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公开(公告)号：CN107655833A
公开(公告)日：2018-02-02
申请号：CN201710853728.2
申请日：2017-09-20
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明涉及一种低导热率非导体材料高温半球发射率测量方法与系统。该方法利用材料常温、高温、法向、半球发射率的关系，通过测量常温半球发射率、常温法向发射率及高温法向发射率，导出材料高温半球发射率。测量系统包括常温半球发射率测量装置、常温法向发射率测量装置及高温法向发射率测量装置。本发明通过间接测量的方式，得出高温半球发射率，实现了低导热率非导体材料高温半球发射率测量途径，测量过程科学，结果准确可靠。
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公开(公告)号：CN106767160A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611068607.9
申请日：2016-11-29
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: F41G3/32
CPC classification number: F41G3/32
Abstract: 本发明涉及一种射频/光学波束合成器，包括由基板和镀层组成的方形单元结构，基板采用光学材料，基板正面镀有镀层，镀层采用高反射率金属，镀层上有周期性重复的镂空图形。上述波束合成器在光学材料表面镀制FSS平面，保证表面质量、确保光学信号的高反射率，同时可以使射频信号由FSS表面透射，避免偏振态的改变。
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公开(公告)号：CN106444055A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201611068610.0
申请日：2016-11-29
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
CPC classification number: G02B27/10 , H01Q15/0046
Abstract: 本发明涉及一种射频/光学波束合成器的设计方法，包括步骤：确定设计指标；从数据库中调用设计参数，结合光学信号反射传输理论和射频透射传输理论，确定射频/光学波束合成器的初步设计结果；利用光学信号和射频信号仿真方法进行仿真；当仿真结果符合预期结果时，将初步设计结果作为最终结果。本申请将光学仿真与射频仿真有机结合，提出基于光学材料的射频/光学波束合成器设计方法。根据本方法得到的合成器，在光学材料表面镀制FSS平面，保证表面质量，确保光学信号的高反射率，同时可以使射频信号由FSS表面透射，避免偏振态的改变。
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公开(公告)号：CN103175677B
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201310065833.1
申请日：2013-03-04
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明涉及紫外光参数校准技术领域，具体的讲是一种紫外多参数校准装置，旋转平台内置于所述真空仓内，单色仪与真空仓相连接，紫外探测器通过单色仪测量真空仓内的紫外光源的辐射，或者紫外光源通过单色仪向真空仓提供紫外光源的辐射；标准紫外光源，待校准光源，标准紫外探测器，待校准探测器，紫外成像器和紫外成像参数校准系统均置于所述旋转平台之上，所述旋转平台根据控制信号沿着所述旋转平台的圆心旋转，其中，所述紫外成像器和紫外成像参数校准系统处于同一光路。通过上述实施例，能够在一个共用校准装置上实现紫外光源光谱辐射度校准、紫外探测器光谱响应度和紫外成像器参数的校准，节省了试验成本，提高了试验效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102998089B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201210478716.3
申请日：2012-11-23
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种极远紫外探测器校准装置，包括光源、汇聚摆镜单元、紫外单色仪单元、探测器单元和压力差分单元。其中，汇聚摆镜单元包括一汇聚摆镜，其包括摆镜和旋转位移平台，摆镜为两块非反射面贴合的凹面反射镜，其反射镜中心轴线重合，其中一块反射镜的反射面A镀30nm～200nm反射膜，另一块反射镜的反射面B镀60nm～200nm反射膜。探测器单元包括标准探测器和待测探测器。利用本发明可以实现在30nm～200nm范围内探测器相对光谱响应度校准。本发明提供的整个装置体积小巧，接口丰富，在极紫外和远紫外辐射度校准和消除高级次光谱上有独特的设计，提高了极紫外和远紫外辐射校准的精度。
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公开(公告)号：CN102998088B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201210478703.6
申请日：2012-11-23
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种极远紫外光源校准装置，包括光源、汇聚摆镜单元、紫外单色仪单元、探测器单元和压力差分单元。其中，汇聚摆镜单元包括一汇聚摆镜，其包括摆镜和旋转位移平台，摆镜为两块非反射面贴合的凹面反射镜，其反射镜中心轴线重合，其中一块反射镜的反射面A镀30nm～200nm反射膜，另一块反射镜的反射面B镀60nm～200nm反射膜。利用本发明可以实现30nm～200nm范围内光源光谱辐射参数校准。本发明提供的整个装置体积小巧，接口丰富，在极紫外和远紫外辐射度校准和消除高级次光谱上有独特的设计，提高了极紫外和远紫外辐射校准的精度。
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公开(公告)号：CN102928343B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201210458688.9
申请日：2012-11-15
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01N21/00
Abstract: 本发明提供了一种高温材料发射率测量方法和系统，其中所述系统包括大功率辐射源、扩束整形均束装置、真空仓、样品测试平台、旋转反射镜、显微成像装置、光谱切换装置、辐射能量成像测量装置、温度测量装置。本发明通过在被测样品上加工出黑体空腔，并用成像方法对被测材料表面和黑体空腔的辐射能量同时测量，采用窄带滤光片进行光谱选择，不仅能够保证被测材料和标准参考样品测量的同时性，也能够保证样品和参考源的完全等温，能够显著减少发射率测量的误差来源，提高测量准确度和测试的便利程度，有利于本发明的工程化应用。
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公开(公告)号：CN102998089A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201210478716.3
申请日：2012-11-23
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种极远紫外探测器校准装置，包括光源、汇聚摆镜单元、紫外单色仪单元、探测器单元和压力差分单元。其中，汇聚摆镜单元包括一汇聚摆镜，其包括摆镜和旋转位移平台，摆镜为两块非反射面贴合的凹面反射镜，其反射镜中心轴线重合，其中一块反射镜的反射面A镀30nm～200nm反射膜，另一块反射镜的反射面B镀60nm～200nm反射膜。探测器单元包括标准探测器和待测探测器。利用本发明可以实现在30nm～200nm范围内探测器相对光谱响应度校准。本发明提供的整个装置体积小巧，接口丰富，在极紫外和远紫外辐射度校准和消除高级次光谱上有独特的设计，提高了极紫外和远紫外辐射校准的精度。
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公开(公告)号：CN102928343A
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN201210458688.9
申请日：2012-11-15
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01N21/00
Abstract: 本发明提供了一种高温材料发射率测量方法和系统，其中所述系统包括大功率辐射源、扩束整形均束装置、真空仓、样品测试平台、旋转反射镜、显微成像装置、光谱切换装置、辐射能量成像测量装置、温度测量装置。本发明通过在被测样品上加工出黑体空腔，并用成像方法对被测材料表面和黑体空腔的辐射能量同时测量，采用窄带滤光片进行光谱选择，不仅能够保证被测材料和标准参考样品测量的同时性，也能够保证样品和参考源的完全等温，能够显著减少发射率测量的误差来源，提高测量准确度和测试的便利程度，有利于本发明的工程化应用。
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