数据处理装置和数据处理系统

    公开(公告)号:CN101446930B

    公开(公告)日:2010-09-22

    申请号:CN200810179481.1

    申请日:2008-11-28

    CPC classification number: G06F13/28

    Abstract: 本发明提供一种数据处理装置,设置根据从数据处理部(100)按照其数据处理的每个处理单位输出的请求信号(101)向突发传输请求生成部(200)提供突发传输请求的输出定时的定时生成部(503),该定时生成部根据从输出上述突发传输请求到激活上述请求信号为止的经过时间和由阈值寄存器的设定阈值规定的时间的大小关系,控制突发传输请求(301)的输出定时。在上述经过时间超过由最大阈值规定的时间的情况下,不等待上述请求信号的激活而向上述突发传输请求生成部提供突发传输请求的输出定时。由此,能够在请求信号的发送延迟时,不等待该信号而先向存储装置提供下一次的突发传输请求。能够防止被称为存储装置“缓冲”的总处理能力的降低。

    半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1976036B

    公开(公告)日:2010-08-18

    申请号:CN200610172953.1

    申请日:2006-10-08

    CPC classification number: H01L27/1104 H01L27/11

    Abstract: 本发明的半导体器件能够减少SRAM的存储单元的面积。在SRAM单元的布局图中,采用了在栅极(2a)和栅极(2b)之间设置局部布线(3a)并连接了有源区(1a)和有源区(1b)的结构。由此,就不需要在栅极(2a)和栅极(2b)之间设置触点。因此,能够缩小存储单元区域C的短边方向的尺寸。此外,使栅极(2c)的左端部从栅极(2a)向后退,构成为:在倾斜方向上配置了连接有源区(1b)和栅极(2c)的局部布线(3b)的结构。因此,能够缩小存储单元区域C的长边方向的尺寸。

    多模式高频电路
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1881810B

    公开(公告)日:2010-08-18

    申请号:CN200610085021.3

    申请日:2006-05-30

    Inventor: 冈部宽

    Abstract: 本发明提供一种多模式高频电路。在配置了适合多个通信方式的多收发电路的多模式高频电路中,能够实现可降低电路间的信号干扰的多模式高频电路。在处理作为第1通信方式的W-CDMA的RF发送信号的PA(121)、输出匹配电路(123)、隔离器(115)与处理W-CDMA的RF接收信号的接收电路(150)的最短距离间,及PA(121)与W-CDMA的发送电路(130)的最短距离间配置有作为与W-CDMA电路动作无关的电路的GSM方式的PA(222)、输出匹配电路(223a、223b)。在PA(121)与W-CDMA的级间滤波器(125)的最短距离间配置有作为与W-CDMA电路动作无关的电路的PA(222)。

    半导体集成电路以及液晶显示驱动用半导体集成电路

    公开(公告)号:CN1866348B

    公开(公告)日:2010-08-18

    申请号:CN200610084419.5

    申请日:2006-05-18

    Inventor: 纳富志信

    CPC classification number: G09G3/3688 G09G2310/0289 G09G2330/021

    Abstract: 借助于进一步将一个或二个或多个晶体管串联连接在输出电路中的一对晶体管之间,包括借助于将一对输出晶体管串联连接在一对电源电压端子之间,并输出施加到液晶屏的栅信号发生电路的信号,降低了施加在源与漏之间的电压。同时还提供了电位设定转换元件来准备一对电源电压的中间电位,并在输出晶体管被截止的情况下,将此中间电位施加到截止状态的输出晶体管的基体材料。从而可以实现液晶显示驱动用半导体集成电路。因此,借助于用抗压性低的元件来构造用来输出施加到液晶屏的栅信号发生电路的信号的电路,还能够实现低的制造成本,而无须使用抗压性高的工艺。而且,能够改善输出电路的工作速度,并能够降低其功耗。

    半导体器件制造方法和掩模图案数据生成方法

    公开(公告)号:CN1791836B

    公开(公告)日:2010-08-18

    申请号:CN200480013212.8

    申请日:2004-12-22

    Inventor: 田中稔彦

    CPC classification number: G03F7/70425 G03F7/70441

    Abstract: 一种制造具有沿纵向延伸的第一布线图案以及与第一布线图案形状相同并沿与所述纵向垂直的方向即横向延伸的第二布线图案的半导体器件的方法。该方法包括以下步骤:使用线性偏振照明来根据包括用于形成第一布线图案的掩模图案(16)和用于形成第二布线图案的掩模图案(17)的掩模图案进行曝光的步骤;以及在曝光之后形成具有与掩模图案(16,17)对应的形状的第一布线图案和第二布线图案的步骤,其中,用于形成第一布线图案和第二布线图案的掩模图案(16,17)的形状彼此不同。

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