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    電子線装置
    12.
    发明专利
    電子線装置 审中-公开
    电子束设备

    公开(公告)号：JP2016157695A

    公开(公告)日：2016-09-01

    申请号：JP2016055532

    申请日：2016-03-18

    Applicant: 株式会社荏原製作所

    Inventor： 野路 伸治 ,  佐竹 徹 ,  曽布川 拓司 ,  金馬 利文 ,  畠山 雅規 ,  吉川 省二 ,  村上 武司 ,  渡辺 賢治 ,  狩俣 努 ,  末松 健一 ,  田部 豊 ,  田島 涼 ,  遠山 敬一

    IPC: G01N23/225 ,  G01N23/203 ,  H01L21/66 ,  H01J37/244 ,  H01J37/29

    Abstract: 【課題】写像投影式光学系において蛍光像をTDIセンサに伝達するリレー光学系の光信号伝達損失を低減できる電子線検査装置を提供する。 【解決手段】試料表面の情報を得た電子を写像投影式光学系(二次系コラム29・1)でMCP29・2に拡大投影して結像させる。電子はMCPで増倍され、蛍光材で蛍光像に変換され、FOP29・3によってTDIセンサ29・4に伝達される。TDIセンサの像信号は接続ピン29.5、フィードスルーフランジ29・6を経由してTDIカメラ29・7に伝達される。写像投影光学系の静電レンズの電圧を調整して所望の拡大投影倍率を得て、TDIセンサの画素サイズに基づく試料表面上の画素サイズを定める。TDIセンサまでをコラムの真空中に設けたのでFOPを短縮できる。このため光信号の透過率を向上できて信号強度を高くなるので高速動作が可能になる。 【選択図】図29

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种电子束检查装置，其能够减少在投影映射型光学系统中将荧光图像发送到TDI传感器的中继光学系统的光信号传输损耗。解决方案：获得关于样品的信息的电子 表面通过投影映射型光学系统（第二列29-1）放大并投影在MCP 29-2上以形成图像。 电子被MCP放大，通过荧光材料转换为荧光图像，并通过FOP 29-3传输到TDI传感器29-4。 TDI传感器的图像信号通过连接销29.5和场通过法兰29-6传输到TDI相机29-7。 调整投影映射型光学系统的静电透镜的电压以获得期望的放大倍率，并且确定基于TDI传感器的像素尺寸的样品表面上的像素尺寸。 由于即使在真空中提供TDI传感器，也可以减少FOP。 因此，可以提高光信号的透射率，从而提高信号强度，从而可以执行高速操作。图29

    軌道算出プログラム、軌道算出方法、軌道算出装置および記憶媒体
    14.
    发明专利
    軌道算出プログラム、軌道算出方法、軌道算出装置および記憶媒体 审中-公开

    公开(公告)号：JP2021012493A

    公开(公告)日：2021-02-04

    申请号：JP2019125722

    申请日：2019-07-05

    Applicant: 株式会社荏原製作所

    Inventor： 村上 武司

    IPC: H01J37/10 ,  H01J37/147 ,  G16Z99/00

    Abstract: 【課題】荷電粒子の数が多い場合であっても、短時間で荷電粒子の軌道を算出可能な荷電粒子の軌道を算出するための軌道算出プログラム、軌道算出方法及び軌道算出装置並びにそのような軌道算出プログラムを記憶した記憶媒体を提供する。 【解決手段】軌道算出手法において、各節点の電界および/または磁界に関する電磁界情報を取得する第1ステップと、取得された電磁界情報に基づいて1つの荷電粒子の軌道を算出する第2ステップと、複数の荷電粒子の軌道を算出する第3ステップと、を実行させ、第3ステップでは、ある時刻において複数の荷電粒子のそれぞれがいずれの計算格子に含まれるかを、1つの荷電粒子の軌道に基づいて特定することと、特定された計算格子を構成する節点の電磁界情報に基づいて、次の時刻における前記複数の荷電粒子の位置を算出することによって軌道を算出する第4ステップを含む。 【選択図】図4

    ウィーンフィルター
    17.
    发明专利
    ウィーンフィルター 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018010714A

    公开(公告)日：2018-01-18

    申请号：JP2016133540

    申请日：2016-07-05

    Applicant: 株式会社荏原製作所

    Inventor： 村上 武司 ,  岡田 真一

    IPC: H01J37/29 ,  H01J37/05

    Abstract: 【課題】簡便に二方向集束を達成可能なウィーンフィルターを提供する。 【解決手段】二次ビームの光軸を中心に等角度間隔で8個以上配置され、導電材料かつ軟磁性材料からなる電磁極90と、それぞれの電磁極90の周りに巻回されたコイルと、電磁極90の周囲を覆うように配置されるシールド部材91とを備え、電磁極90には、一次ビームが偏向する方向に均一平行電界を二次ビームの光軸近傍に発生させるように印加し、コイルには、一次ビームが偏向する方向に均一平行磁界を二次ビームの光軸近傍に発生させるように、それぞれ異なる電流を印加する。シールド部材91には、斜め上方から一次ビームが入射する第1ビーム孔92と、一次ビームが出射し、二次ビームが入射する第2ビーム孔93と、二次ビームが出射する第3ビーム孔94とが設けられ、第1ビーム孔92の出口面92bは非水平である。 【選択図】図8

    試料観察方法及び試料観察装置
    18.
    发明专利
    試料観察方法及び試料観察装置 审中-公开
    标本观察方法和装置

    公开(公告)号：JP2016189335A

    公开(公告)日：2016-11-04

    申请号：JP2016115096

    申请日：2016-06-09

    Applicant: 株式会社荏原製作所

    Inventor： 畠山 雅規 ,  渡辺 賢治 ,  内藤 儀彦 ,  村上 武司

    IPC: H01J37/28 ,  H01J37/22 ,  H01J37/20 ,  G01N23/203 ,  G01N23/225 ,  H01L21/66 ,  H01J37/29

    Abstract: 【課題】観察目的箇所を迅速かつ正確に特定し得る試料観察方法の提供 【解決手段】本発明の試料観察方法は、写像投影型観察装置と該写像投影型観察装置とは 別のSEM型観察装置と光学顕微鏡により同一のステージ上に載置された試料を観察する ための複合型の試料観察方法である。本発明の試料観察方法では、光学顕微鏡による試料 観察、ミラー電子画像による試料観察、及び、SEM画像による試料観察で得られた各画 像が観察対象試料のどの位置に対応しているのかを相互に対応付けることができる。これ により、上記3つの観察方法のうちのある方法で特定された観察目的個所を他の観察方法 で観察しようとした場合でも、上記観察目的箇所を迅速かつ正確に特定することができる 。 【選択図】図21

    Abstract translation: 要解决的问题：提供能够快速且精确地识别要观察的区域的样本观察方法。解决方案：本发明的样本观察方法是用于观察放置在同一台上的样本的复合样本观察方法 映射投影型检查装置，与映射投影型检查装置分离的SEM型检查装置和光学显微镜。 在本发明的样本观察方法中，要观察的样本的具体位置可以与通过光学显微镜的样本观察获得的图像，通过镜像电子图像的样本观察和通过 SEM图像。 因此，即使通过其他观察方法观察上述三种观察方法中通过一种方法识别的观察区域，也可以快速，准确地识别要观察的区域。图21

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