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公开(公告)号：KR101359751B1
公开(公告)日：2014-02-06
申请号：KR1020090045015
申请日：2009-05-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은, 피처리 기판을 지지하는 핀의 흔적이 기판에 전사(轉寫)되는 것을 방지할 수 있는 기판 처리 장치를 제공한다.
피처리 기판(G)을 수용하는 챔버(106)와, 챔버(106) 내를 감압하는 감압 수단(142)과, 챔버(106) 내에 배열되어, 피처리 기판(G)을 하측으로부터 지지하는 복수 개의 리프트 핀(128)과, 리프트 핀(128) 복수 개를 그룹 단위로 하여, 각 그룹 내의 리프트 핀(128)을 각각 독립적으로 승강시키는 리프트 핀 승강 수단(126)과, 감압 건조 처리에 따라 변화되는 기판(G)의 온도를, 소정의 온도 범위로 구획지어 검출하는 기판 온도 범위 검출 수단(133)과, 상기 그룹 내의 리프트 핀(128)마다, 상기 핀에 있어서의 기판(G)과의 접촉부를 상기 기판 온도 범위 검출 수단(133)에 의해 검출된 온도 범위에 포함되는 소정 온도로 설정하는 리프트 핀 온도 조절 수단(131, 132)과, 리프트 핀 승강 수단(126)의 구동 제어를 행하는 제어 수단(133)을 구비한다.-
公开(公告)号：KR1020070019563A
公开(公告)日：2007-02-15
申请号：KR1020060074123
申请日：2006-08-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: F26B5/04
Abstract: 본 발명은 감압건조장치에 관한 것으로 감압 건조 장치 (23b)는 LCD 기판 (G)가 반입되는 반입구 (61) 및 LCD 기판 (G)가 반출되는 반출구 (62)를 측벽부에 가져 반입구 (61)으로부터 반입된 LCD 기판 (G)를 대략 수평 상태로 수용하는 챔버 (6)과 반입구 (61) 및 반출구 (62)를 개폐하는 게이트 부재 ((63, 64))와 게이트 부재 ((63, 64))에 의해 반입구 (61) 및 반출구 (62)가 폐색된 상태로 챔버 (6)내를 감압하는 감압 기구와 LCD 기판 (G)를 대략 수평으로 반송해 반입구 (61)으로부터 챔버 (6)내에 반입함과 동시에 감압 기구에 의한 감압 건조 처리 후에 대략 수평으로 반송해 반출구 (62)로부터 챔버 (6)외에 반출하는 반송 기구 (7)과 챔버 (6)내에서 LCD 기판 (G)를 국부적으로 지지하는 경우 없이 균등하게 지지 가능한 벨트 (71)을 구비한다. 기판이 대형이라도 안전성이 뛰어나는 것과 동시에 진동의 발생을 억제할 수 있고 또한 기판에 도포된 도포액에 생기는 전사를 확실히 방지하는 것이 가능한 감압 건조 장치를 제공하는 기술을 제공한다.
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公开(公告)号：KR101194975B1
公开(公告)日：2012-10-25
申请号：KR1020060058238
申请日：2006-06-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
Abstract: 본 발명은 기판처리장치로서 평류의 반송 라인상에서 피처리 기판에 공급한 제1의 처리액을 분별 회수해 제2의 처리액에 치환하는 동작을 효율적으로 유연하게 실시하는 것으로 기판 (G)는 그 가요성에 의해 기판 전체 길이의 일부에 반송 라인 (120)의 융기부(120a)에 모방한 돌기조의 기판 융기부(Ga)를 형성하고 한편 반송 속도에 동일한 속도로 기판 융기부(Ga)를 기판의 전단으로부터 후단까지 반송 방향과 반대 방향으로 상대적으로 이동시키면서 융기부(120a)를 통과한다. 상향 경사로 (M₂)에서는 기판 (G)상에서 현상액 (R)이 중력에 의해 기판 후방에 흘러 기판 (G)의 전단으로부터 후단으로 향하여 거의 반송 속도에 동일한 속도로 현상액 (R)의 액막이 액활성의 상태로부터 박막 (R')의 상태로 변화한다. 기판 (G)가 하향 경사로 (M₃)으로 이동하면 윗쪽의 린스 노즐 (138)에서 띠형상의 토출류로 린스액 (S)를 공급시키고 기판 (G)상의 린스액 (S)가 착액 하는 라인 부근에서 얇은 막 상태의 현상액 (R')는 린스액 (S)에 치환되어 현상이 완전하게 정지하는 기술이 제공된다.
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公开(公告)号：KR1020070077793A
公开(公告)日：2007-07-27
申请号：KR1020070007599
申请日：2007-01-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: A substrate cooling device, a substrate cooling method, a control program and a computer readable storage medium are provided to prevent shock from being applied to a substrate by contacting the substrate which is carried on a carriage passage in one way, through a cooling device. A substrate cooling apparatus includes a carriage passage for carrying a substrate in one way and a cooling device(7) for cooling the substrate which is transferred along the carriage passage. The cooling device has a preliminary cooling portion(7a) and a main cooling portion(7b) disposed on an upstream of a carriage direction along the carriage passage in sequence. After the heated substrate is cooled in the preliminary cooling portion, the substrate is cooled at a predetermined temperature in the main cooling portion.
Abstract translation: 提供基板冷却装置，基板冷却方法，控制程序和计算机可读存储介质，以通过冷却装置将承载在托架通道上的基板接触到基板来防止冲击。 衬底冷却装置包括用于一体地承载衬底的滑架通道和用于冷却沿着滑架通道传送的衬底的冷却装置（7）。 冷却装置具有预先冷却部分（7a）和主要冷却部分（7b），其沿着滑架通道顺序地设置在滑架方向的上游。 在预冷却部中冷却加热后的基板后，在主冷却部中将基板冷却至规定的温度。
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公开(公告)号：KR1020070077784A
公开(公告)日：2007-07-27
申请号：KR1020070007115
申请日：2007-01-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
Abstract: A substrate cooling apparatus is provided to prevent shock from being applied to a substrate by contacting the substrate which is carried on a carriage passage in one way, with a cooling medium. A substrate cooling apparatus includes a carriage passage for carrying a substrate in one way and a cooling device(7) for cooling the substrate by contacting the substrate which is carried along the carriage passage, with a cooling medium. The cooling medium has a cooling fluid, and the cooling device supplies the cooling fluid onto the substrate. The carriage passage is provided with plural collar members arranged in one direction, and any one of the collar members serves as a cooling medium.
Abstract translation: 提供了一种基板冷却装置，以通过使承载在滑架通道上的基板与冷却介质接触来防止冲击被施加到基板。 基板冷却装置包括用于单向承载基板的托架通道和用于通过使沿着托架通道携带的基板与冷却介质接触来冷却基板的冷却装置（7）。 冷却介质具有冷却流体，冷却装置将冷却流体供应到基板上。 滑架通道设置有沿一个方向布置的多个轴环构件，并且任一个轴环构件用作冷却介质。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160117181A
公开(公告)日：2016-10-10
申请号：KR1020160027535
申请日：2016-03-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 기판에형성된유기막의막 두께분포를단시간에측정한다. 실시형태에따른막 두께측정장치는, 조사부와, 촬상부와, 제어부를구비한다. 조사부는, 유기막이형성된기판상의조사영역에자외광을조사한다. 촬상부는, 자외광의조사를받은조사영역을촬상한다. 제어부는, 촬상부에의해촬상된촬상화상의휘도분포에기초하여유기막의막 두께분포를구한다.
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公开(公告)号：KR101216747B1
公开(公告)日：2012-12-31
申请号：KR1020060074123
申请日：2006-08-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: F26B5/04
Abstract: 본발명은감압건조장치에관한것으로감압건조장치 (23b)는 LCD 기판 (G)가반입되는반입구 (61) 및 LCD 기판 (G)가반출되는반출구 (62)를측벽부에가져반입구 (61)으로부터반입된 LCD 기판 (G)를대략수평상태로수용하는챔버 (6)과반입구 (61) 및반출구 (62)를개폐하는게이트부재 ((63, 64))와게이트부재 ((63, 64))에의해반입구 (61) 및반출구 (62)가폐색된상태로챔버 (6)내를감압하는감압기구와 LCD 기판 (G)를대략수평으로반송해반입구 (61)으로부터챔버 (6)내에반입함과동시에감압기구에의한감압건조처리후에대략수평으로반송해반출구 (62)로부터챔버 (6)외에반출하는반송기구 (7)과챔버 (6)내에서 LCD 기판 (G)를국부적으로지지하는경우없이균등하게지지가능한벨트 (71)을구비한다. 기판이대형이라도안전성이뛰어나는것과동시에진동의발생을억제할수 있고또한기판에도포된도포액에생기는전사를확실히방지하는것이가능한감압건조장치를제공하는기술을제공한다.
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公开(公告)号：KR1020070000366A
公开(公告)日：2007-01-02
申请号：KR1020060058238
申请日：2006-06-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/1303 , B65G49/06 , H01L21/306
Abstract: A substrate processing apparatus is provided to improve the continuity between respective processes, by divisionally collecting a first processing solution, which is supplied onto a substrate to be processed on a conveyance line, and effectively replacing the first processing solution with a second processing solution. A conveyance line(120) includes a first conveyance section(M1) having a horizontal conveyance route, a second conveyance section(M2) having an upwardly inclined conveyance route, a third conveyance section(M3) having a downwardly inclined conveyance route, and a fourth conveyance section(M4) having a horizontal conveyance route. A conveyance driving part drives a conveyance structure for conveying a substrate on the conveyance line. A first processing solution supply part supplies a first processing solution onto the substrate in the first or second conveyance section. A second processing solution supply part(138) supplies a second processing solution onto the substrate in the third conveyance section.
Abstract translation: 提供了一种基板处理装置，通过分割地收集在输送线上供给到待处理基板上的第一处理液，并且利用第二处理液有效地代替第一处理液，来提高各处理之间的连续性。 输送线（120）包括具有水平输送路径的第一输送部（M1），具有向上倾斜输送路径的第二输送部（M2），具有向下倾斜输送路径的第三输送部（M3） 具有水平输送路径的第四输送部（M4）。 输送驱动部驱动用于输送输送线上的基板的输送结构。 第一处理液供给部将第一处理液供给到第一或第二输送部中的基板。 第二处理溶液供应部件（138）将第二处理溶液供应到第三输送部分中的基板上。
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公开(公告)号：KR101299898B1
公开(公告)日：2013-08-23
申请号：KR1020070007115
申请日：2007-01-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
Abstract: 본 발명은 기판 냉각 장치에 관한 것으로서, 기판 냉각 장치 (25)는, 기판 (G)를 한 방향으로 반송하는 반송로로서의 롤러반송 기구 (5)와 롤러반송 기구 (5)에 의해 반송되고 있는 기판 (G)를 케이싱 (6)내에서 냉각 매체에 접촉시켜 냉각하는 냉각 기구 (7)을 구비하여 기판이 대형으로서도 안전성이 뛰어나는 것과 동시에, 수율의 향상을 도모하는 것이 가능한 기술을 제공한다.
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公开(公告)号：KR101269748B1
公开(公告)日：2013-05-30
申请号：KR1020060123948
申请日：2006-12-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/324
Abstract: 본발명은가열처리장치에관한것으로서가열처리장치 (28)은기판 (G)를한방향으로반송하는반송로로서의롤러반송기구 (5)와반송로를포위하도록설치된케이싱 (6)과케이싱 (6)내에반송로를반송되는기판 (G)의양면측에기판 (G)에근접하도록반송로를따라각각설치된제1 및제2의면형상히터 (71a~71r, 72a~72r)를구비하여기판이대형으로서도기판의휘어짐이나파손등의발생을억제할수가있는것과동시에기판을수용하는케이싱의소형화를도모하는것이가능한가열처리장치를제공한다.
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