公开(公告)号：CN101276156A

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：CN200810088523.0

申请日：2008-03-27

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 野中纯 ,  李德 ,  小林义则

IPC: G03F7/20 ,  G03B27/32 ,  H05K3/00

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/70275

Abstract: 本发明提供一种曝光绘图装置，搭载着少数光源和多个作为空间光调制组件的DMD组件，确保高的运转率，且可确认此光源的光量。曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射包含紫外线的光；有孔构件(20)，设有用于将光源分离成第一光束和第二光束的第一开口窗(21)及第二开口窗(21)、以及光量检测用的检测窗(29)；第一及第二光学组件(22)，将通过第一开口窗及第二开口窗的第一光束及第二光束分别反射；第一光量传感器(SS11)，配置在第一及第二光学组件的附近，检测出从光源通过检测窗的光量。

公开(公告)号：CN101276156B

公开(公告)日：2012-02-29

申请号：CN200810088523.0

申请日：2008-03-27

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 野中纯 ,  李德 ,  小林义则

IPC: G03F7/20 ,  G03B27/32 ,  H05K3/00

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/70275

Abstract: 本发明提供一种曝光绘图装置，搭载着少数光源和多个作为空间光调制组件的DMD组件，确保高的运转率，且可确认此光源的光量。曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射包含紫外线的光；有孔构件(20)，设有用于将光源分离成第一光束和第二光束的第一开口窗(21)及第二开口窗(21)、以及光量检测用的检测窗(29)；第一及第二光学组件(22)，将通过第一开口窗及第二开口窗的第一光束及第二光束分别反射；第一光量传感器(SS11)，配置在第一及第二光学组件的附近，检测出从光源通过检测窗的光量。