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公开(公告)号：KR100706795B1
公开(公告)日：2007-04-12
申请号：KR1020050075263
申请日：2005-08-17
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본 발명은 공기로부터 오염물질을 제거하는 오염 제어 시스템을 제공한다.
오염 제어 시스템은 기액 접촉에 의해 공기 중의 분자상 오염물질들을 포집하고 이를 아래 방향으로 배출하는 제거기와 제거기가 적셔진 상태로 유지되도록 제거기로 탈이온수를 공급하는 액체 공급기를 가진다. 제거기는 그 측방향으로 공기가 유입되도록 배치되고, 액체 공급기는 제거기의 상부에서 탈이온수를 제거기로 공급하도록 배치된다.
오염 제어 시스템, 분자상 오염 물질, 기액 접촉, 제거기, 액체 공급기Abstract translation: 本发明提供了一种用于从空气中去除污染物的污染控制系统。
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公开(公告)号：KR100476719B1
公开(公告)日：2005-03-17
申请号：KR1020020077064
申请日：2002-12-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
CPC classification number: F24F3/161
Abstract: 오염 제어 시스템 및 이를 이용한 기판 처리 장치의 공조 시스템이 개시되어 있다. 상기 오염 제어 시스템은 물을 분사하는 적어도 하나의 노즐을 포함하는 분사 장치, 기액 접촉에 의해 공기 중의 오염물들을 포집한 물을 트랩하여 하방으로 떨어뜨리기 위한 적어도 하나의 제거기, 상기 분사 장치에 물을 공급하는 순환부를 구비하며, 상기 순환부는 상기 분사 장치로 공급되는 물의 페하(pH) 지수를 조절하기 위한 pH 조절 장치 및 상기 분사 장치로 공급되는 물 내의 유기물을 제거하기 위한 유기물 제거 장치를 포함한다. 습식 공조 방식의 오염 제어 시스템을 반도체 설비와 같은 기판 처리 장치의 공조 시스템에 적용함으로써, 설비 내부의 처리 공간에 각종 오염원들이 효과적으로 차단된 청정화 공기를 공급할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020040068786A
公开(公告)日：2004-08-02
申请号：KR1020030005326
申请日：2003-01-27
Applicant: 삼성전자주식회사 , 주식회사 젬백스앤카엘
IPC: B01D39/00
CPC classification number: B01D53/66 , B01D53/02 , B01D53/0407 , B01D53/56 , B01D53/82 , B01D2253/102 , B01D2253/108 , B01D2253/25 , B01D2253/304 , B01D2257/106 , B01D2257/404 , B01D2258/0216 , B01D2259/4146 , Y02A50/2347
Abstract: PURPOSE: Provided are a chemical filter medium, which simultaneously removes ozone, nitrogen oxides and sulfur oxide, a chemical filter and a method for preparing thereof. CONSTITUTION: The chemical filter medium(20) comprises a first ozone adsorbing layer(22) consisting of a first ozone removing filter media to mainly remove ozone, a first nitrogen oxide adsorbing layer(24) layered on the ozone adsorbing layer and consisting of a nitrogen oxide removing filter media to mainly remove nitrogen oxide and a second ozone adsorbing layer(26) layered on the first nitrogen oxide adsorbing layer and consisting of a second ozone removing filter media to mainly remove the ozone. The chemical filter comprises a tray where an upper part case and a lower part case are assembled, a first ozone adsorbing layer filled up with the lower end of the inner part of the lower part case and consisting of an ozone removing filter media to mainly remove ozone, a first nitrogen oxide adsorbing layer filled up with the first ozone adsorbing layer in the lower part case and consisting of a nitrogen oxide removing filter media to mainly remove nitrogen oxide and a second ozone adsorbing layer filled up with the first nitrogen oxide adsorbing layer and consisting of an ozone removing filter media to mainly remove the ozone. The method for preparing the chemical filter comprises steps of (a) preparing a tray comprising an upper part case and a lower part case, where the upper part and the lower part case are separated from each other; (b) filling up the lower part case of the tray with a first ozone adsorbing layer consisting of an ozone removing filter media; (c) layering a first nitrogen oxide adsorbing layer consisting of a nitrogen oxide removing filter media on the first ozone adsorbing layer; (d) layering a second ozone adsorbing layer consisting of an ozone removing filter media on the first nitrogen oxide adsorbing layer; and (e) covering the lower part case with the upper part case to fix.
Abstract translation: 目的：提供同时除去臭氧，氮氧化物和硫氧化物的化学过滤介质，化学过滤器及其制备方法。 构成：化学过滤介质（20）包括由主要除去臭氧的第一臭氧去除过滤介质构成的第一臭氧吸附层（22），层叠在臭氧吸附层上的第一氮氧化物吸附层（24） 主要去除氮氧化物的氮氧化物除去过滤介质和层叠在第一氮氧化物吸附层上的第二臭氧吸附层（26），并由第二臭氧去除过滤介质组成，以主要除去臭氧。 所述化学过滤器包括：组装上部壳体和下部壳体的托盘;第一臭氧吸附层填充有下部壳体的内部部分的下端，并由除臭过滤介质组成，主要移除 臭氧，第一氮氧化物吸附层，填充有下部壳体中的第一臭氧吸附层，并且由氮氧化物除去过滤介质主要除去氮氧化物，第二臭氧吸附层由第一氮氧化物吸附层填充 并且由主要去除臭氧的除臭过滤介质组成。 制备化学过滤器的方法包括以下步骤：（a）制备包括上部壳体和下部壳体的托盘，其中上部和下部壳体彼此分离; （b）用由臭氧去除过滤介质组成的第一臭氧吸附层填充托盘的下部壳体; （c）在第一臭氧吸附层上层叠由氮氧化物除去过滤介质组成的第一氮氧化物吸附层; （d）在第一氮氧化物吸附层上层叠由除臭过滤介质构成的第二臭氧吸附层; 和（e）用上部壳体覆盖下部壳体以固定。
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公开(公告)号：KR1020070058177A
公开(公告)日：2007-06-08
申请号：KR1020050116512
申请日：2005-12-01
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: A temperature control system of a clean room for a semiconductor fabricating process is provided to uniformly spray gas supplied from fan filter units by integrally forming the fan filter units, supports and panels, thereby uniformly adjusting internal temperature of the clean room. Plural fan filter units(110) are provided on a ceiling chamber(104) of a clean room. A panel(130) is installed on a lower end of each fan filter unit to uniformly distribute gas supplied from the fan filter unit into the clean room. Plural supports(120) connect the fan filter units with the panels, and support the panels. The supports are fixed to the panels by plural fixing members(122). The fan filter units, the supports, and the panels are integrally formed.
Abstract translation: 提供了一种用于半导体制造工艺的洁净室的温度控制系统，通过一体地形成风扇过滤器单元，支撑件和面板，从而均匀地调节洁净室的内部温度来均匀地喷射从风扇过滤器单元供应的气体。 多个风扇过滤器单元（110）设置在洁净室的顶棚室（104）上。 每个风扇过滤器单元的下端安装面板（130），以将从风扇过滤器单元供应的气体均匀地分配到洁净室中。 多个支撑（120）将风扇过滤器单元与面板连接，并支撑面板。 支撑件通过多个固定构件（122）固定到面板上。 风扇过滤器单元，支撑件和面板是一体形成的。
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公开(公告)号：KR1020070042663A
公开(公告)日：2007-04-24
申请号：KR1020050098522
申请日：2005-10-19
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: 오염 확산을 효과적으로 억제할 수 있는 반도체 기판 가공 장치는, 프로세스 챔버, 프로세스 챔버에 반도체 기판을 로딩하고 프로세스 챔버로부터 반도체 기판을 언로딩하기 위한 로드락 챔버, 반도체 기판이 수납된 용기를 로드락 챔버에 로딩하고 로드락 챔버로부터 용기를 언로딩하기 위해 로드락 챔버를 개폐하는 로드락 도어 및 로드락 챔버의 외측면에 설치되어 로드락 챔버로부터 누출되는 가스를 흡인하는 흡기 유닛을 포함한다. 흡기 유닛은 일측면에 흡기구가 형성된 사각 프레임 형상을 가질 수 있다. 흡기 유닛은 흡기구가 로드락 도어를 향하도록 로드락 챔버의 외측면 상에 배치되는 석션 캡 및 석션 캡으로부터 연장되어 석션 캡 내부의 공기를 흡인하는 진공 라인을 포함할 수 있다. 로드락 도어를 통하여 누출되는 가스를 가스 등을 신속 및 정확하게 흡인함으로써 클린룸 내부로 오염 물질이 확산되는 것을 최소화시킬 수 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100505061B1
公开(公告)日：2005-08-01
申请号：KR1020030008847
申请日：2003-02-12
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67017 , H01L21/67772
Abstract: FOUP와 기판 가공 모듈 사이에서 반도체 기판을 이송하기 위한 기판 이송 모듈에 있어서, 기판 이송 챔버의 내부는 가스 공급부로부터 공급되는 퍼지 가스에 의해 퍼지된다. 기판 이송 챔버로 공급된 퍼지 가스는 가스 순환 배관을 통해 순환되며, 순환되는 퍼지 가스는 필터링 유닛에 의해 정제된다. 필터링 유닛에 의해 정제된 퍼지 가스는 다시 기판 이송 챔버로 공급된다. 기판 이송 챔버의 외부 공기가 기판 이송 챔버로 유입되지 않으므로, 반도체 기판의 공기 분자상 오염이 방지된다. 또한, 기판 이송 챔버로 공급된 퍼지 가스가 가스 순환 배관을 통해 순환되므로, 퍼지 가스의 소모량이 감소된다.
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公开(公告)号：KR1020040049200A
公开(公告)日：2004-06-11
申请号：KR1020020077064
申请日：2002-12-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
CPC classification number: F24F3/161
Abstract: PURPOSE: A contamination control system and an air conditioning system of a substrate processing apparatus using the same are provided to be capable of constantly conserving the efficiency of removing contamination and controlling a variety of contaminants in the air. CONSTITUTION: A contamination control system is provided with a jet part(100) having at least one nozzle for jetting water, and at least one removing part(110) for trapping and dripping the water to the downward direction. The water contains a variety of contaminants. The contamination control system further includes a circulation part for supplying the water to the jet part. The circulation part includes a pH control part(140) and an organic body removing part(145).
Abstract translation: 目的：提供一种污染控制系统和使用该污染控制系统的基板处理装置的空调系统，其能够不断节省污染物的排除效率和控制空气中的各种污染物。 构成：污染物控制系统设置有具有至少一个用于喷射水的喷嘴的喷射部分（100）和用于向下方向捕获和滴落水的至少一个去除部分（110）。 水含有各种污染物。 污染控制系统还包括用于将水供应到喷射部分的循环部分。 循环部分包括pH控制部分（140）和有机体去除部分（145）。
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公开(公告)号：KR1020020088142A
公开(公告)日：2002-11-27
申请号：KR1020010027069
申请日：2001-05-17
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G01N7/00
CPC classification number: G01N1/2273 , G01N1/2202 , G01N2001/2223 , G01N2001/2241 , G01N2001/2276
Abstract: PURPOSE: An air sampling carrier and air analysis apparatus and method is provided to perform inner air sampling in an efficient manner by using an automatic guide vehicle, while measuring contamination level in a simple and convenient manner and reducing costs. CONSTITUTION: In a semiconductor manufacturing line including a closed type wafer carrier(35), a plurality of unit process devices(40) for closing door of the closed type wafer carrier and loading/unloading wafer, and an automatic guide vehicle(30) for providing closed type wafer carriers to each unit process device, an air analysis apparatus comprises a sampling carrier(70) having an outer appearance same with the outer appearance of the closed type wafer carrier such that the sampling carrier is provided to each unit process device through the automatic guide vehicle, wherein the sampling carrier serves to sample inner air of each unit process device; and an air analyzer(60) for receiving inner air sampled by the sampling carrier and transported by the automatic guide vehicle and analyzing contamination level of inner air sample of each unit process device.
Abstract translation: 目的：提供一种空气采样载体和空气分析装置和方法，通过使用自动导向车辆，以简单方便的方式测量污染水平并降低成本，以有效的方式进行内部空气取样。 构成：在包括封闭型晶片载体（35）的半导体制造线中，用于封闭封闭型晶片载体和装载/卸载晶片的门的多个单元处理装置（40）和用于 向每个单元处理装置提供闭合型晶片载体，空气分析装置包括采样载体（70），其具有与封闭型晶片载体的外观相同的外观，使得采样载体被提供给每个单元处理装置，通过 所述自动引导车辆，其中所述采样载体用于对每个单元处理装置的内部空气进行采样; 以及空气分析器（60），用于接收由采样载体采样并由自动引导车辆传送的内部空气并分析每个单元处理装置的内部空气样本的污染水平。
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公开(公告)号：KR1020070032434A
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：KR1020050086646
申请日：2005-09-16
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67742 , H01L21/67017 , H01L21/67259
Abstract: A substrate transfer system and a method for transferring a substrate are provided to prevent air in a clean room from flowing into a substrate container, a housing, and contamination of the substrate due to the air in the clean room by employing at least one ventilation unit. A load port(100) accommodates a substrate container(20) including a door(22). A housing(200) is arranged between the load port and process equipment(10). A substrate transfer robot(280) is installed on the housing to transfer a substrate between the substrate container placed on the load port and the process equipment. A ventilation unit(400) is located at a side of the substrate container placed on the load port. The ventilation unit prevents an external air current from flowing into the substrate container or the housing by forming an air current parallel to the door between the door and the housing.
Abstract translation: 提供了一种基板转印系统和转印基板的方法，以通过采用至少一个通风单元来防止洁净室中的空气流入基板容器，外壳以及由于洁净室中的空气而导致的基板污染 。 负载端口（100）容纳包括门（22）的基板容器（20）。 在负载端口和处理设备（10）之间布置有壳体（200）。 衬底传送机器人（280）安装在壳体上以在放置在负载端口的衬底容器和处理设备之间传送衬底。 通气单元（400）位于放置在负载端口上的基板容器的一侧。 通风单元通过在门和壳体之间形成平行于门的气流来防止外部气流流入基板容器或壳体。
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公开(公告)号：KR1020070020898A
公开(公告)日：2007-02-22
申请号：KR1020050075263
申请日：2005-08-17
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본 발명은 공기로부터 오염물질을 제거하는 오염 제어 시스템을 제공한다.
오염 제어 시스템은 기액 접촉에 의해 공기 중의 분자상 오염물질들을 포집하고 이를 아래 방향으로 배출하는 제거기와 제거기가 적셔진 상태로 유지되도록 제거기로 탈이온수를 공급하는 액체 공급기를 가진다. 제거기는 그 측방향으로 공기가 유입되도록 배치되고, 액체 공급기는 제거기의 상부에서 탈이온수를 제거기로 공급하도록 배치된다.
오염 제어 시스템, 분자상 오염 물질, 기액 접촉, 제거기, 액체 공급기
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