公开(公告)号：CN101276156B

公开(公告)日：2012-02-29

申请号：CN200810088523.0

申请日：2008-03-27

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 野中纯 ,  李德 ,  小林义则

IPC: G03F7/20 ,  G03B27/32 ,  H05K3/00

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/70275

Abstract: 本发明提供一种曝光绘图装置，搭载着少数光源和多个作为空间光调制组件的DMD组件，确保高的运转率，且可确认此光源的光量。曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射包含紫外线的光；有孔构件(20)，设有用于将光源分离成第一光束和第二光束的第一开口窗(21)及第二开口窗(21)、以及光量检测用的检测窗(29)；第一及第二光学组件(22)，将通过第一开口窗及第二开口窗的第一光束及第二光束分别反射；第一光量传感器(SS11)，配置在第一及第二光学组件的附近，检测出从光源通过检测窗的光量。

公开(公告)号：CN101295141B

公开(公告)日：2011-02-02

申请号：CN200810095335.0

申请日：2008-04-25

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 李德 ,  石川淳

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/00

CPC classification number: G03F7/70791 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70208 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291

Abstract: 本发明提供一种曝光绘图装置，在确保高运转率的同时，以简易的照明光学系统来分离成多个光束。曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射紫外线；照明光学系统(30)，将来自光源的光束形成为平行光；有孔构件(20、120)，被配置于来自照明光学系统的平行光上，具有分离成第一光束和第二光束的第一窗及第二窗；第一导光装置及第二导光装置(37-1～37-8、137-1～137-8)，引导在有孔构件上被分离的平行光的第一光束及第二光束；第一及第二空间光调制装置(41)，将在第一导光装置及第二导光装置中引导的第一光束及第二光束进行空间调制；以及第一及第二投影光学系统(60)，将在这些第一及第二空间光调制装置中进行空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。