-
公开(公告)号:KR100625761B1
公开(公告)日:2006-09-21
申请号:KR1020047009053
申请日:2002-11-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/205 , H05H1/46 , C23C16/511 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32256 , H01J37/32192 , H01J37/32568 , H01P5/103
Abstract: A plasma processing apparatus includes an evacuatable processing vessel; a workpiece mount base for mounting thereon an object to be processed; a microwave transmitting plate provided in an opening of a ceiling of the processing vessel; a planar antenna member for supplying a microwave into the processing vessel via the microwave transmitting plate; a shield lid grounded to cover a top of the planar antenna member; a waveguide for guiding the microwave to the planar antenna member; a member elevating mechanism for relatively varying a vertical distance between the planar antenna member and the shield lid; a tuning rod insertable into the waveguide; a tuning rod driving mechanism for moving the tuning rod to adjust an insert amount thereof; and a matching control section for controlling an elevation amount of the planar antenna member and the insert amount of the tuning rod to obtain a matching adjustment.
-
公开(公告)号:KR1020040065254A
公开(公告)日:2004-07-21
申请号:KR1020047009053
申请日:2002-11-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/205 , H05H1/46 , C23C16/511 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32256 , H01J37/32192 , H01J37/32568 , H01P5/103
Abstract: 매칭 회로를 소형화함으로써 마이크로파 발생원 등을 실드 뚜껑부 상에 일체화시켜서 탑재하는 것이 가능한 플라즈마 처리 장치를 제공한다.
플라즈마 처리 장치는 진공 배기 가능하게 이루어진 처리용기(42)와, 상기 처리용기내에 설치된 피 처리체를 탑재하는 탑재대(44)와, 상기 처리용기의 천정의 개구부에 설치된 마이크로파 투과판(70)과, 상기 마이크로파 투과판을 거쳐서 상기 처리용기내에 마이크로파를 공급하기 위한 평면 안테나부재(74)와, 상기 평면 안테나부재의 위쪽을 피복하도록 접지된 실드 덮개(78)와, 마이크로파 발생원으로부터의 마이크로파를 상기 평면 안테나부재로 인도하기 위한 도파관(82)과, 상기 평면 안테나부재와 상기 실드 덮개와의 사이의 상하 방향의 거리를 상대적으로 변화시키는 부재 승강 기구(85)와, 상기 도파관내에 대하여 삽입 가능하게 설치된 동조막대(104)와, 상기 동조막대를 그 삽입량이 조정 가능하게 이동시키는 동조막대 구동 장치(102)와, 상기 안테나 부재의 승강량과 상기 동조막대의 삽입량을 제어함으로써 매칭 조정을 하는 매칭 제어부(114)를 구비한 것을 특징으로 한다.
-