公开(公告)号：KR1020040064732A

公开(公告)日：2004-07-19

申请号：KR1020047008844

申请日：2002-12-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야미도시히로 ,  오세다케시 ,  다카히라쥰이치 ,  시마다쥰이치

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/26

CPC classification number: H01J37/32082 ,  H01J37/32183

Abstract: 플라즈마 생성시에 발생하는 고조파 성분이나 변조파 성분을 높은 정밀도로 제거하여 오동작을 방지함과 동시에, 적정한 고주파 전력을 플라즈마 처리 장치에 인가할 수 있는 고주파 전원이 제공된다. 고주파 전원은 방향성 결합기(21)와, 믹서(22)와, 100kHz의 로우패스필터(23)와, 저주파 검파기(24)와, 발진기(25)로 구성된 파워 모니터를 구비하고, 방향성 결합기(21)에 의해서 출력된 변조파 성분 등을 포함하는 주파수 100MHz의 고주파와 발진기(25)에 의해서 발진된 주파수 99.9MHz의 고주파를 믹서(22)에 의해서 가산하고, 그 출력을 로우패스필터(23) 및 저주파 검파기(24)에 의해서 100kHz로 변환하여 검파를 한다.