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公开(公告)号：CN116472452A
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202180072774.3
申请日：2021-09-10
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置所具有的排除机构(21)：对于基底层中不含测定元素的成分，针对每条相应的测定线，假定该成分单独构成薄膜来计算其附着量，将最大附着量设定为该成分的附着量的初始值；对于基底层中包含测定元素的成分，针对每条相应的测定线，基于基底层中不包含测定元素的每个成分的附着量的初始值来计算其附着量；在所有对应的测定线的计算结果均有误差的情况下，将该成分作为不能定量的成分从分析对象中排除，在除此以外的情况下，将最大的附着量设定为该成分的附着量的初始值。
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公开(公告)号：CN107076687A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201680003309.3
申请日：2016-07-01
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
CPC classification number: G01N23/223 , G01N23/207 , G01N2223/076 , G01N2223/0766
Abstract: 测定线评价机构(23)根据针对薄膜而指定的组成和/或厚度，对于已指定的全部的测定线，通过理论计算而计算出推算测定强度，以规定量改变仅仅一个测定线的推算测定强度，针对每个变化的测定线，通过基本参数法，求出推算测定强度变化后的薄膜的组成和/或厚度的定量值，根据该定量值和已指定的组成和/或厚度，进行定量误差的推算和/或分析的可否的判断。
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公开(公告)号：CN101151524B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN200580049351.0
申请日：2005-12-08
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
CPC classification number: G01N23/223 , G01N2223/076 , G01N2223/305
Abstract: 一种荧光X射线分析装置等，其通过FP法对试样的组分、面积密度进行分析，针对各种试样，可按照简便、并且将几何效果充分符合现实而添加的方式计算理论强度，足够正确地进行定量分析。包括计算机构(10)，该计算机构(10)根据假定的组分，计算从试样(13)的各元素产生的二次X射线(6)的理论强度，按照该理论强度与通过上述检测机构(9)测定的测定强度换算为理论强度值的换算测定强度一致的方式，逐次近似地修正计算假定的组分，计算试样(13)的组分，上述计算机构(10)每当计算理论强度时，将试样(13)的大小与照射到试样表面(13a)的各位置的一次X射线(2)的强度和入射角φ作为参数，针对各光路模拟计算二次X射线(6)的理论强度。
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公开(公告)号：CN112378938B
公开(公告)日：2025-01-17
申请号：CN202011009411.9
申请日：2016-07-01
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
Abstract: 测定线评价机构(23)根据针对薄膜而指定的组成和/或厚度，对于已指定的全部的测定线，通过理论计算而计算出推算测定强度，以规定量改变仅仅一个测定线的推算测定强度，针对每个变化的测定线，通过基本参数法，求出推算测定强度变化后的薄膜的组成和/或厚度的定量值，根据该定量值和已指定的组成和/或厚度，进行定量误差的推算和/或分析的可否的判断。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116472452B
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202180072774.3
申请日：2021-09-10
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置所具有的排除机构(21)：对于基底层中不含测定元素的成分，针对每条相应的测定线，假定该成分单独构成薄膜来计算其附着量，将最大附着量设定为该成分的附着量的初始值；对于基底层中包含测定元素的成分，针对每条相应的测定线，基于基底层中不包含测定元素的每个成分的附着量的初始值来计算其附着量；在所有对应的测定线的计算结果均有误差的情况下，将该成分作为不能定量的成分从分析对象中排除，在除此以外的情况下，将最大的附着量设定为该成分的附着量的初始值。
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公开(公告)号：CN114868013B
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202180007475.1
申请日：2021-09-10
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置包括判定机构(21)和饱和厚度定量机构(23)，该判定机构(21)针对应测定强度的二次X射线的全部的测定线，判定基于已假定的厚度和已知的各成分的含有率而计算的薄膜中的理论强度相对于基于已知的各成分的含有率而计算的块体中的理论强度的比是否超过规定的阈值，该饱和厚度定量机构(23)在通过判定机构(21)针对全部的测定线判定理论强度的比超过规定的阈值的场合，针对各测定线，基于已知的各成分的含有率而计算理论强度饱和的饱和厚度，将最厚的饱和厚度作为厚度的定量值。
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公开(公告)号：CN115038959A
公开(公告)日：2022-09-09
申请号：CN202180007827.3
申请日：2021-04-05
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/2209
Abstract: 本发明提供一种能够简便地确认遮蔽入射到检测器的荧光X射线的一部分的机构是否正常安装的荧光X射线分析装置、判断方法和判断程序。一种荧光X射线分析装置具有：X射线源(104)、索勒狭缝(110)、分光元件(112)和检测器(114)，其特征在于，具有：判断用部件(106)，其包含在照射一次X射线时产生规定能量的荧光X射线的元素；视野限制部(108)，其为可拆卸的构成，限制从试样和所述判断用部件产生的荧光X射线中的入射到所述检测器的荧光X射线；存储部(122)，其在所述视野限制部正常安装的情况下，预先存储所述判断用部件产生的所述规定能量的荧光X射线的强度；以及判断部(120)，其基于所述存储部存储的强度和所述检测器测量的强度，判断所述视野限制部是否正常安装。
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公开(公告)号：CN112378938A
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN202011009411.9
申请日：2016-07-01
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
Abstract: 本发明涉及一种荧光X射线分析装置。测定线评价机构(23)根据针对薄膜而指定的组成和/或厚度，对于已指定的全部的测定线，通过理论计算而计算出推算测定强度，以规定量改变仅仅一个测定线的推算测定强度，针对每个变化的测定线，通过基本参数法，求出推算测定强度变化后的薄膜的组成和/或厚度的定量值，根据该定量值和已指定的组成和/或厚度，进行定量误差的推算和/或分析的可否的判断。
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公开(公告)号：CN107209132B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：CN201680006771.9
申请日：2016-08-26
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/207
CPC classification number: G01N23/223 , G01N23/207 , G01N23/2076 , G01N23/2209 , G01N2223/076
Abstract: 本发明的扫描型的荧光X射线分析装置包括定量分析条件设定机构(13)，该机构根据标准试样(14)的定性分析结果和半定量分析结果，针对预先确定的试样组成元素以外的新检测元素，根据荧光X射线相对分析对象元素的分析值的吸收激励影响度、与干扰线相对分析对象元素的分析线的重叠影响度，判断是否应作为分析对象元素来追加。
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