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公开(公告)号：CN107820577B
公开(公告)日：2022-02-15
申请号：CN201680035728.5
申请日：2016-06-17
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Abstract: 所公开的是一种光学系统(200)，其包括：第一光学控制回路(233a)，其配置为调节第一光学元件(124)相对于第一模块传感器框架(208a)的位置和/或对准；以及第一模块控制回路(216a)，其配置为调节第一模块传感器框架(208a)相对于主传感器框架(204)的位置和/或对准；和/或第二光学控制回路(233b)，其配置为调节第二光学元件(126)相对于第二模块传感器框架(208b)的位置和/或对准；以及第二模块控制回路(216b)，其配置为调节第二模块传感器框架(208b)相对于主传感器框架(204)的位置和/或对准。
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公开(公告)号：CN107820577A
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：CN201680035728.5
申请日：2016-06-17
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70825 , G02B7/1828 , G03F7/70241 , G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70316 , G03F7/70833 , G03F2007/2067
Abstract: 所公开的是一种光学系统(200)，其包括：第一光学控制回路(233a)，其配置为调节第一光学元件(124)相对于第一模块传感器框架(208a)的位置和/或对准；以及第一模块控制回路(216a)，其配置为调节第一模块传感器框架(208a)相对于主传感器框架(204)的位置和/或对准；和/或第二光学控制回路(233b)，其配置为调节第二光学元件(126)相对于第二模块传感器框架(208b)的位置和/或对准；以及第二模块控制回路(216b)，其配置为调节第二模块传感器框架(208b)相对于主传感器框架(204)的位置和/或对准。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103229248B
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201180056893.6
申请日：2011-09-13
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G21K1/06
CPC classification number: G02B5/0891 , B82Y10/00 , G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061
Abstract: 本发明涉及一种包含基底(S)和层布置的反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)，其中将所述层布置设计为使得以至少在0°和30°之间的入射角入射于反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)上的、波长小于250nm的光(32)的强度被反射超过20%，以及所述层布置包含至少一个表面层系(P’’’)，其由单独层的至少两个周期(P3)的周期序列构成，其中所述周期(P3)包含由不同材料构成的两个单独层，该不同材料用于高折射率层(H’’’)和低折射率层(L’’’)，其中所述层布置包含至少一个由石墨烯构成的层(G、SPL、B)。此外，本发明涉及在光学元件上使用石墨烯(G、SPL、B)，用于将表面粗糙度降低至少于0.1nm rms HSFR，和/或用于保护EUV波长范围内的光学元件不遭受辐射导致的不可逆的体积变化大于1%，及/或作为阻挡层，用于在EUV波长范围中防止所谓的多层反射镜的层之间的相互扩散。
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公开(公告)号：CN102686972B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN200980162499.3
申请日：2009-09-18
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G01B11/2441 , G01B9/02027 , G01B9/02039 , G01B9/02057 , G01B9/02072 , G01B2290/15 , G01M11/005 , G01M11/025 , G01M11/0271 , G02B3/02 , G02B5/10
Abstract: 提供一种测量测试物体（12）的光学表面（14）的形状的方法。该方法包括以下步骤：提供产生测量波（18）的干涉测量装置（16），在不同测量位置处相对于彼此连贯地布置该干涉测量装置（16）和测试物体（12），从而由该测量波（18）照明该光学表面（14）的不同区域（20），在该不同测量位置，测量该测量装置（16）关于该测试物体（12）的位置坐标，通过在每个测量位置处使用测量装置（16）干涉地测量该测量波（18）在与该光学表面（14）的各个区域（20）相互作用之后的波前而获得表面区域测量，通过基于该干涉测量装置（16）在每个测量位置处所测量的位置坐标计算地组合子表面测量而确定该光学表面（14）的实际形状。
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公开(公告)号：CN103069342A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201180039014.9
申请日：2011-06-15
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： R.弗赖曼
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G01N21/9515 , G01T1/16 , G01T1/2006 , G03F7/70591 , G03F7/70666 , G03F7/7085
Abstract: 一种用于利用光刻掩模(16)所产生的辐射分布(24)的局部解析测量的方法，包括提供辐射转换器(31,131)，其具有至少二维布置的转换器元件(32,132)，所述转换器元件可分别被置于活动状态和非活动状态，并在活动状态中转换入射辐射的波长。此方法还包括：操纵辐射转换器(31,131)数次，使得分别仅部分的转换器元件(32,132)处于活动状态；在辐射转换器(31,131)的每次操纵后，利用辐射分布(24)照射辐射转换器(31,131)，使得活动的转换器元件(32,132)发射波长转换的测量辐射(34)；在辐射分布(24)的每次照射时，记录测量辐射的各自原点位置(54)。此外，从以多次不同照射步骤记录的原点位置，确定光刻掩模(16)所产生的辐射分布(24)。
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公开(公告)号：CN102686972A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN200980162499.3
申请日：2009-09-18
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G01B11/2441 , G01B9/02027 , G01B9/02039 , G01B9/02057 , G01B9/02072 , G01B2290/15 , G01M11/005 , G01M11/025 , G01M11/0271 , G02B3/02 , G02B5/10
Abstract: 提供一种测量测试物体（12）的光学表面（14）的形状的方法。该方法包括以下步骤：提供产生测量波（18）的干涉测量装置（16），在不同测量位置处相对于彼此连贯地布置该干涉测量装置（16）和测试物体（12），从而由该测量波（18）照明该光学表面（14）的不同区域（20），在该不同测量位置，测量该测量装置（16）关于该测试物体（12）的位置坐标，通过在每个测量位置处使用测量装置（16）干涉地测量该测量波（18）在与该光学表面（14）的各个区域（20）相互作用之后的波前而获得表面区域测量，通过基于该干涉测量装置（16）在每个测量位置处所测量的位置坐标计算地组合子表面测量而确定该光学表面（14）的实际形状。
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公开(公告)号：CN102648402A
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN201080053976.5
申请日：2010-09-08
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70833 , G01B9/02027 , G01B9/0209 , G01B11/2441 , G01B2290/15 , G03F7/70233 , G03F7/70258
Abstract: 本发明关于一种光学系统，尤其是在微光刻投射曝光设备中的系统，其包含第一光学组件（110，210，910）、第二光学组件（120，220，920）、以及用于确定第一光学组件和第二光学组件在六个自由度上的相对位置的测量布置，其中测量布置用于确定第一光学组件及第二光学组件在六个不同长度测量区段（131-136;231-236）的相对位置，其中所述长度测量区段（131-136;231-236）直接延伸于第一光学组件（110，210，910）及第二光学组件之间（120，220，920）。
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