公开(公告)号：KR102054302B1

公开(公告)日：2019-12-10

申请号：KR1020130071803

申请日：2013-06-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송태중 ,  박재호 ,  백강현

IPC: H01L29/78 ,  H01L21/336

公开(公告)号：KR101801259B1

公开(公告)日：2017-11-27

申请号：KR1020100070448

申请日：2010-07-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 백강현 ,  정상일 ,  김진호 ,  이정호 ,  김정빈

IPC: H01L27/146

CPC classification number: H01L27/14629

Abstract: 광유도구조물이제공될수 있다. 이를위해서, 상기광 유도구조물은반도체기판상에위치하는제 1 내지 3 절연막들에한정될수 있다. 상기광 유도구조물은제 1 내지 3 절연막들에하나또는다수개의식각종료점을대응시켜서제 1 내지 3 절연막들에배치될수 있다. 이를통해서, 상기광 유도구조물은반도체기판으로부터이격해서제 1 내지 3 절연막들에배치될수 있다. 상기광 유도구조물은이미지센서에포함될수 있다. 상기이미지센서는프로세서베이스드시스템에배치될수 있다.

Abstract translation: 可以提供光感应结构。 为此目的，光导结构可以限于半导体衬底上的第一至第三绝缘膜。 导光结构可以设置在第一至第三绝缘膜上，其中一个或多个蚀刻终点对应于第一至第三绝缘膜。 在这种情况下，导光结构可以设置在与半导体衬底间隔开的第一至第三绝缘膜上。 光导结构可以被包括在图像传感器中。 图像传感器可以位于基于处理器的系统中。

公开(公告)号：KR1020150091661A

公开(公告)日：2015-08-12

申请号：KR1020140012160

申请日：2014-02-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 백강현 ,  노진현 ,  송태중 ,  양기용 ,  오상규

IPC: G06F17/50 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L27/0886 ,  G06F17/5068 ,  H01L27/1104 ,  H01L29/785 ,  H01L29/7851

Abstract: 레이아웃 디자인 시스템, 이를 이용하여 제조한 반도체 장치 및 그 반도체 장치의 제조 방법이 제공된다. 레이아웃 디자인 시스템은, 프로세서, 중간(intermediate) 디자인이 저장된 저장모듈 및 프로세서를 이용하여, 중간 디자인을 수정하는 수정 모듈을 포함하되, 중간 디자인은, 액티브 영역과, 액티브 영역 상에 배치된 복수의 더미 디자인을 포함하고, 각 더미 디자인은 더미 구조물과, 더미 구조물의 양 측에 배치된 더미 스페이서를 포함하고, 수정 모듈은, 복수의 더미 디자인의 일부 영역의 폭을 수정한다.

Abstract translation: 提供了一种布局设计系统，使用该布局设计系统制造的半导体器件及其制造方法。 布局设计系统包括处理器，存储中间设计的存储模块以及通过使用处理器校正中间设计的校正模块。 中间设计包括布置在活动区域​​上的有源区域和多个虚拟设计。 每个虚拟设计包括虚拟结构和布置在虚拟结构的两侧的虚拟间隔物。 校正模块校正虚拟设计的部分区域的宽度。