-
公开(公告)号:KR1020110118731A
公开(公告)日:2011-10-31
申请号:KR1020117022172
申请日:2010-03-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: B29D11/00365 , B29D11/00298 , G03F7/0005 , G02B3/0056 , G02B3/0018 , H01L27/14627 , H01L27/14685 , H04N5/2254
Abstract: 일방의 면에 대략 반구면 형상으로 돌출된 마이크로렌즈를 복수 가지는 마이크로렌즈 어레이의 제조 방법으로서, 마이크로렌즈의 재료층이 되는 유기막층 상에 마이크로렌즈의 형상을 형성하기 위한 레지스트층을 형성하는 레지스트 형성 공정과, 형성한 레지스트층 및 유기막층을, 수소를 포함하는 분자 및 불소를 포함하는 분자를 혼합시킨 혼합 가스를 이용하여 에칭하는 에칭 공정을 포함한다.