公开(公告)号：KR1020130089084A

公开(公告)日：2013-08-09

申请号：KR1020120010446

申请日：2012-02-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조현호 ,  김동현 ,  김동연 ,  안요한 ,  이건형

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/02

CPC classification number: B08B9/093 ,  B08B9/08 ,  C23C16/4405 ,  C23C16/4412

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus and a method for removing a reaction gas using the same are provided to effectively remove the reaction gas remaining in a process chamber by supplying a cleaning gas to the process chamber. CONSTITUTION: A process chamber (1100) has a space for processing a substrate. A substrate support part (1200) is formed in the process chamber and supports the substrate. A process gas supply part (1300) supplies a process gas for processing the substrate to the process chamber. A reaction gas exhaust part (1600) discharges a reaction gas remaining in the process chamber to the outside. A cleaning gas supply part (1700) supplies a cleaning gas which is different from the process gas, to the process chamber.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置和使用其的去除反应气体的方法，以通过向处理室提供清洁气体来有效地除去残留在处理室中的反应气体。 构成：处理室（1100）具有用于处理衬底的空间。 衬底支撑部分（1200）形成在处理室中并支撑衬底。 工艺气体供给部（1300）向处理室供给用于处理基板的处理气体。 反应气体排出部（1600）将残留在处理室中的反应气体排出到外部。 清洁气体供给部（1700）向处理室供给与处理气体不同的清洗气体。

公开(公告)号：KR1020040047303A

公开(公告)日：2004-06-05

申请号：KR1020020075458

申请日：2002-11-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안요한 ,  황정성 ,  김혁기 ,  김기두 ,  이수웅

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/00 ,  H01L21/67017 ,  Y10S414/139

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus capable of controlling contamination of a substrate transfer module is provided to control various kinds of AMC(airborne molecular contamination) including moisture and ozone inside a substrate transfer chamber by supplying recirculating purge gas like nitrogen gas to the substrate transfer chamber of a substrate transfer module for transferring the substrate contained in a receptacle to a substrate processing part. CONSTITUTION: A plurality of substrates(104) are contained in a receptacle. The substrate processing part includes at least one process chamber for performing a predetermined process on the substrate. A substrate transfer unit(114) for transferring the substrates in the receptacle to the substrate processing part is installed inside the substrate transfer chamber(110). At least one rod port(112a) supports the receptacle, installed outside the substrate transfer chamber. The substrate transfer module(108) includes the substrate transfer chamber and the rod port. A gas supply unit(132) supplies purge gas(146a) to the substrate transfer chamber to purge the inside of the substrate transfer chamber, connected to the substrate transfer chamber. A gas circulating pipe(138) recirculates the purge gas in the substrate transfer chamber to supply the purge gas to the substrate transfer chamber. A contamination control unit(130) includes the gas supply unit and the gas circulating pipe.

Abstract translation: 目的：提供一种能够控制基板转印模块污染的基板处理装置，通过向基板输送室供给氮气等再循环吹扫气体来控制基板输送室内的各种含有水分和臭氧的AMC（空气分子污染物） 用于将容纳在容器中的基板转印到基板处理部分的基板转印模块。 构成：多个基板（104）容纳在容器中。 衬底处理部分包括用于在衬底上执行预定处理的至少一个处理室。 用于将基板在基座中传送到基板处理部的基板转印单元（114）安装在基板输送室（110）的内部。 至少一个杆端口（112a）支撑安装在基板传送室外部的插座。 衬底传送模块（108）包括衬底传送室和杆端口。 气体供给单元（132）将净化气体（146a）供给到基板输送室，以清洗与基板输送室连接的基板输送室的内部。 气体循环管（138）使清洗气体在衬底传送室中再循环，以将清洗气体供应到衬底传送室。 污染控制单元（130）包括气体供给单元和气体循环管。

公开(公告)号：KR1020010002643A

公开(公告)日：2001-01-15

申请号：KR1019990022542

申请日：1999-06-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안요한 ,  이병무 ,  최재원 ,  김태호

IPC: H01L21/304

CPC classification number: B24B37/345 ,  H01L21/67051

Abstract: PURPOSE: A chemical mechanical polishing(CMP) apparatus is provided to effectively eliminate slurry leftovers adhered to a polishing head and polished silicon particles, and to exhaust contamination material scattered in the apparatus. CONSTITUTION: A chemical mechanical polishing(CMP) apparatus comprises the first nozzle(235), the second nozzle(236) and the third nozzle(237). The first nozzle is established in a load-cup where a wafer is loaded/unloaded, spraying deionized water towards a pedestal(231) to clean a contamination material remaining on the pedestal settled on the wafer. The second nozzle is established in the load-cup and sprays deionized water towards a membrane(2411) to clean a contamination material remaining on the membrane mounted on a bottom surface of a polishing head(241) for vacuum-absorbing the wafer. The third nozzle is established in the load-cup and sprays deionized water towards a space where a contamination material is induced through a fuzzy hole formed in a retainer ring to clean the contamination material in the space between an outer circumferential surface of the membrane and an inner circumferential surface of the retainer ring established in a lower brim of the polishing head.

Abstract translation: 目的：提供化学机械抛光（CMP）设备，以有效地消除粘附在抛光头和抛光硅颗粒上的浆料残留物，并排出在设备中散布的污染物质。 构成：化学机械抛光（CMP）装置包括第一喷嘴（235），第二喷嘴（236）和第三喷嘴（237）。 第一喷嘴建立在装载杯中，其中加载/卸载晶片，向基座（231）喷射去离子水以清洁残留在沉积在晶片上的基座上的污染物质。 第二喷嘴建立在装载杯中，并将去离子水喷向膜（2411），以清洁安装在抛光头（241）的底表面上的膜上残留的污染物质，以真空吸收晶片。 第三个喷嘴建立在装载杯中，并将去离子水喷射到通过形成在保持环中的模糊孔引起污染物质的空间，以清洁膜的外周表面和 保持环的内圆周表面位于抛光头的下边缘中。

公开(公告)号：KR100259984B1

公开(公告)日：2000-06-15

申请号：KR1019970066720

申请日：1997-12-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안요한 ,  최재흥 ,  이건형 ,  황정성

IPC: F24F11/00

CPC classification number: B01D46/0086 ,  B01D46/444 ,  B01D2273/18 ,  B01D2273/30 ,  B01D2279/51 ,  Y10S55/34

Abstract: PURPOSE: A system is provided to maintain optimum process environment by allowing a plurality of fan filter units to be independently monitored in real time and thus preventing the clean room from being contaminated. CONSTITUTION: A system comprises a sensor(28) mounted onto a filter(24) arranged at an air passage of a fan filter unit(20) and which senses the direction of air flow toward a clean room; a controller(30) for outputting an alarm signal and a control signal for the sensed state of the sensor when an inverse air direction is sensed by the sensor; a local control unit(36) connected to the controller and which performs communications through a multi-control unit(MCU) over a network in accordance with the sensed state of the sensor; and a speaker(32) and a light emitting diode(34) for performing alarm operation in accordance with the control of the controller.

Abstract translation: 目的：通过允许多个风扇过滤器单元被实时独立监控，从而防止洁净室受到污染，提供了一种维护最佳过程环境的系统。 构成：系统包括安装在布置在风扇过滤器单元（20）的空气通道处并且感测朝向洁净室的空气流的方向的过滤器（24）上的传感器（28） 控制器（30），用于当传感器检测到反向空气方向时，输出报警信号和感测状态的控制信号; 连接到所述控制器的本地控制单元（36），并且根据所述感测器的感测状态通过网络执行通过多控制单元（MCU）的通信; 以及用于根据控制器的控制进行报警操作的扬声器（32）和发光二极管（34）。

公开(公告)号：KR1020000028305A

公开(公告)日：2000-05-25

申请号：KR1019980046485

申请日：1998-10-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안요한 ,  김혁기 ,  한윤수 ,  류재준

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A stepper is provided to adjust the inner temperatures of a Wafer Transfer System(WTS) and a Wafer Pre-alignment System(WPS) by supplying air to the WPS and to the WPS after adjusting the temperature of the air for preventing the expansion and the level error of a wafer. CONSTITUTION: A stepper(20) contains a transfer device for transferring a wafer, a pre-alignment device for adjusting the location of the wafer, a stage progressing process, a device(72) for adjusting air for circulating the air into the inside of the stepper, and a device(74) for adjusting the temperature of the air supplied from the device for adjusting air to the stage. Therefore, the device for adjusting temperature is used for adjusting the air supplied from the device for adjusting air to a WTS and a WPS in the stepper.

Abstract translation: 目的：提供步进电机，通过在调整空气温度以防止膨胀后向WPS和WPS供应空气来调节晶圆传输系统（WTS）和晶片预对准系统（WPS）的内部温度 和晶片的电平误差。 步骤（20）包括用于传送晶片的转移装置，用于调节晶片位置的预对准装置，台阶进行过程，用于调节空气以将空气循环到内部的装置（72） 步进器，以及用于调节从用于调节空气的装置供应到台架的空气的温度的装置（74）。 因此，用于调节温度的装置用于调节从用于调节空气的装置供给的空气到步进机中的WTS和WPS。

公开(公告)号：KR100241698B1

公开(公告)日：2000-02-01

申请号：KR1019970011906

申请日：1997-03-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 류재준 ,  이중선 ,  김대열 ,  안요한

IPC: H01L21/22

Abstract: 반도체 제조장비의 하단부에 범용이 가능하도록 블록으로 조립된 배기덕트를 설치함으로써 작업실 외부로 열을 강제배기시켜 열로 인한 설비 및 웨이퍼의 영향을 최소화하는 반도체 제조장비의 열배기장치에 관한 것이다.
본 발명은 본체 내부에 발열부를 구비하고 본체의 하부가 개방된 형태의 반도체 제조장비에 있어서, 상기 본체의 하단부를 따라 설치되어 바닥면과 하단부 사이의 기밀을 유지하도록 하고, 속이 빈 중공형태로서 내측면에 본체의 내부와 연통하는 흡입구가 형성된 배기덕트 및 상기 배기덕트에 호스를 연결하여 본체 내부의 열을 강제로 배기시키기 위한 펌핑모터로 구성됨을 특징으로 한다.
따라서 제조장비의 과열을 방지하여 제조장비의 정지나 고장을 막고 적정온도의 작업환경을 유지하며 발열부에 의한 작업실 및 작업자의 영향을 최소화할 수 있고 필요시엔 언제든지 설치와 분해가 가능하고 다른 장비와의 호환이 자유로우며 경제적이고 펌핑모터에서 발생하는 분진이나 소음 및 진동 등이 작업실 내부에 영향을 미치지 않게 하는 효과를 갖는다.

公开(公告)号：KR100211669B1

公开(公告)日：1999-08-02

申请号：KR1019960052412

申请日：1996-11-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 황정성 ,  최재흥 ,  안요한 ,  이동주

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01H1/0201 ,  F24F3/161 ,  F24F11/39 ,  G05B23/027 ,  G05B23/0272 ,  G06F11/326

Abstract: A monitoring device and a driving control system for a fan filter unit in a semiconductor clean room for monitoring the operating state of the fan filter unit. The monitoring device includes a switching section in each fan filter unit which alternately applies electrical power to one of a plurality of terminals. The switching section is responsive to a force from an air stream introduced therein via rotation of a fan in the fan filter unit. A display section in each fan filter unit is connected to the plurality of terminals which provide different signals, indicative of an on or off state of the fan, according to which of the plurality of terminals is electrically connected to the electrical power.

公开(公告)号：KR100210599B1

公开(公告)日：1999-07-15

申请号：KR1019960045095

申请日：1996-10-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안요한 ,  김태호 ,  유재준 ,  이중선

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G01N1/2247 ,  G01N1/2202 ,  G01N2001/2223 ,  G01N2001/225 ,  G01N2001/2285

Abstract: 청정실내의 대기풍속에 대응하여 최적의 파티클 측정을 할 수 있도록 개선된 파티클 카운터가 개시되어 있으며, 샘플링 프로브와 카운터 본체를 구비하여 공기중의 파티클수를 계수하는 파티클 카운터에 있어서, 샘플링 공기를 흡입하는 상기 샘플링 프로브의 취입구의 단면적이 순차적으로 증감하며 동일한 형상을 갖는 복수개의 뿔대가 프로브의 전체 길이가 연장 또는 단축이 가능하도록 상호 삽입되는 형태로 구성된다.
따라서, 다양한 대기풍속에 대하여 최적의 측정을 손쉽고 용이하게 수행할 수 있다는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR100192962B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019950065738

申请日：1995-12-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이중선 ,  김대열 ,  안요한 ,  전재강

IPC: H01L21/02

CPC classification number: B08B5/02 ,  F24F3/161

Abstract: 본 발명은 능동 구동형 에어 크린 룸 및 그 제어 방법에 관한 것으로서, 본 발명은 에어 크린 룸의 바닥을 간편하게 변경하여 샤워 효율을 극대화할 수 있는 능동 구동형 에어 크린 룸 및 그 제어 방법을 제공하는데 그 목적을 두고 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 능동 구동형 에어 크린 룸은 에어 크린 룸의 바닥에 설치된 복수 개의 샤워 디스크에 작업자가 탑승하였는가의 여부를 감지하는 감지부와, 상기 감지부에 의해 감지된 신호에 따라 구동되는 구동부와, 상기 구동부에 의해 연동되는 샤워 디스크의 작동과 동시에 공기를 분사하는 분사부와, 상기 분사부의 작동에 의해 이탈된 파티클을 배출하는 복수 개의 배출공으로 구성됨을 특징으로 한다.
한편, 본 발명에 의한 능동 구동형 에어 크린 룸의 제어 방법은 전동기의 회전수 및 그 작동 방법(수동/자동)을 제어부에 입력하는 제1 입력 스텝과, 상기 제1 입력 스텝에 의해 입력된 자료를 근거로 제어부에서 전동기와 분사부를 동시에 작동시키는 작동 스템과, 상기 작동 스텝에 의해 구동되는 전동기의 작동 상태에 관한 자료를 검출하여 제어부에 입력시키는 제2 입력 스텝과, 상기 제2 입력 스텝에 의해 입력된 자료를 근거로 제어부에서 전동기와 분사부를 동시에 정지시키는 정지 스텝으로 구성됨을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR101423611B1

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：KR1020080004955

申请日：2008-01-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 류주아 ,  공정흥 ,  안요한 ,  이명기 ,  이양구 ,  진훤 ,  하헌환

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027 ,  H01L21/683

CPC classification number: B08B1/007 ,  B08B1/04 ,  B08B3/12 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67057

Abstract: 본 발명은 척 부재와, 척 부재의 기판 안착 면상의 이물질을 제거하는 클리닝 툴을 가지는 척 세정 부재와, 클리닝 툴을 세정하는 툴 세정 부재가 처리실 내에 서로 인접한 위치에 배치된 기판 처리 장치와 노광 장치를 제공하고, 툴 세정 부재를 이용하여 클리닝 툴을 세정하는 방법을 제공한다.
이러한 특징에 의하면, 클리닝 툴에 의한 척 부재의 역 오염을 방지할 수 있고, 노광 공정에 있어서 척 부재 상에 존재하는 파티클에 의한 디포커스 현상을 최소화할 수 있다.
척 부재, 클리닝 툴, 툴 세정 부재, 노광, 디포커스