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公开(公告)号：CN109643642B
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN201780053396.8
申请日：2017-04-03
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/027 , G03F7/30 , G03F7/32 , G03F7/40
Abstract: 调温部C1对向显影喷嘴21供给的显影液的温度进行调节。调温部C2、C3分别对向冲洗喷嘴31以及背部冲洗喷嘴35供给的冲洗液的温度进行调节。调温部C4对向处理喷嘴41供给的处理液的温度进行调节。调温部C2、C3、C4将冲洗液及处理液的温度调节在恒定的范围内。在抗蚀剂膜F1的显影处理后，一边将基板W的温度调节在恒定范围内，一边以覆盖抗蚀剂图案FP1的方式在基板的一面形成具有比抗蚀剂膜的耐蚀刻性高的耐蚀刻性的反转膜F2。
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公开(公告)号：CN108630570B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN201810160960.2
申请日：2018-02-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，具备处理容器、销、密封壳体、密封构件以及排气口。处理容器具有开口。销穿过开口配置在处理容器的内部和处理容器的外部的范围内，且能在销的轴心方向上往复移动。密封壳体配置于处理容器的外部，在开口的周围与处理容器紧密接触，并且，容纳销的一部分。密封构件与密封壳体的内周面紧密接触，并且，以能够与销滑动的方式与销的外周面紧密接触。排气口与密封壳体连通连接。
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公开(公告)号：CN108352313B
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN201680065775.4
申请日：2016-10-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
Abstract: 一边由旋转卡盘保持基板一边旋转基板，向基板喷出涂敷液。从基板向外侧飞散的涂敷液由外杯接收。为了清洗外杯，从杯清洗喷嘴喷出的清洗液通过第一引导部向外杯的内周面喷出。由此，使附着于外杯的涂敷液及其固化物等溶解，并从外杯去除。接着，从杯清洗喷嘴喷出的金属用去除液通过第二引导部向外杯的内周面喷出。由此，使残留于外杯的金属成分溶解，并从外杯去除。
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公开(公告)号：CN109541890B
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN201811072678.5
申请日：2018-09-14
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种曝光装置、基板处理装置、曝光方法以及基板处理方法。通过排气部开始排出处理室内的气体，在从开始排出气体起经过预定的时间后，通过供气部开始向处理室内供给非活性气体。或者，通过排气部排出容纳有基板的处理室内的气体，通过供气部向处理室内供给非活性气体，使具有透光板的投光部内的压力与处理室内的压力一致或者接近。在处理室内的气体中的氧浓度降低至预定的浓度的状态下，通过投光部向处理室内的基板照射真空紫外线，从而使基板曝光。
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公开(公告)号：CN107768277B
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201710704464.4
申请日：2017-08-16
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/027
Abstract: 本发明公开热处理装置、基板处理装置、热处理方法及基板处理方法。在该处理装置的室内容纳有加热板。在该室内存在含溶剂气体的状态下，在加热板的上方位置保持形成有DSA膜的基板。由此，以不产生微相分离的温度对环境气体进行中性化。然后，在该室内存在含溶剂气体的状态下，在加热板的上表面上保持基板。由此，对基板上的DSA膜进行热处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107249760B
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201680012166.2
申请日：2016-02-12
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05D1/40 , B05D3/04 , H01L21/027
Abstract: 利用保持旋转部2使基板W旋转而在基板W上形成涂敷液膜RS，并且利用随着基板W的旋转产生的离心力，将剩余的涂敷液RS的至少一部分推向基板W的周缘部E，使剩余的涂敷液RS沿基板W的周缘部E隆起。之后，利用气体喷嘴4向基板W的周缘部E吹送气体GS，将在周缘部E隆起的剩余的涂敷液RS向基板W外排出。通过利用气体喷嘴4向基板W的周缘部E吹送气体GS，能够破坏涂敷液RS因表面张力不向基板W外排出而积存隆起的均衡状态。因此，利用旋转，既能够形成厚的涂敷液膜RS，又能够使涂敷液膜RS的厚度变得均匀。
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公开(公告)号：CN110297402A
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：CN201910117545.3
申请日：2019-02-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: G03F7/30
Abstract: 本发明涉及一种显影方法。在对衬底供给显影液而进行显影处理后，开始对正在旋转的衬底上的从衬底的中心偏离的位置，从第2冲洗喷嘴喷出表面活性剂冲洗液。该动作是以衬底的中心不在触液区域的方式进行的，所述触液区域是从第2冲洗喷嘴喷出的表面活性剂冲洗液在衬底上最先触液的区域。由此，表面活性剂冲洗液的触液区域的位置被分散，因此抑制在衬底的中心及其附近局部地抗蚀图案的线宽变粗或变细。因此，可改善冲洗处理中的衬底面内的抗蚀图案的线宽均一性。
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公开(公告)号：CN108604536A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201780009122.9
申请日：2017-02-03
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/027
Abstract: 在基板(W)的被处理面上形成有包含金属成分及感光性材料的抗蚀膜之后，由边缘曝光部(41)对基板的周缘部照射光。由此，对基板的周缘部上的抗蚀膜的部分进行曝光。接着，通过由显影液喷嘴(43)对基板的周缘部供给显影液，由此对被曝光后的抗蚀膜的部分进行显影处理。由此，除去在基板的周缘部上形成的抗蚀膜的部分。然后，将基板搬送至曝光装置(15)。通过在曝光装置中对基板进行曝光处理，由此在抗蚀膜上形成曝光图案，接着通过在显影处理单元(139)中对曝光处理后的基板供给显影液，由此进行抗蚀膜的显影处理。
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公开(公告)号：CN108535965A
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：CN201810160995.6
申请日：2018-02-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光装置、基板处理装置、基板的曝光方法及基板处理方法。光源部向作为处理对象的基板的被处理面照射真空紫外线。在光源部向基板照射真空紫外线的照射期间，由照度计接收一部分真空紫外线，并测量接收到的真空紫外线的照度。照度计的受光面位于以在真空紫外线的照射期间的基板的被处理面为基准的恒定高度。基于由照度计测量的照度，计算基板的曝光量。基于计算出的基板的曝光量，使光源部停止向基板照射真空紫外线。
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公开(公告)号：CN108428616A
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：CN201810071450.8
申请日：2018-01-24
Applicant: 株式会社斯库林集团
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0002
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法，在热处理腔室内的热处理空间内对形成有处理膜的基板进行热处理，所述基板处理方法包括排气步骤、非活性气体供给步骤以及热处理步骤，在实施所述排气步骤、所述非活性气体供给步骤之后，实施热处理步骤，在所述排气步骤中，排出由包围热处理板的周围的罩部形成的热处理空间的气体，在所述非活性气体供给步骤中，从上方对所述热处理空间供给非活性气体，并且对所述热处理板的外周面与所述罩部的内周面之间的间隙供给非活性气体，在所述热处理步骤中，对所述热处理空间内的基板进行热处理。
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