公开(公告)号：CN106010322A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201610076790.0

申请日：2016-02-03

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  新见洋人 ,  春日充 ,  铃木千惠 ,  五十嵐智美 ,  木俣绘美子 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09J133/08

CPC classification number: C09J7/20 ,  C09J133/08 ,  C09J2201/60 ,  C09J2205/114

Abstract: 本发明提供一种抗静电表面保护膜，其对被粘物的污染少，且不会经时劣化地具有优异的剥离抗静电性能。所述抗静电表面保护膜(10)的特征在于，在由具有透明性的树脂形成的基材膜(1)的一个面上，依次层叠有不含抗静电剂的粘结剂层(2)、抗静电剂层(3)、经剥离处理的剥离膜(4)。

公开(公告)号：CN105950041A

公开(公告)日：2016-09-21

申请号：CN201610059877.7

申请日：2016-01-28

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 宫坂洋之 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09J101/28

Abstract: 本发明提供一种剥离性优异的离型膜，其剥离力小，即使以贴合于粘合剂层的状态经时间流逝，剥离力也难以变大，且有机硅成分向粘合剂层转移少，不会降低贴合的粘合剂层的粘合力。该剥离性优异的离型膜的特征在于，其为在基材膜(1)的一个面上设有厚度0.4～2μm、含有有机硅类离型剂的离型剂层(4)、在另一个面上设有含有作为微粒(3)的无机微粒及/或聚合物微粒的粘合剂树脂层(2)的离型膜(5)，微粒(3)、粘合剂树脂层(2)及离型剂层(4)满足条件(1)及(2)：(1)微粒(3)的体积基准平均粒径为离型剂层(4)厚度的2倍以上；(2)粘合剂树脂层(2)的厚度在微粒(3)的体积基准平均粒径的25～60％的范围内。

公开(公告)号：CN105524565A

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN201510590071.6

申请日：2015-09-16

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 林益史

IPC: C09J7/02

Abstract: 本发明提供一种粘着片，其牢固地粘接于被粘物，在被粘物不需要时、贴合修正时，可简单地从被粘物上剥离。本发明提供一种各向异性粘着性片，其不受基材、粘着剂的制约且根据剥离方向不同而具有不同的剥离性。一种各向异性粘着性片(10)，其为在基材(1)的至少单面上依次层积具有凹凸结构的截面的树脂层(2)和填埋树脂层(2)的凹凸结构的粘着剂层(3)而成，其树脂层(2)的凹凸结构的图案形状具有各向异性，同时，粘着剂层(3)的表面具有平滑性，算术平均表面粗糙度Ra为5μm以下。

公开(公告)号：CN104745116A

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：CN201510158149.7

申请日：2013-04-28

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  春日充 ,  远藤佳子 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09J133/08 ,  C09J183/04 ,  C09J183/12

Abstract: 本发明提供一种表面保护膜以及贴合其的光学部件。具体地，提供向被粘物的污染少的表面保护膜，没有经时劣化且具有优异的防止剥离带电性能的表面保护膜，以及使用上述表面保护膜的光学部件。在透明基材膜1的一面上形成粘合剂层2、在该粘合剂层2上贴合有剥离膜5的表面保护膜10中，剥离膜5通过在树脂膜3的一面上层压剥离剂层4得到，所述剥离剂层4含有以二甲基聚硅氧烷为主成分的剥离剂和在20℃为液体的硅酮类化合物7。粘合剂层2由共聚或混合含有聚氧化亚烷基团的化合物得到的(甲基)丙烯酸类聚合物形成，并且含有抗静电剂。

公开(公告)号：CN103194152A

公开(公告)日：2013-07-10

申请号：CN201210545119.8

申请日：2012-12-14

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 林益史 ,  千嶋宪治 ,  宫坂洋之

IPC: C09J7/02 ,  C09J183/04 ,  C09J133/00 ,  B32B7/12 ,  G02B1/10

Abstract: 本发明提供一种表面保护膜以及贴合其的光学部件、工业制品。所述表面保护膜为即使被粘物密合层的粘合力降低，在制造表面保护膜的工序中，被粘物密合层与作为用于保护其表面的膜的覆盖膜之间也不发生浮起，具有表面平滑的被粘物密合层，从被粘物剥离时能够轻松地剥离，在制造工序中的使用中紧密密合于被粘物保护被粘物的表面保护膜，且在剥离表面保护膜之后的被粘物表面的污染少。表面保护膜10具有在透明基材1的至少一面上层积由硅酮树脂形成的表面平滑的被粘物密合层2得到的被粘物密合膜5，为了保护被粘物密合层2的表面，将在基材4的一面上形成粘合剂层3的覆盖膜6经由粘合剂层3贴合至被粘物密合层2的表面。

公开(公告)号：CN105368335B

公开(公告)日：2021-03-26

申请号：CN201510349770.1

申请日：2015-06-23

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 客野真人 ,  铃木千惠 ,  冈本理惠 ,  林益史

IPC: C09J7/20 ,  C09J7/25 ,  C09J7/30 ,  C09J133/08 ,  C09J11/06

Abstract: 本发明提供一种透明导电性膜用表面保护膜及使用该表面保护膜的透明导电性膜，该透明导电性膜用表面保护膜的粘接剂层维持表面的平滑性，即使贴合到透明导电性膜上也具有优异的处理性，在透明导电性膜的制造、加工工艺中，起因于表面保护膜的外观缺陷不良被改善，且在触控面板用透明电极制造工艺中生产率良好。一种透明导电性膜用表面保护膜5，其贴合到在一表面上形成有透明导电膜的树脂膜的另一表面使用，在基材膜1的单面上使用含有丙烯酸类树脂组合物、交联剂和交联催化剂的丙烯酸类粘接剂层叠有粘接剂层2，该粘接剂层30℃下的储能模量为4.0×105Pa以上，且干燥开始15分钟后和40℃下老化5天后的粘接剂层对PET膜的粘接力a和b满足关系0.9≤a/b≤2.0。

公开(公告)号：CN106520001B

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN201610557075.9

申请日：2016-07-14

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  新见洋人 ,  铃木千惠 ,  木俣绘美子 ,  林益史

IPC: C09J7/25 ,  C09J7/40 ,  C09J7/30 ,  C09J133/08 ,  C09J11/06 ,  C09D5/20 ,  C08J7/04 ,  C09D183/04 ,  C09D7/63 ,  C08L67/02

Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该保护膜的光学部件，其中，该表面保护膜即使对于表面具有凹凸的光学用膜也可进行贴合，对被粘物的污染少，且在对被粘物的低污染性不会经时变化，具有不会经时劣化的优异的抗剥离静电性能。一种表面保护膜10，其是在由具有透明性的树脂所构成的基材膜1的一个面上形成粘着剂层2，并在粘着剂层2上，经由剥离剂层4贴合了在树脂膜3的一个面上形成剥离剂层4的剥离膜5而成，剥离剂层4含有碱金属盐、含有至少一个以上醚键的酯类增塑剂、硅酮类剥离剂，剥离剂层4中所含的所述碱金属盐成分只存在于粘着剂层2的表面上。

公开(公告)号：CN107225831B

公开(公告)日：2020-07-07

申请号：CN201710062191.8

申请日：2017-01-25

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 宫坂洋之 ,  林益史

IPC: B32B27/36 ,  B32B27/06 ,  B32B33/00 ,  B32B3/08 ,  B32B7/06 ,  C09D183/04 ,  C09D7/61 ,  C08J7/04 ,  C08L67/02

Abstract: 本发明提供一种剥离性优异的脱模膜，其剥离力小，在贴合于粘着剂层的状态下，剥离力也难以经时增大，向粘着剂层的硅酮成分的转移少，因此贴合的粘着剂层的粘着力不降低，且在脱模膜的使用时、及将脱模膜从被粘物上剥离时的带电量少。该脱模膜(5)具有该脱模剂层在基材膜(1)的至少一个面上依次层叠有含有抗静电剂且不含有微粒的第一脱模剂层(2)、含有微粒(3)的第二脱模剂层(4)的两层结构的脱模剂层，其特征在于，所述第一脱模剂层(2)与所述第二脱模剂层(4)的总厚度为0.4～2.0μm，从所述第二脱模剂层(4)的表面到微粒(3)的顶点的突出高度为所述总厚度以上，且两个脱模剂层(2)、(4)包含硅酮类脱模剂。

公开(公告)号：CN106553395B

公开(公告)日：2020-06-05

申请号：CN201610602186.7

申请日：2016-07-27

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 宫坂洋之 ,  林益史

IPC: B32B7/06 ,  B32B27/14 ,  B32B27/36

Abstract: 本发明提供一种剥离性优异的离型膜，其剥离力小，在贴合于粘着剂层上的状态下即使经过长时间剥离力也不易变大，且由于向粘着剂层转移的硅酮成分少，不降低贴合的粘着剂层的粘合力。所述离型膜的特征在于，其为在基材膜(1)的至少一个面上，顺次层叠不含微粒的第一离型剂层(2)、含有作为微粒(3)的无机微粒及/或聚合物微粒的第二离型剂层(4)而成的离型膜(5)，第一离型剂层(2)的厚度和第二离型剂层(4)的厚度相加的总厚度为0.4～2.0μm，从第二离型剂层(4)的表面上突出的微颗粒(3)的到达顶点的平均突出高度在所述总厚度以上，且第二离型剂层(4)含有硅酮类离型剂。

公开(公告)号：CN107083198A

公开(公告)日：2017-08-22

申请号：CN201610888772.2

申请日：2016-10-11

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  春日充 ,  新见洋人 ,  铃木千惠 ,  五十岚智美 ,  木俣绘美子 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09J133/08 ,  C09D183/04 ,  C09D5/24 ,  C09D7/12 ,  G02B5/30

CPC classification number: C09J133/08 ,  C08K5/06 ,  C08K5/3432 ,  C09D5/24 ,  C09D7/63 ,  C09D183/04 ,  C09J7/401 ,  C09J2203/318 ,  C09J2433/00 ,  C09J2467/005 ,  C09J2467/006 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物的污染少、对被粘物的低污染性不会经时变化、具有不会经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，通过在粘着剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)的一面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含有以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、含至少一个以上醚键的酯类增塑剂，抗静电剂成分为熔点30～80℃的离子性化合物，抗静电剂成分与酯类增塑剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物剥离时的剥离静电压。