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公开(公告)号：CN103677012B
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：CN201310629300.1
申请日：2013-11-28
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G05D23/24
Abstract: 本发明公开了一种提高真空面源黑体均匀性的精细划分控制系统，本系统包括温度控制仪表、温度传感器、信号调理电路、面源黑体辐射源；所述面源黑体辐射源设有N个区域，每一区域设置一加热片，所述信号调理电路为一分N信号调理电路；所述信号调理电路的电压信号输入端与所述温度控制仪表的电压信号输出端连接，其每一电压信号输出端口分别经一程控电源与一所述加热片连接；所述温度传感器设于所述面源黑体辐射源上，并通过数据线与所述温度控制仪表的信号输入端连接。本系统具有均匀性好、稳定速度快，而且结构简单、成本低。
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公开(公告)号：CN103175677A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201310065833.1
申请日：2013-03-04
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明涉及紫外光参数校准技术领域，具体的讲是一种紫外多参数校准装置，旋转平台内置于所述真空仓内，单色仪与真空仓相连接，紫外探测器通过单色仪测量真空仓内的紫外光源的辐射，或者紫外光源通过单色仪向真空仓提供紫外光源的辐射；标准紫外光源，待校准光源，标准紫外探测器，待校准探测器，紫外成像器和紫外成像参数校准系统均置于所述旋转平台之上，所述旋转平台根据控制信号沿着所述旋转平台的圆心旋转，其中，所述紫外成像器和紫外成像参数校准系统处于同一光路。通过上述实施例，能够在一个共用校准装置上实现紫外光源光谱辐射度校准、紫外探测器光谱响应度和紫外成像器参数的校准，节省了试验成本，提高了试验效率。
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公开(公告)号：CN108204888B
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201611176118.5
申请日：2016-12-19
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01M11/00
Abstract: 本发明提供了一种仿真用红外动态场景模拟器现场校准装置，包括红外镜头、可旋转的滤光片轮、红外辐射校准黑体、红外FPA成像组件、帧频测量组件、控制单元。利用本发明可以现场快速测量动态场景模拟器的光谱范围、帧频、辐射温度、对比度、非均匀性、畸变、视场角等参数。综上，在该套装置上可实现对动态场景模拟器不同参数的现场校准，能够方便地全面评估动态场景模拟器的性能，解决一直以来存在的红外动态场景模拟器校准的规范性、系统性难题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103175677B
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201310065833.1
申请日：2013-03-04
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明涉及紫外光参数校准技术领域，具体的讲是一种紫外多参数校准装置，旋转平台内置于所述真空仓内，单色仪与真空仓相连接，紫外探测器通过单色仪测量真空仓内的紫外光源的辐射，或者紫外光源通过单色仪向真空仓提供紫外光源的辐射；标准紫外光源，待校准光源，标准紫外探测器，待校准探测器，紫外成像器和紫外成像参数校准系统均置于所述旋转平台之上，所述旋转平台根据控制信号沿着所述旋转平台的圆心旋转，其中，所述紫外成像器和紫外成像参数校准系统处于同一光路。通过上述实施例，能够在一个共用校准装置上实现紫外光源光谱辐射度校准、紫外探测器光谱响应度和紫外成像器参数的校准，节省了试验成本，提高了试验效率。
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公开(公告)号：CN102998089B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201210478716.3
申请日：2012-11-23
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种极远紫外探测器校准装置，包括光源、汇聚摆镜单元、紫外单色仪单元、探测器单元和压力差分单元。其中，汇聚摆镜单元包括一汇聚摆镜，其包括摆镜和旋转位移平台，摆镜为两块非反射面贴合的凹面反射镜，其反射镜中心轴线重合，其中一块反射镜的反射面A镀30nm～200nm反射膜，另一块反射镜的反射面B镀60nm～200nm反射膜。探测器单元包括标准探测器和待测探测器。利用本发明可以实现在30nm～200nm范围内探测器相对光谱响应度校准。本发明提供的整个装置体积小巧，接口丰富，在极紫外和远紫外辐射度校准和消除高级次光谱上有独特的设计，提高了极紫外和远紫外辐射校准的精度。
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公开(公告)号：CN102928343B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201210458688.9
申请日：2012-11-15
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01N21/00
Abstract: 本发明提供了一种高温材料发射率测量方法和系统，其中所述系统包括大功率辐射源、扩束整形均束装置、真空仓、样品测试平台、旋转反射镜、显微成像装置、光谱切换装置、辐射能量成像测量装置、温度测量装置。本发明通过在被测样品上加工出黑体空腔，并用成像方法对被测材料表面和黑体空腔的辐射能量同时测量，采用窄带滤光片进行光谱选择，不仅能够保证被测材料和标准参考样品测量的同时性，也能够保证样品和参考源的完全等温，能够显著减少发射率测量的误差来源，提高测量准确度和测试的便利程度，有利于本发明的工程化应用。
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公开(公告)号：CN102998089A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201210478716.3
申请日：2012-11-23
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种极远紫外探测器校准装置，包括光源、汇聚摆镜单元、紫外单色仪单元、探测器单元和压力差分单元。其中，汇聚摆镜单元包括一汇聚摆镜，其包括摆镜和旋转位移平台，摆镜为两块非反射面贴合的凹面反射镜，其反射镜中心轴线重合，其中一块反射镜的反射面A镀30nm～200nm反射膜，另一块反射镜的反射面B镀60nm～200nm反射膜。探测器单元包括标准探测器和待测探测器。利用本发明可以实现在30nm～200nm范围内探测器相对光谱响应度校准。本发明提供的整个装置体积小巧，接口丰富，在极紫外和远紫外辐射度校准和消除高级次光谱上有独特的设计，提高了极紫外和远紫外辐射校准的精度。
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公开(公告)号：CN102928343A
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN201210458688.9
申请日：2012-11-15
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01N21/00
Abstract: 本发明提供了一种高温材料发射率测量方法和系统，其中所述系统包括大功率辐射源、扩束整形均束装置、真空仓、样品测试平台、旋转反射镜、显微成像装置、光谱切换装置、辐射能量成像测量装置、温度测量装置。本发明通过在被测样品上加工出黑体空腔，并用成像方法对被测材料表面和黑体空腔的辐射能量同时测量，采用窄带滤光片进行光谱选择，不仅能够保证被测材料和标准参考样品测量的同时性，也能够保证样品和参考源的完全等温，能够显著减少发射率测量的误差来源，提高测量准确度和测试的便利程度，有利于本发明的工程化应用。
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