公开(公告)号：KR101807420B1

公开(公告)日：2017-12-12

申请号：KR1020160113373

申请日：2016-09-02

Applicant: 국방과학연구소

Inventor： 임현자 ,  김선호 ,  김남환 ,  김재경 ,  손정오 ,  김영호

IPC: H01L23/31 ,  H01L21/56 ,  H01L23/00 ,  H01L21/60

CPC classification number: H01L2224/73204 ,  H01L2924/10155

Abstract: 본발명은반도체패키지에관한것으로, 보다상세하게는음각으로홈이파인트렌치가형성된인쇄회로기판또는반도체칩을적용함으로써, 언더필공정시 언더필물질의유입속도를조절하고공기층형성을방지하여보다높은품질및 신뢰성을갖는반도체패키지에관한것이다. 본발명은인쇄회로기판과반도체칩이솔더범프를사이에두고플립칩본딩을이루고, 상기솔더범프에의해형성된본딩갭에언더필물질이충진되는반도체패키지에있어서, 상기인쇄회로기판또는상기반도체칩은상기플립칩본딩이이루어지는면에상기면의가장자리를따라음각으로홈이파인트렌치가형성된것을특징으로한다.

公开(公告)号：KR101725508B1

公开(公告)日：2017-04-11

申请号：KR1020150109035

申请日：2015-07-31

Applicant: 국방과학연구소

Inventor： 구기갑 ,  김현수 ,  김재경

IPC: C06B25/04 ,  B01J2/12 ,  C07C205/24

Abstract: 본발명은 (i) 제1 용매에헥사나이트로스틸벤 (hexanitrostilbene) 입자를용해시켜반응용액을제조하는단계; (ii) 상기반응용액에제2 용매를접촉시켜교반함으로써헥사나이트로스틸벤타입 IV(hexanitrostilbene type IV) 입자를형성하는단계를포함하고, 상기제1 용매는헥사나이트로스틸벤에대하여양용매이고, 상기제2 용매는헥사나이트로스틸벤에대하여비용매이면서상기제1 용매와혼화성인용매이며, 상기단계 (ii)의교반은상기헥사나이트로스틸벤타입 IV 입자의석출시간보다짧은반응시간에걸쳐상기반응용액과상기제2 용매가접촉하면서이루어지도록설정되는헥사나이트로스틸벤타입 IV 입자의제조방법에관한것이다.

Abstract translation: （I）将六硝基二苯乙烯颗粒溶解在第一溶剂中以制备反应溶液; （ii）使反应溶液与第二溶剂接触并搅拌以形成六硝基均二苯代乙烯IV型颗粒，其中第一溶剂是己基亚硝基苯乙烯， 并且第二溶剂是与己腈腈芪不可溶的且与第一溶剂可混溶的溶剂，并且步骤（ii）的搅拌是比六亚硝基苯乙烯IV型粒子的沉淀时间短的反应 并且使第二溶剂在一段时间内与反应溶液接触。

公开(公告)号：KR101714736B1

公开(公告)日：2017-03-09

申请号：KR1020150056602

申请日：2015-04-22

Applicant: 국방과학연구소

Inventor： 이근득 ,  채주승 ,  한상근 ,  구기갑 ,  김재경 ,  심홍민 ,  이세은

IPC: C06B25/34 ,  C06B21/00

Abstract: 본발명은서브마이크론과마이크론크기의구형 RDX(Cyclotrimethylene trinitramine) 입자제조방법에관한것으로서, 더욱상세하게는, 유기용매(solvent)에 RDX를용해시켜 RDX 용액을제조하는단계; 상기 RDX 용액과반용매를혼합하여 RDX 입자를석출하는단계; 및석출된 RDX 입자를수득하는단계;를포함하며, 상기 RDX 용액과반용매를혼합하기전에상기 RDX 용액또는상기반용매에계면활성제를추가하여혼합하는것을특징으로한다. 본발명에의하면, 기존방법에비해높은생산성으로서브마이크론및 마이크론크기의구형 RDX 입자를제조할수 있으며, 이러한구형형상의 RDX 입자는충진밀도상승에따른기폭압력극대화, 매끈한표면으로인하여비교적둔감한 RDX 입자의제조가가능하며, 또한미세입자크기로인해빠른에너지방출속도를보이므로고폭화약및 고체복합추진제(solid composite propellant) 등민수용및 군용조성물로서널리이용될수 있다.

公开(公告)号：KR101700757B1

公开(公告)日：2017-01-31

申请号：KR1020150140548

申请日：2015-10-06

Applicant: 국방과학연구소

Inventor： 이은애 ,  김현수 ,  김재경 ,  구기갑 ,  심홍민

IPC: C06B23/00 ,  C06B27/00

Abstract: 본발명은금속입자가분산된다공성구조의산화제입자조성물및 이의제조방법에관한것이다. 본발명은, 산화제를유기용매에용해시켜산화제용액을제조하는단계, 금속입자를반용매에분산시켜금속입자분산액을제조하는단계, 상기산화제용액및 상기금속입자분산액을혼합한후 교반하여복수의산화제입자들을석출하는단계및 상기석출된산화제입자들에증류수를점적하여상기석출된산화제입자들을가교하는단계를포함하는금속입자가분산된다공성산화제입자조성물의제조방법을제공한다. 본발명에따르면, 금속입자가분산된다공성구조의산화제입자조성물은금속입자가산화제입자에일체형으로완전하게분산됨으로써금속입자와산화제간의불균일혼합으로발생할수 있는반응확산거리를단축시키는효과가있으며, 취급이용이하다.

公开(公告)号：KR100514345B1

公开(公告)日：2005-09-13

申请号：KR1020030027807

申请日：2003-04-30

Applicant: 국방과학연구소

Inventor： 김진석 ,  조진래 ,  이근득 ,  김재경

IPC: C07D303/12

CPC classification number: C08G65/22 ,  C07D303/24 ,  C08G65/2609

Abstract: 본 발명은 고폭 화약의 성능 증대 및 물성 개선을 위하여 사용되는 에너지화 결합제로서 사용될 수 있는 신규한 물질 및 그 제조방법에 관한 것이다. 보다 상세하게, 본 발명은 에너지기로서 니트로기(-NO
2 )를 가지며 니트로기가 결합된 탄소에 결합하는 수소를 갖지 않는 화학식 IV로 표현되는 신규한 화합물 글리시딜 디니트로프로필 포름알(glycidyl dinitropropyl formal), 이를 단량체로 사용하여 중합된 화학식 V로 표현되는 신규한 화합물 폴리(글리시딜 디니트로프로필 포름알) 및 그 제조방법에 관한 것이다.
[화학식 IV]

[화학식 V]