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公开(公告)号：CN115398344A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202180024578.9
申请日：2021-02-08
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Abstract: 一种光学系统(200)包括至少一个反射镜(210)以及至少一个致动器装置(220)，该反射镜(210)具有反射镜主体(212)和反射镜表面(214)，该至少一个致动器装置(220)耦合到反射镜主体(212)且用于使反射镜表面(214)变形。致动器装置(220)包括：至少一个电致伸缩致动器元件(222)，用于在反射镜主体(212)中生成用于取决于电驱动电压(VS)使反射镜表面(214)变形的机械应力；至少一个电致伸缩传感器元件(224)，用于取决于传感器元件(224)的变形输出传感器信号(SS)，其中至少一个传感器元件(224)布置成直接相邻于致动器元件(222)，和/或布置成使得至少一个传感器元件(224)至少部分地配置用于将致动器元件(222)生成的机械应力转移到反射镜主体(212)。
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公开(公告)号：CN112204471A
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN201980034620.8
申请日：2019-04-30
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Abstract: 本发明涉及一种特别是在微光刻的光学系统中基于频率确定部件的位置的测量组件，其包括至少一个光学谐振器，所述谐振器包括固定的第一谐振器反射镜、与所述部件相关联的可移动测量目标、和固定的第二谐振器反射镜，所述第二谐振器反射镜由逆向反射镜(130、330、430、530)形成，所述逆向反射镜使来自所述测量目标的测量束反射回其本身。
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公开(公告)号：CN112204471B
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN201980034620.8
申请日：2019-04-30
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F7/20 , G01B9/02 , G01B9/02001 , G01B9/02017 , G01B9/02018 , G01B9/02003 , G01B11/14 , G01B11/00
Abstract: 本发明涉及一种特别是在微光刻的光学系统中基于频率确定部件的位置的测量组件，其包括至少一个光学谐振器，所述谐振器包括固定的第一谐振器反射镜、与所述部件相关联的可移动测量目标、和固定的第二谐振器反射镜，所述第二谐振器反射镜由逆向反射镜(130、330、430、530)形成，所述逆向反射镜使来自所述测量目标的测量束反射回其本身。
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公开(公告)号：CN108713168B
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN201780016341.X
申请日：2017-02-22
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种制造EUV系统的照明系统的方法，该方法包括以下步骤：将照明系统的反射镜模块安装在提供给反射镜模块的安装位置处，以便确立从源位置引导到照明场的照明束路径，其中该反射镜模块包括第一安装位置处具有第一分面反射镜的第一反射镜模块和照明系统的第二安装位置处具有第二分面反射镜的第二反射镜模块；在照明束路径的第一反射镜模块之前的输入耦合位置处将测量光耦合到照明束路径中；在测量光在照明束路径的反射镜模块中的每一个处反射之后，检测测量光；从检测的测量光来确定至少一个系统测量变量的实际测量值，其中实际测量值表示照明系统的系统测量变量的实际状态；通过使用灵敏度从实际测量值来确定校正值，该灵敏度表示系统测量变量和至少一个反射镜模块在其安装位置的情形的变化之间的关系；通过使用校正值调整至少一个反射镜模块，致使改变刚性主体的自由度上安装位置中的反射镜模块的情形，以便于改变实际状态使得在辐射进EUV辐射源的EUV辐射的情况下，照明场中的照明辐射满足照明规范。
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公开(公告)号：CN115023868A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202180011899.5
申请日：2021-01-19
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Abstract: 一种用于激光器模块(20、21)的频率控制的控制系统(19、29、33、58)，包括用于生成激光辐射的至少一个激光器模块(20、21)、耦合或可耦合到激光器模块(20、21)的至少一个控制装置(1)，以及耦合或可耦合到控制装置(1)的至少一个光学谐振器(16、23、34)，其中，控制装置(1)包括半导体基板(2)，实施在半导体基板(2)上的第一庞德‑德雷弗‑霍尔系统(3、4、22)和实施在半导体基板(2)上的至少一个第二庞德‑德雷弗‑霍尔系统(3、4、22)，其中激光器模块(20、21)耦合到控制装置(1)的第一庞德‑德雷弗‑霍尔系统(3、4、22)并且可耦合到控制装置(1)的至少第二庞德‑德雷弗‑霍尔系统(3、4、22)，其中第一庞德‑德雷弗‑霍尔系统(3、4、22)耦合到光学谐振器(16、23、34)并且其中第二庞德‑德雷弗‑霍尔系统(3、4、22)可耦合到光学谐振器(16、23、34)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108713168A
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201780016341.X
申请日：2017-02-22
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F7/70033 , G03F7/70075 , G03F7/702 , G03F7/7085
Abstract: 本发明涉及一种制造EUV系统的照明系统的方法，该方法包括以下步骤：将照明系统的反射镜模块安装在提供给反射镜模块的安装位置处，以便确立从源位置引导到照明场的照明束路径，其中该反射镜模块包括第一安装位置处具有第一分面反射镜的第一反射镜模块和照明系统的第二安装位置处具有第二分面反射镜的第二反射镜模块；在照明束路径的第一反射镜模块之前的输入耦合位置处将测量光耦合到照明束路径中；在测量光在照明束路径的反射镜模块中的每一个处反射之后，检测测量光；从检测的测量光来确定至少一个系统测量变量的实际测量值，其中实际测量值表示照明系统的系统测量变量的实际状态；通过使用灵敏度从实际测量值来确定校正值，该灵敏度表示系统测量变量和至少一个反射镜模块在其安装位置的情形的变化之间的关系；通过使用校正值调整至少一个反射镜模块，致使改变刚性主体的自由度上安装位置中的反射镜模块的情形，以便于改变实际状态使得在辐射进EUV辐射源的EUV辐射的情况下，照明场中的照明辐射满足照明规范。
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公开(公告)号：CN102686972B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN200980162499.3
申请日：2009-09-18
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G01B11/2441 , G01B9/02027 , G01B9/02039 , G01B9/02057 , G01B9/02072 , G01B2290/15 , G01M11/005 , G01M11/025 , G01M11/0271 , G02B3/02 , G02B5/10
Abstract: 提供一种测量测试物体（12）的光学表面（14）的形状的方法。该方法包括以下步骤：提供产生测量波（18）的干涉测量装置（16），在不同测量位置处相对于彼此连贯地布置该干涉测量装置（16）和测试物体（12），从而由该测量波（18）照明该光学表面（14）的不同区域（20），在该不同测量位置，测量该测量装置（16）关于该测试物体（12）的位置坐标，通过在每个测量位置处使用测量装置（16）干涉地测量该测量波（18）在与该光学表面（14）的各个区域（20）相互作用之后的波前而获得表面区域测量，通过基于该干涉测量装置（16）在每个测量位置处所测量的位置坐标计算地组合子表面测量而确定该光学表面（14）的实际形状。
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公开(公告)号：CN102686972A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN200980162499.3
申请日：2009-09-18
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G01B11/2441 , G01B9/02027 , G01B9/02039 , G01B9/02057 , G01B9/02072 , G01B2290/15 , G01M11/005 , G01M11/025 , G01M11/0271 , G02B3/02 , G02B5/10
Abstract: 提供一种测量测试物体（12）的光学表面（14）的形状的方法。该方法包括以下步骤：提供产生测量波（18）的干涉测量装置（16），在不同测量位置处相对于彼此连贯地布置该干涉测量装置（16）和测试物体（12），从而由该测量波（18）照明该光学表面（14）的不同区域（20），在该不同测量位置，测量该测量装置（16）关于该测试物体（12）的位置坐标，通过在每个测量位置处使用测量装置（16）干涉地测量该测量波（18）在与该光学表面（14）的各个区域（20）相互作用之后的波前而获得表面区域测量，通过基于该干涉测量装置（16）在每个测量位置处所测量的位置坐标计算地组合子表面测量而确定该光学表面（14）的实际形状。
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公开(公告)号：CN112585537B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN201980045268.8
申请日：2019-07-09
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Abstract: 本发明有关于一种用以产生用于投射曝光装置(1)的反射光学元件的方法，其中该反射光学元件包含具有基板表面(31)、保护层(38)和适合用于EUV波长范围的层部分系统(39)的基板(30)，所述方法包含以下方法步骤：a)测量基板表面(31)，b)在多个电子(36)的协助下照射基板(30)，c)对基板(30)进行回火。此外，本发明有关于一种用于EUV波长范围的反射光学元件。另外，本发明有关于一种投射镜头，其包含作为反射光学元件的反射镜(18、19、20)，并且本发明有关于一种包含投射镜头的投射曝光装置(1)。
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公开(公告)号：CN115461978A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202180031191.6
申请日：2021-04-23
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Abstract: 一种用于驱动电容致动器(200)的驱动装置(100)，电容致动器(200)用于致动光学系统(300)的光学元件(310)，该驱动装置(100)包括：用于施加驱动电压(U DC)到致动器(200)的驱动单元(110)，用于设定从动的致动器(200)的特定位置，其中驱动单元(110)和致动器(200)经由第一节点(K1)耦联；由激励信号(s(t))控制并耦联到第一节点(K1)的源(120)，用于将时间相关的AC电流信号(I(t))馈送到第一节点(K1)中，使得由于驱动电压(UDC)和与AC电流信号(I(t))和致动器(200)的阻抗(Z)的乘积对应的AC电压的叠加而在致动器(200)处产生特定AC电压；滤波器单元(130)，连接到致动器(200)的输出且用于对致动器(200)的输出信号(A)进行滤波；以及确定单元(140)，耦联到滤波器单元(130)的输出端并配置为取决于经滤波的输出信号(r(t))确定致动器(200)的阻抗行为(IV)，并在其输出端输出用于驱动源(120)的激励信号(s(t))。
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