公开(公告)号：KR1020100026985A

公开(公告)日：2010-03-10

申请号：KR1020090072703

申请日：2009-08-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 소마야스타카 ,  야히로슌이치

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/06 ,  B65G13/00 ,  G02F1/13

CPC classification number: H01L21/67706 ,  B65G13/00 ,  B65G39/02 ,  B65G49/061 ,  B65G49/063 ,  G02F1/1303

Abstract: PURPOSE: A device for transferring a substrate is provided to prevent a stain on a process layer from generating by reducing the heat-transfer differences between a transfer roller and the substrate. CONSTITUTION: A transfer roller(50) is supported by a rotary shaft(51) The transfer roller is rotatable to the direction of a substrate transfer. One end(50b) of the transfer roller is connected and fixed to an adjacent roller unit(52). A driving part drives the rotary shaft. The outer surface of the transfer roller is a concavo-convex shape.

Abstract translation: 目的：提供一种用于转移基板的装置，以通过减少转印辊和基板之间的传热差异来防止工艺层上的污染。 构成：转印辊（50）由旋转轴（51）支撑。转印辊可以旋转到基板转印的方向。 转印辊的一端（50b）连接并固定到相邻的辊单元（52）上。 驱动部件驱动旋转轴。 转印辊的外表面是凹凸形状。

公开(公告)号：KR1020040045839A

公开(公告)日：2004-06-02

申请号：KR1020047005593

申请日：2002-10-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 신야히로시 ,  소마야스타카 ,  기타노다카히로

IPC: H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67109

Abstract: 열처리장치는, 표면에 도포막이 형성된 기판(W)을 열처리하기 위해서 사용되고, 기판을 대략 수평으로 유지하는 유지부재(34)와, 이 유지부재에 유지된 기판을 수용하는 챔버(3O)와, 가스투과성을 가지며, 기판에 형성된 도포막을 직접 가열할 수 있도록 챔버내에서 상기 유지부재에 유지된 기판의 위쪽에 배치되는 핫 플레이트(31)와, 챔버의 윗면에 설치되어 상기 챔버의 내부의 배기를 행하는 배기구(33)를 구비하여, 도포막이 핫 플레이트에 의해서 가열되었을 때에 상기 도포막으로부터 발생하는 가스는 핫 플레이트를 투과한 후에 상기 챔버외부로 배출된다. 이 열처리장치에 의하면, 도포막의 균일성이 향상하여, 그 결과, CD 균일성을 향상시킴과 동시에, LER 특성을 개선하여 매끄러운 측면을 가진 패턴측면을 얻는 것이 가능하다.

Abstract translation: 1。一种热处理装置，对具有形成有涂膜的表面的晶片进行热处理，其特征在于，具备：保持部件，其将晶片保持为大致水平状态; 容纳由保持部件保持的晶片的腔室; 一个具有气体渗透性的热板，该热板设置在腔室中由保持部件保持的晶片的上方，从而可以直接加热形成在晶片上的涂层膜; 以及设置在腔室的顶面上并排出腔室中的气体的排气口。 从涂膜产生的气体通过热板并从腔室排出。 因此，涂膜的均匀性得到改善。 结果，可以改善CD的均匀性，可以改善LER特性，并且可以获得平滑的图案侧面。