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公开(公告)号：CN103403624B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201280010916.4
申请日：2012-03-05
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F9/00 , H01L21/027 , H05K3/00
CPC classification number: G03F9/00 , H05K1/0269 , H05K3/0008 , H05K2201/09918
Abstract: 本发明提供一种对位装置，其在电子电路用的多层印刷基板中能够保持与下层的对位精度，并能整合安装在表面上的电子部件之间的对位。该对位装置具有：存储部（82），其存储对准标记（AM）应当形成在基板（PB）上的设计坐标位置（MC）；测定部（70），其测定转印到基板的对准标记的坐标位置；以及计算部（84），其计算将测定部测定出的对准标记的坐标位置向设计坐标位置移动了预定距离的目标坐标位置（TG）。
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公开(公告)号：CN101276157B
公开(公告)日：2012-03-07
申请号：CN200810088524.5
申请日：2008-03-27
Applicant: 株式会社ORC制作所
CPC classification number: G02B13/143 , G03F7/70208 , G03F7/70283 , G03F7/70291
Abstract: 本发明的课题是提供一种曝光绘图装置，搭载着少数光源和多个空间光调制组件，确保高的运转率，且可进行温度管理。其解决方式为，曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射紫外线；第一照明光学系统(30)，使来自光源的光束形成为平行光；有孔构件(20)，设有用于将来自第一照明光学系统的光束分离成矩形的第一光束和矩形的第二光束的第一矩形窗(21)及第二矩形窗(21)；第一及第二空间光调制装置(41)，将在有孔构件中被分离的第一光束及第二光束进行空间调制；以及投影光学系统(60)，将在这些第一及第二空间光调制装置(41)中被空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。
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公开(公告)号：CN101276157A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200810088524.5
申请日：2008-03-27
Applicant: 株式会社ORC制作所
CPC classification number: G02B13/143 , G03F7/70208 , G03F7/70283 , G03F7/70291
Abstract: 本发明的课题是提供一种曝光绘图装置，搭载着少数光源和多个空间光调制组件，确保高的运转率，且可进行温度管理。其解决方式为，曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射紫外线；第一照明光学系统(30)，使来自光源的光束形成为平行光；有孔构件(20)，设有用于将来自第一照明光学系统的光束分离成矩形的第一光束和矩形的第二光束的第一矩形窗(21)及第二矩形窗(21)；第一及第二空间光调制装置(41)，将在有孔构件中被分离的第一光束及第二光束进行空间调制；以及投影光学系统(60)，将在这些第一及第二空间光调制装置(41)中被空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。
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公开(公告)号：CN103168275B
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201180049634.0
申请日：2011-11-04
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70208 , G03F7/203 , G03F7/70191 , G03F7/70291 , G03F7/7045 , G03F7/70541 , H05K1/0269 , H05K2201/09918 , H05K2201/09936
Abstract: 本发明提供能够一边适当地变更信息数据一边曝光电路图案的曝光装置。该曝光装置具备：第1光源(20)，其放射包含紫外线的第1光；投影曝光单元(70)，其使用第1光，将描绘于光掩膜上的电路图案曝光到基板上；基板工作台(60)，其载置基板；架台(11)，其配置基板工作台；与第1光源不同地配置的第2光源(41)，其放射包含紫外线的第2光；空间光调制单元(40)，其使用第2光，将以电子方式制作的信息数据曝光到基板上；以及空间光调制单元移动部(50)，其配置在壳体(11)上，使空间光调制单元在与基板工作台的移动方向平行的方向上移动。
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公开(公告)号：CN101276156A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200810088523.0
申请日：2008-03-27
Applicant: 株式会社ORC制作所
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70275
Abstract: 本发明提供一种曝光绘图装置，搭载着少数光源和多个作为空间光调制组件的DMD组件，确保高的运转率，且可确认此光源的光量。曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射包含紫外线的光；有孔构件(20)，设有用于将光源分离成第一光束和第二光束的第一开口窗(21)及第二开口窗(21)、以及光量检测用的检测窗(29)；第一及第二光学组件(22)，将通过第一开口窗及第二开口窗的第一光束及第二光束分别反射；第一光量传感器(SS11)，配置在第一及第二光学组件的附近，检测出从光源通过检测窗的光量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103168275A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201180049634.0
申请日：2011-11-04
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70208 , G03F7/203 , G03F7/70191 , G03F7/70291 , G03F7/7045 , G03F7/70541 , H05K1/0269 , H05K2201/09918 , H05K2201/09936
Abstract: 本发明提供能够一边适当地变更信息数据一边曝光电路图案的曝光装置。该曝光装置具备：第1光源(20)，其放射包含紫外线的第1光；投影曝光单元(70)，其使用第1光，将描绘于光掩膜上的电路图案曝光到基板上；基板工作台(60)，其载置基板；架台(11)，其配置基板工作台；与第1光源不同地配置的第2光源(41)，其放射包含紫外线的第2光；空间光调制单元(40)，其使用第2光，将以电子方式制作的信息数据曝光到基板上；以及空间光调制单元移动部(50)，其配置在壳体(11)上，使空间光调制单元在与基板工作台的移动方向平行的方向上移动。
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公开(公告)号：CN101276153B
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：CN200810082393.X
申请日：2008-03-04
Applicant: 株式会社ORC制作所
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70275 , G03F7/70558
Abstract: 本发明提供一种曝光描图装置、确认光源的光量、空间光调变组件的运转状况而调整。曝光描图装置(100)包括一孔洞构件(20)，设有用于将光源(10)分离成第一光束及第二光束的第一开口窗(21)及第二开口窗(21)；第一及第二空间光调变装置(41)，调变第一光束及第二光束；投影光学系(60)，将第一空间光调变装置及第二空间光调变装置所调变的第一光束及第二光束投影至上述被曝光体；第一光量传感器(SS11)，在孔洞构件的附近，检测出光源的光量；第二光量传感器(SS12)，检测出穿透投影光学系的第一光束及第二光束的光量；及判断装置(88)，根据第一光量传感器的第一输出信息及第二光量传感器的第二输出信息而判断从孔洞构件至被曝光体的状况。
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公开(公告)号：CN101295141A
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200810095335.0
申请日：2008-04-25
Applicant: 株式会社ORC制作所
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/7005 , G03F7/70208 , G03F7/70275 , G03F7/70291
Abstract: 本发明提供一种曝光绘图装置，在确保高运转率的同时，以简易的照明光学系统来分离成多个光束。曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射紫外线；照明光学系统(30)，将来自光源的光束形成为平行光；有孔构件(20、120)，被配置于来自照明光学系统的平行光上，具有分离成第一光束和第二光束的第一窗及第二窗；第一导光装置及第二导光装置(37－1～37－8、137－1～137－8)，引导在有孔构件上被分离的平行光的第一光束及第二光束；第一及第二空间光调制装置(41)，将在第一导光装置及第二导光装置中引导的第一光束及第二光束进行空间调制；以及第一及第二投影光学系统(60)，将在这些第一及第二空间光调制装置中进行空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。
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公开(公告)号：CN101276153A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200810082393.X
申请日：2008-03-04
Applicant: 株式会社ORC制作所
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70275 , G03F7/70558
Abstract: 本发明提供一种曝光描图装置、确认光源的光量、空间光调变组件的运转状况而调整。曝光描图装置(100)包括一孔洞构件(20)，设有用于将光源(10)分离成第一光束及第二光束的第一开口窗(21)及第二开口窗(21)；第一及第二空间光调变装置(41)，调变第一光束及第二光束；投影光学系(60)，将第一空间光调变装置及第二空间光调变装置所调变的第一光束及第二光束投影至上述被曝光体；第一光量传感器(SS11)，在孔洞构件的附近，检测出光源的光量；第二光量传感器(SS12)，检测出穿透投影光学系的第一光束及第二光束的光量；及判断装置(88)，根据第一光量传感器的第一输出信息及第二光量传感器的第二输出信息而判断从孔洞构件至被曝光体的状况。
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公开(公告)号：CN103403624A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201280010916.4
申请日：2012-03-05
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F9/00 , H01L21/027 , H05K3/00
CPC classification number: G03F9/00 , H05K1/0269 , H05K3/0008 , H05K2201/09918
Abstract: 本发明提供一种对位装置，其在电子电路用的多层印刷基板中能够保持与下层的对位精度，并能整合安装在表面上的电子部件之间的对位。该对位装置具有：存储部（82），其存储对准标记（AM）应当形成在基板（PB）上的设计坐标位置（MC）；测定部（70），其测定转印到基板的对准标记的坐标位置；以及计算部（84），其计算将测定部测定出的对准标记的坐标位置向设计坐标位置移动了预定距离的目标坐标位置（TG）。
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