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公开(公告)号:CN116472452B
公开(公告)日:2023-11-17
申请号:CN202180072774.3
申请日:2021-09-10
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置所具有的排除机构(21):对于基底层中不含测定元素的成分,针对每条相应的测定线,假定该成分单独构成薄膜来计算其附着量,将最大附着量设定为该成分的附着量的初始值;对于基底层中包含测定元素的成分,针对每条相应的测定线,基于基底层中不包含测定元素的每个成分的附着量的初始值来计算其附着量;在所有对应的测定线的计算结果均有误差的情况下,将该成分作为不能定量的成分从分析对象中排除,在除此以外的情况下,将最大的附着量设定为该成分的附着量的初始值。
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公开(公告)号:CN116472452A
公开(公告)日:2023-07-21
申请号:CN202180072774.3
申请日:2021-09-10
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置所具有的排除机构(21):对于基底层中不含测定元素的成分,针对每条相应的测定线,假定该成分单独构成薄膜来计算其附着量,将最大附着量设定为该成分的附着量的初始值;对于基底层中包含测定元素的成分,针对每条相应的测定线,基于基底层中不包含测定元素的每个成分的附着量的初始值来计算其附着量;在所有对应的测定线的计算结果均有误差的情况下,将该成分作为不能定量的成分从分析对象中排除,在除此以外的情况下,将最大的附着量设定为该成分的附着量的初始值。
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