光掩模及其制造方法
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1821868A

    公开(公告)日:2006-08-23

    申请号:CN200610008641.7

    申请日:2006-02-20

    CPC classification number: G21K1/062 B82Y10/00 B82Y40/00 G03F1/24 G21K2201/067

    Abstract: 一种光掩模及其方法。在示例方法中,该光掩模可以通过以下步骤制造:在表面上形成氧化物层;构图所述氧化物层以形成氧化物图案,所述氧化物图案包括多个氧化物图案主体和多个氧化物窗口;用吸收剂填充所述多个氧化物窗口以形成吸收剂图案;以及减少所述多个氧化物图案主体。示例的光掩模可以包括基于氧化物图案的吸收剂图案,其包括多个吸收剂图案主体和多个吸收剂图案窗口。

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