。
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公开(公告)号:CN101970198B
公开(公告)日:2013-05-29
申请号:CN200980109174.9
申请日:2009-02-26
Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
Inventor: 原明子
CPC classification number: G02B3/0031 , B29C33/3878 , B29D11/00307 , B29D11/00365 , G02B1/041 , C08L83/04 , C08L23/18
Abstract: 本发明为了提供可以降低制造成本,且脱模性优异、可以容易地制造的晶片透镜的制造方法,形成为具有以下工序的晶片透镜的制造方法:形成具有多个对应光学部件的光学面形状的正形状的成型面的母模成型模的工序;进行所述母模成型模的成型面的表面改性的工序;在所述母模成型模的成型面上涂布具有可水解的官能团在末端键合的结构的脱模剂的工序;通过第2固化性树脂将具有多个对应母模成型模的光学面形状的负形状的成型面的副母模成型部进行成型的工序;用副母模基板内衬副母模成型部,形成副母模成型模的工序;在副母模成型模和基板之间填充所述第1固化性树脂使其固化、成型光学部件的工序。
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公开(公告)号:CN102016677B
公开(公告)日:2013-05-08
申请号:CN200980115665.4
申请日:2009-06-10
Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
Abstract: 本发明提供一种成像光学系统,其可以不使IR阻断涂层与透镜的密合性出现问题地设置IR阻断部件。本发明的成像光学系统为介由间隔件(40、50)对玻璃基板上形成了固化性树脂制的透镜部的多个成像用透镜(10、20、30)层叠了的系统,其特征在于,在相互相邻的成像用透镜(10、20)间,透镜部(13、22)之间存在呈凹状的部位,在配置于该部位的间隔件(40)上形成IR阻断涂层。
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