公开(公告)号：CN119024646A

公开(公告)日：2024-11-26

申请号：CN202311393436.7

申请日：2023-10-25

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 长谷川祐哉 ,  奥山隆志 ,  小林义则

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供光源装置和曝光装置。不使用透镜阵列，使用密集地配置有多个LED裸片的封装，减小光学系统的尺寸。一种光源装置，其是对涂布于基板的感光材料进行曝光的曝光装置用的光源装置，其中，所述光源装置具有：第一LED阵列光源和第二LED阵列光源，它们发出不同波长的紫外光；棱镜，从第一和第二LED阵列光源发出的发散光入射到该棱镜；均匀化单元，来自棱镜的光入射到该均匀化单元；以及透光区域，其配置在棱镜与均匀化单元之间，该透光区域的折射率小于棱镜的折射率。

公开(公告)号：CN101276156A

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：CN200810088523.0

申请日：2008-03-27

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 野中纯 ,  李德 ,  小林义则

IPC: G03F7/20 ,  G03B27/32 ,  H05K3/00

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/70275

Abstract: 本发明提供一种曝光绘图装置，搭载着少数光源和多个作为空间光调制组件的DMD组件，确保高的运转率，且可确认此光源的光量。曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射包含紫外线的光；有孔构件(20)，设有用于将光源分离成第一光束和第二光束的第一开口窗(21)及第二开口窗(21)、以及光量检测用的检测窗(29)；第一及第二光学组件(22)，将通过第一开口窗及第二开口窗的第一光束及第二光束分别反射；第一光量传感器(SS11)，配置在第一及第二光学组件的附近，检测出从光源通过检测窗的光量。

公开(公告)号：CN119987146A

公开(公告)日：2025-05-13

申请号：CN202410254133.5

申请日：2024-03-06

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 长谷川祐哉 ,  小林义则

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供曝光装置和曝光方法。提供能够迅速应对由偏转等引起的工作台的位置偏移而形成适当的图案的曝光装置。曝光装置(10)具有多个曝光头(20A～20C)，并且具有由一对线性标尺(32A、32B)和一对扫描头(34A、34B)构成的编码器(30)。编码器(30)构成为在曝光动作中在工作台(12)移动的期间检测由偏转等引起的相对于Y方向(副扫描方向)的倾斜。编码器信号校正处理电路(60)根据运算式而输出校正编码器信号，各曝光头的DMD驱动电路根据校正编码器信号而从各存储器读出与曝光位置对应的描绘数据，驱动DMD。

公开(公告)号：CN101276156B

公开(公告)日：2012-02-29

申请号：CN200810088523.0

申请日：2008-03-27

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 野中纯 ,  李德 ,  小林义则

IPC: G03F7/20 ,  G03B27/32 ,  H05K3/00

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/70275

Abstract: 本发明提供一种曝光绘图装置，搭载着少数光源和多个作为空间光调制组件的DMD组件，确保高的运转率，且可确认此光源的光量。曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射包含紫外线的光；有孔构件(20)，设有用于将光源分离成第一光束和第二光束的第一开口窗(21)及第二开口窗(21)、以及光量检测用的检测窗(29)；第一及第二光学组件(22)，将通过第一开口窗及第二开口窗的第一光束及第二光束分别反射；第一光量传感器(SS11)，配置在第一及第二光学组件的附近，检测出从光源通过检测窗的光量。

公开(公告)号：CN101364050A

公开(公告)日：2009-02-11

申请号：CN200810144924.3

申请日：2008-08-07

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 奥山隆志 ,  小林义则

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70508 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/704

Abstract: 本发明涉及一种光刻系统。该光刻系统具有至少一个空间光调制器、构造成使曝光区域相对于目标对象沿扫描方向运动的扫描机构、多个存储器(第1个至第N个存储器)、数据处理器和曝光控制器。该曝光区域限定为所述空间光调制器的投射区域。所述多个存储器与通过划分所述曝光区域而限定的多个局部曝光区域对应。所述数据处理器根据曝光定时在每个存储器中连续地写入曝光数据，所述曝光控制器基于所述曝光区域的相对位置控制所述多个光调制元件。所述数据处理器在第1存储器中写入新生成的曝光数据，并使存储在第1个至第N－1个存储器中的曝光数据分别移位至第2个至第N个存储器。

公开(公告)号：CN101144984A

公开(公告)日：2008-03-19

申请号：CN200710149283.6

申请日：2007-09-11

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 小林义则

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/18 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供以不降低绘制分辨率而扩大带宽的曝光装置，或不会使曝光资料演算处理复杂化而在绘制分辨率高的状态下进行曝光的曝光装置。曝光装置包括DMD、成像光学系统以及绘制部，其中成像光学系统具有投影部，其包括将从在DMD中的开启状态的微型反射镜反射的光所构成的中间投影像聚集在对于主扫描方向xx形成一定倾斜角度θ的第一方向x上的第一方向圆筒状镜片、以及在和第一方向x垂直的第二方向y之间形成一定倾斜角度的副扫描方向yy上分割及聚集光的副扫描方向圆筒状镜片群或在第二方向y上分割及聚集光的第二方向圆筒状镜片群。绘制部在曝光时，由DMD经由成像光学系统、投影像被投影，在主扫描方向xx移动。