公开(公告)号：KR100621618B1

公开(公告)日：2006-09-13

申请号：KR1020030077640

申请日：2003-11-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김재봉 ,  김현준 ,  김태협 ,  장현천

IPC: H01L21/66

Abstract: 본 발명은 열 탈착 시스템에 관한 것으로, 챔버 내에 장착된 기판을 가열하여 상기 기판 표면에 흡착된 물질을 탈착시키는 열 탈착 시스템에 있어서, 상기 챔버는 상기 기판을 영역별로 구분하는 벽을 가지고 있고, 상기 벽에 의해 구분된 영역은 각각 독립적인 캐리어 가스관을 가지는 것을 특징으로 한다. 이에 의하면, 대구경화된 웨이퍼의 센터부와 에지부 간의 수율 차이에 대한 원인 규명 등 기존에는 불가능했던 웨이퍼 센터부와 에지부 간의 구분 분석을 진행할 수 있어 웨이퍼 영역성 불량 분석에 활용할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020050106688A

公开(公告)日：2005-11-11

申请号：KR1020040031693

申请日：2004-05-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김현준

IPC: G06F3/12

CPC classification number: G06F3/1204

Abstract: 본 발명은, 사용자에 의해 메뉴의 단축키 설정이 가능한 프린터에 관한 것으로, 인쇄물의 인쇄상태를 설정하기 위해 복수의 레벨로 구성된 메뉴를 선택하기 위한 복수의 버튼, 각 버튼의 조작에 의해 선택된 메뉴를 단계적으로 표시하기 위한 디스플레이부, 각 버튼에 의해 선택된 메뉴의 설정치가 저장되도록 선택하기 위한 메뉴저장버튼, 메뉴저장버튼에 의해 선택된 메뉴의 설정치를 저장하기 위한 메뉴저장부, 및 메뉴저장버튼의 선택시, 각 버튼의 조작에 의해 선택된 메뉴의 설정치를 메뉴저장부에 저장하며, 메뉴저장부에 저장된 메뉴의 설정치대로 인쇄상태를 설정하여 인쇄물을 인쇄하도록 제어하는 제어부를 포함한다. 이에 의해, 단축키를 선택하는 간편한 동작만으로 사용자가 설정한 메뉴의 설정치대로 인쇄물이 인쇄되도록 함과 동시에 사용자가 메뉴를 설정하는데 걸리는 시간을 단축시킬 수 있다. 또한, 인쇄 완료후에는 이전 상태로 프린터의 셋팅을 변경함으로써, 이후에 사용할 사용자의 편의를 도모하고 파지 발생을 감소시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1020050042974A

公开(公告)日：2005-05-11

申请号：KR1020030077640

申请日：2003-11-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김재봉 ,  김현준 ,  김태협 ,  장현천

IPC: H01L21/66

Abstract: 본 발명은 열 탈착 시스템에 관한 것으로, 챔버 내에 장착된 기판을 가열하여 상기 기판 표면에 흡착된 물질을 탈착시키는 열 탈착 시스템에 있어서, 상기 챔버는 상기 기판을 영역별로 구분하는 벽을 가지고 있고, 상기 벽에 의해 구분된 영역은 각각 독립적인 캐리어 가스관을 가지는 것을 특징으로 한다. 이에 의하면, 대구경화된 웨이퍼의 센터부와 에지부 간의 수율 차이에 대한 원인 규명 등 기존에는 불가능했던 웨이퍼 센터부와 에지부 간의 구분 분석을 진행할 수 있어 웨이퍼 영역성 불량 분석에 활용할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR100476719B1

公开(公告)日：2005-03-17

申请号：KR1020020077064

申请日：2002-12-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 함동석 ,  김현준 ,  조현호

IPC: H01L21/02

CPC classification number: F24F3/161

Abstract: 오염 제어 시스템 및 이를 이용한 기판 처리 장치의 공조 시스템이 개시되어 있다. 상기 오염 제어 시스템은 물을 분사하는 적어도 하나의 노즐을 포함하는 분사 장치, 기액 접촉에 의해 공기 중의 오염물들을 포집한 물을 트랩하여 하방으로 떨어뜨리기 위한 적어도 하나의 제거기, 상기 분사 장치에 물을 공급하는 순환부를 구비하며, 상기 순환부는 상기 분사 장치로 공급되는 물의 페하(pH) 지수를 조절하기 위한 pH 조절 장치 및 상기 분사 장치로 공급되는 물 내의 유기물을 제거하기 위한 유기물 제거 장치를 포함한다. 습식 공조 방식의 오염 제어 시스템을 반도체 설비와 같은 기판 처리 장치의 공조 시스템에 적용함으로써, 설비 내부의 처리 공간에 각종 오염원들이 효과적으로 차단된 청정화 공기를 공급할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020040107953A

公开(公告)日：2004-12-23

申请号：KR1020030038657

申请日：2003-06-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 양재현 ,  황태진 ,  김현준 ,  이병무 ,  안요한

IPC: B01D46/12

CPC classification number: B01D46/0019 ,  B01D46/0002 ,  B01D46/42

Abstract: PURPOSE: To provide an apparatus for filtering air, which is able to eliminate inconveniency of replacing a chemical filter and maximize contaminants collection efficiency. CONSTITUTION: The apparatus (100) comprises a housing (110) that includes an air inlet (112) and an air outlet (114), a pre-filter (120) that collects particulate contaminants in the air flown in the housing, a medium filter (130) that is connected to the pre-filter and collects the particulate contaminants in the air flown in the housing, a filter assembly (150) that collects chemical contaminants in the air flown in the housing, a ventilator (170) that inhales the air inside of the housing to filter and discharges the inhaled air to the outside of the housing, and a HEPA filter (140) that is equipped at the air outlet of the housing to collect the particulate contaminants contained in the air to be discharged.

Abstract translation: 目的：提供过滤空气的设备，能够消除更换化学过滤器的不便之处，并最大限度地提高污染物的收集效率。 构成：装置（100）包括壳体（110），其包括空气入口（112）和空气出口（114），预过滤器（120），其收集在壳体内流动的空气中的颗粒污染物，介质 过滤器（130），其连接到所述预过滤器并收集在所述壳体中流动的空气中的颗粒污染物;过滤器组件（150），其收集在所述壳体中流动的空气中的化学污染物;吸入器 所述壳体内部的空气将所述吸入空气过滤并排出到所述壳体的外部;以及HEPA过滤器（140），所述HEPA过滤器（140）装备在所述壳体的空气出口处以收集要排放的空气中所含的微粒污染物。

公开(公告)号：KR1020040025749A

公开(公告)日：2004-03-26

申请号：KR1020020056297

申请日：2002-09-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 황태진 ,  황정성 ,  김현준 ,  안요한 ,  김재봉 ,  김기두 ,  이건형

IPC: B01D53/86

CPC classification number: B01D53/885 ,  A61L9/205 ,  B01D53/22 ,  B01D53/8628 ,  B01D2255/20707 ,  B01D2255/20776 ,  B01D2255/20792 ,  B01D2255/802 ,  B01D2257/40 ,  B01D2257/50 ,  B01D2257/708

Abstract: PURPOSE: An air purifying device is provided which is capable of easily removing contaminants in the air and preventing reverse contamination by contaminant removing device. CONSTITUTION: The air purifying apparatus comprises a lower structure(10); a photocatalyst containing layer(20) comprising a photocatalyst(22) which is positioned on the lower structure to remove ambient contaminants by reacting with light; and a protection layer(30) positioned on the photocatalyst containing layer to prevent reverse contamination by the photocatalyst, wherein the lower structure is a wall surface of clean room for manufacturing semiconductors, facility for manufacturing semiconductors or a separate panel, wherein the photocatalyst containing layer is a paint comprising the photocatalyst, wherein the photocatalyst is one or more of photocatalysts selected from the group consisting of titanium oxide (TiO2), zinc oxide (ZnO), cadmium sulfide (CdS) and tungsten oxide (WO3), wherein the ambient contaminants are volatile organic compounds, carbon oxides (COx) or nitrogen oxides (NOx), wherein the protection layer is a membrane filter for passing the light and ambient contaminants except the photocatalyst, and wherein the membrane filter comprises pores having diameter of 10 μm or less.

Abstract translation: 目的：提供一种能够容易地去除空气中的污染物并防止污染物去除装置的反向污染的空气净化装置。 构成：空气净化装置包括下部结构（10）; 含有光催化剂层（20），其包含光催化剂（22），所述光催化剂（22）位于所述下部结构上以通过与光反应来除去环境污染物; 以及位于所述光催化剂含有层上以防止所述光催化剂的反向污染的保护层（30），其中所述下部结构是用于制造半导体的洁净室的壁表面，用于制造半导体的设备或单独的面板，其中所述光催化剂层 是包含光催化剂的涂料，其中光催化剂是选自氧化钛（TiO 2），氧化锌（ZnO），硫化镉（CdS）和氧化钨（WO 3））中的一种或多种光催化剂，其中环境污染物 是挥发性有机化合物，碳氧化物（COx）或氮氧化物（NOx），其中保护层是用于使除了光催化剂之外的光和环境污染物通过的膜过滤器，并且其中膜过滤器包括直径为10μm或更小的孔 。

公开(公告)号：KR100418703B1

公开(公告)日：2004-02-11

申请号：KR1020010052455

申请日：2001-08-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 고경필 ,  김현준

IPC: H04N5/63

CPC classification number: G09G5/006 ,  G09G5/005 ,  G09G2330/021 ,  G09G2330/022 ,  G09G2340/0407

Abstract: A unified scaler chip (13) includes an output by which a controller (11) can determine whether horizontal and/or vertical synchronising signals are being output by a TMDS circuit (7) in the chip. A controller (11) of a display apparatus can use this output to control the switching of the display apparatus between operational and power saving modes.

Abstract translation: 统一缩放器芯片（13）包括输出端，通过该输出端，控制器（11）可以确定芯片中的TMDS电路（7）是否正在输出水平和/或垂直同步信号。 显示装置的控制器（11）可以使用该输出来控制显示装置在操作模式和省电模式之间的切换。

公开(公告)号：KR100326432B1

公开(公告)日：2002-02-28

申请号：KR1020000028972

申请日：2000-05-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안요한 ,  이병무 ,  김현준 ,  최재흥

IPC: H01L21/027

Abstract: 화학 물질에 의한 공기의 오염과 웨이퍼의 패턴 프로파일의 저하를 방지할 수 있는 새로운 구조의 에어 샤워가 개시되어 있다. 프레임은 웨이퍼위에 제공되어 중앙부에는 웨이퍼의 표면상에 광을 조사하기 위한 구멍이 형성되고, 상기 구멍을 중심으로 구멍에서 멀어질수록 두껍게 형성되어 상면이 원추형 테이퍼상에 대응하는 오목부를 갖고, 하면은 개방되어 웨이퍼를 향하여 배치되며, 외측면은 폐쇄되어 있고, 내부는 외부로부터의 공기를 흡입하기 위한 공간을 구비한다. 프레임의 하면 주변부에 상기 프레임에 스터프가 물리적으로 결합된다. 스터프에는 웨이퍼의 상면을 향하여 균일한 압력으로 에어를 분출할 수 있도록 다수의 미세한 홀들이 형성되어 있다. 결합 부재는 스터프와 프레임을 물리적으로 결합한다. 에어 샤워의 프레임과 스터프간의 접합부위에 접착제를 사용하지 않아서, 접착제로부터 지속적으로 방출되는 유기 물질의 오염을 줄일 수 있다.

公开(公告)号：KR1020010066376A

公开(公告)日：2001-07-11

申请号：KR1019990068085

申请日：1999-12-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김재봉 ,  김현준

IPC: H01L21/265

Abstract: PURPOSE: An ionizing apparatus using a corona discharge is to dispose ionizing tip in a heat resistant tube to isolate from an outside and also purge an inside portion of the heat resistant tube with nitrogen gas, thereby preventing generation of particles and ozone. CONSTITUTION: A non-reactive gas-supplying pipe(10) supplies non-reactive gas for transferring shields and generated ions to an outside. A heat resistant tube(20) is connected with the non-reactive gas-supplying pipe to be isolated from the outside. A ground wire(30) controls that the ions are discharged in the heat resistant tube to constantly maintain concentration of the ions in the heat resistant tube. An ionizing tip(40) is formed at an inner portion of the heat resistant tube to generate monopolar ion. A controlling portion(50) supplies constant-voltage to the ionizing tip to generate constant-corona discharge. The non-reactive gas is nitrogen gas. A positive polar ionizing apparatus and a negative polar ionizing apparatus are provided to form a set.

Abstract translation: 目的：使用电晕放电的电离装置是将电离尖端设置在耐热管中以与外部隔离，并且用氮气吹扫耐热管的内部，从而防止产生颗粒和臭氧。 构成：非反应性气体供应管（10）提供用于将屏蔽和产生的离子转移到外部的非反应性气体。 耐热管（20）与非反应性气体供给管连接以与外部隔离。 接地线（30）控制离子在耐热管中排出，以恒定地保持耐热管中离子的浓度。 在耐热管的内部形成电离尖端（40），以产生单极离子。 控制部分（50）向电离尖端提供恒定电压以产生恒定的电晕放电。 非反应性气体是氮气。 提供正极离子化装置和负极电离装置以形成一组。

公开(公告)号：KR1020010066374A

公开(公告)日：2001-07-11

申请号：KR1019990068083

申请日：1999-12-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김재봉 ,  김현준 ,  김종수

IPC: H01L21/66

Abstract: PURPOSE: A system for estimating a metal pollution is to estimate a variation of device performance according to a surface density of a metal pollution to thereby secure a manufacturing margin. CONSTITUTION: The system for estimating the metal pollution comprises a mixing chamber(10), a distributor(20), a reaction chamber(30) and an accumulator(40). The mixing chamber generates metallic ions as a pollution source by reacting O3 gas with metallic source gas. The distributor distributes the metallic ions at the same flow amount. The reaction chamber performs a deposition process for compulsorily polluting the flow amount, which is distributed to one side, on the wafer. The accumulator accumulates the flow amount, which is distributed to the other side, using a chemical solution having a high metal solubility. A fixed quantity of the metal pollution is obtained through a comparison and analysis of the compulsorily polluted wafer and the chemical wafer.

Abstract translation: 目的：一种用于估计金属污染的系统是根据金属污染的表面密度来估算器件性能的变化，从而确保制造裕量。 构成：用于估计金属污染的系统包括混合室（10），分配器（20），反应室（30）和蓄能器（40）。 混合室通过使O3气体与金属源气体反应而产生金属离子作为污染源。 分配器以相同的流量分配金属离子。 反应室进行沉积过程，强制污染分散在晶片上的一侧的流量。 蓄能器使用具有高金属溶解度的化学溶液累积分配给另一侧的流量。 通过比较和分析强制污染的晶片和化学晶片，可以获得固定数量的金属污染。