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公开(公告)号：CN101345189A
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200810210380.6
申请日：2008-07-11
CPC classification number: H01L21/67086 , H01L21/6708
Abstract: 本发明涉及基板的清洗方法和清洗装置。本发明提供一种不损伤基板上的微细图形、效率高的基板的清洗方法。该方法是一种通过批量式浸渍处理方式进行的基板(6)的清洗方法，具备：将单片或多片基板(6)作为一批，将一批基板(6)浸渍在湿刻蚀液中的工序；超声波清洗工序；和干燥工序，其中超声波清洗工序中，使用在大气压下溶解气体的饱和度为60％～100％的清洗水，超声波的频率为500kHz以上，超声波的输出功率为0.02W/cm2～0.5W/cm2。
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公开(公告)号：CN101061261A
公开(公告)日：2007-10-24
申请号：CN200580039376.2
申请日：2005-09-14
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: C25D1/22 , C25B1/28 , B08B3/08 , H01L21/304
CPC classification number: C25B1/28 , B08B3/08 , B08B3/14 , C02F2103/346 , H01L21/67057
Abstract: 在使用过硫酸的清洗系统中，过硫酸浓度足够高、可提高清洗效果，同时得到可持续清洗的清洗系统。本发明提供向清洗装置供给过硫酸的供给装置。其具备：电解反应池(10)：通过电解反应由溶液中所含的硫酸离子生成过硫酸离子，再生过硫酸溶液；循环线路(4)、(5)、(6)：使过硫酸溶液在清洗池(1)和电解反应池(10)之间循环。通过该构成可得到供给装置。通过上述构成以及以过硫酸溶液(2)作为清洗液清洗被清洗材料(30)的清洗池(1)构建清洗系统。
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公开(公告)号：CN101031787A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200580029100.6
申请日：2005-08-12
Applicant: 栗田工业株式会社
Inventor： 森田博志
IPC: G01N7/14
CPC classification number: C02F1/20 , B01D5/0054 , B01D19/0031 , C02F1/008 , C02F2103/04 , G01N7/10
Abstract: 本发明涉及一边实施将被检液通入根据气体透过膜(2)分离的液相室(3)，将气相室(4)的冷凝液排出的操作，一边测定与液相保持平衡状态的气相的真空度的液体中的溶解气体浓度的测定方法；在密封容器(1)的内部设置气体透过膜(2)，分隔为液相室(3)和气相室(4)，将被检液导入液相室(3)中，在气相室(4)中设置压力计(8)和冷凝液排出管(7)，通过压力计(8)，测定气相室(3)的真空度的溶解气体浓度的测定装置；按照与供给经脱氧处理的超纯水和氮气的气体溶解装置的供水配管或氮气溶解水排出管连接的方式设置上述测定装置，对应于溶解气体浓度，调节氮气供给量的氮气溶解水的制造装置。可从整体上将在流路中流动的液体中的溶解气体浓度作为饱和度的总值，长期稳定地测定。另外，可稳定地制造氮气溶解水。
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公开(公告)号：CN1938829A
公开(公告)日：2007-03-28
申请号：CN200580010034.8
申请日：2005-03-18
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: H01L21/304 , C02F1/02 , C02F1/32 , C02F1/34 , C02F1/36 , C02F1/70 , H01L21/027
CPC classification number: C02F1/78 , B08B3/08 , B08B2203/005 , C01B13/10 , C02F1/02 , C02F1/32 , C02F1/34 , C02F1/36 , C02F1/70 , C02F1/722 , C02F2201/782 , C02F2209/23 , C03C23/0075
Abstract: 一种臭氧水供给方法，其特征在于将具有臭氧分解抑制物质的臭氧水转送到使用点(7)，在使用点附近，通过浓度调整机构，将该水的浓度降低到规定的臭氧浓度。一种臭氧水供给装置，其特征在于该臭氧水供给装置包括臭氧溶解装置(4)，其将臭氧气体溶解于纯水中，调制臭氧水；将臭氧分解抑制物质供给到上述纯水或上述臭氧水中的机构；臭氧水转送配管(6)，该臭氧水转送配管将通过上述臭氧溶解装置调制的臭氧水转送到使用点；浓度调整机构(8)，该浓度调整机构设置于使用点附近，将通过臭氧水转送配管转送的臭氧水降低到规定的臭氧浓度。通过本装置，可在半导体、液晶等的电子材料的湿式清洗工序、表面处理工序等中，稳定地将规定的臭氧浓度的臭氧水供向使用点。
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公开(公告)号：CN111183118A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201880065236.X
申请日：2018-09-12
Applicant: 栗田工业株式会社
Abstract: 在向铂系催化剂填充管柱(21～25)中通入含过氧化氢的水并分解去除过氧化氢的方法及装置中，通过在规定时间内停止对一部分管柱的通水，并将该管柱内的铂系催化剂保存在超纯水中，而使过氧化氢去除性能恢复。在该规定时间内，可向已停止该通水的管柱中流入氮气或氢溶解水，也可增加向其它管柱中的通水量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104995722B
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201380057522.9
申请日：2013-10-10
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: H01L21/304 , B08B3/08
CPC classification number: H01L21/02052 , C02F1/20 , C02F1/78 , C02F2103/346
Abstract: 制造出溶存臭氧气体浓度高，而且氧气在使用场所中的气泡化被抑制的臭氧气体溶解水。使用所制造出的臭氧气体溶解水，回避因气泡所引起的洗净不均匀或机器破损的故障而有效率地洗净电子材料。在将臭氧气体及氧气的混合气体和脱气处理水供给至臭氧溶解部使该混合气体溶解于该供水而制造出臭氧气体溶解水时，对供给至臭氧溶解部的混合气体量进行控制，以使在假设混合气体中的臭氧全部分解为氧时的该混合气体中的氧气量和供水中的溶存氧气量的合计，成为所获得的臭氧气体溶解水的使用条件下的氧气的饱和溶解度以下。
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公开(公告)号：CN101031787B
公开(公告)日：2013-05-22
申请号：CN200580029100.6
申请日：2005-08-12
Applicant: 栗田工业株式会社
Inventor： 森田博志
IPC: G01N7/14
CPC classification number: C02F1/20 , B01D5/0054 , B01D19/0031 , C02F1/008 , C02F2103/04 , G01N7/10
Abstract: 本发明涉及一边实施将被检液通入根据气体透过膜(2)分离的液相室(3)，将气相室(4)的冷凝液排出的操作，一边测定与液相保持平衡状态的气相的真空度的液体中的溶解气体浓度的测定方法；在密封容器(1)的内部设置气体透过膜(2)，分隔为液相室(3)和气相室(4)，将被检液导入液相室(3)中，在气相室(4)中设置压力计(8)和冷凝液排出管(7)，通过压力计(8)，测定气相室(3)的真空度的溶解气体浓度的测定装置；按照与供给经脱氧处理的超纯水和氮气的气体溶解装置的供水配管或氮气溶解水排出管连接的方式设置上述测定装置，对应于溶解气体浓度，调节氮气供给量的氮气溶解水的制造装置。可从整体上将在流路中流动的液体中的溶解气体浓度作为饱和度的总值，长期稳定地测定。另外，可稳定地制造氮气溶解水。
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公开(公告)号：CN102129957A
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN201010609161.2
申请日：2010-12-23
Applicant: 栗田工业株式会社
CPC classification number: H01L21/0206 , H01L21/02052 , H01L21/67051
Abstract: 本发明通过由气体溶解水进行的高压喷射清洗或二流体清洗得到高清洗效果，从而提供一种低成本且节省资源的清洗方法。本发明的清洗方法，是从清洗流体喷嘴向被清洗物喷出清洗液或清洗液与气体的混合流体，从而清洗该被清洗物的高压喷射清洗或二流体清洗方法，其特征在于，导入该清洗流体喷嘴的清洗液，含有在该清洗液的液温下的饱和溶解度以上的溶解气体。
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公开(公告)号：CN101512725A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200780033165.7
申请日：2007-09-05
Applicant: 栗田工业株式会社 , 大日本网屏制造株式会社
IPC: H01L21/027 , G02F1/13 , B08B3/02 , H01L21/304 , B08B3/08 , G11B7/26
CPC classification number: G03F7/423 , H01L21/6708
Abstract: 本发明提供一种能够从基板很好地去除抗蚀剂，并且能够再利用在该抗蚀剂的去除中使用过的处理液的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具有：基板保持装置，其用于保持基板；过硫酸生成装置，其使用硫酸生成过硫酸；混合装置，其对通过所述过硫酸生成装置生成的过硫酸以及与由所述过硫酸生成装置使用的硫酸相比更高温并且更高浓度的硫酸加以混合；以及喷出装置，其将通过所述混合装置混合的过硫酸和硫酸的混合液作为从基板去除抗蚀剂用的处理液，并向保持在所述基板保持装置的基板喷出。
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公开(公告)号：CN100525893C
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN03806191.0
申请日：2003-03-18
Applicant: 栗田工业株式会社
CPC classification number: B01F15/0412 , B01F3/0446 , B01F3/04985 , B01F15/00123 , B01F15/00136 , B01F15/00344 , B01F15/0479 , B01F2201/01 , B01F2215/0036 , B01F2215/0096 , C02F2103/346
Abstract: 一种用于连续溶解的装置包括用于将气体溶解到主液流中的溶解部分，该部分包括：流量计，该流量计测量主液流的流量，并输出通过测量获得的数值的信号；以及用于控制流量的机构，该机构根据从流量计输入的信号来控制气体的供给量。一种用于将气体连续溶解到主液流中的方法，其中，气体量根据主液流流量来进行控制。因为即使在主液流的流量变化时也可以稳定地获得具有恒定浓度的溶液，因此可以无损失地供给用于电子材料的清洗水或表面处理水，该电子材料特别需要精确的清洗表面。
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