KR102230450B1 - Method of designing semiconductor device, system for designing semiconductor device

    公开(公告)号:KR102230450B1

    公开(公告)日:2021-03-23

    申请号:KR1020150037521A

    申请日:2015-03-18

    CPC classification number: H01L27/0207 H01L27/0203 H01L27/281

    Abstract: 반도체 설계 방법 및 설계 시스템이 제공된다. 상기 반도체 장치의 설계 방법은, 액티브 영역(active region)과 더미 영역(dummy region)을 포함하는 표준 셀 레이아웃(layout)을 제공하고, 상기 액티브 영역 내의 제1 액티브 핀과 제2 액티브 핀 사이의 제1 핀 피치(fin pitch) 및 상기 더미 영역 내의 제1 더미 핀과 제2 더미 핀 사이의 제2 핀 피치를 결정하고, 상기 제1 및 제2 핀 피치를 이용하여, 상기 액티브 영역 내에 상기 제1 및 제2 액티브 핀과, 상기 더미 영역 내에 상기 제1 및 제2 더미 핀이 배치되도록 설계하고, 상기 표준 셀 레이아웃에 대해 검증(verification)을 수행하는 것을 포함한다.

    KR102224518B1 - Double patterning layout design method

    公开(公告)号:KR102224518B1

    公开(公告)日:2021-03-08

    申请号:KR1020130072507A

    申请日:2013-06-24

    Abstract: 더블 패터닝 레이아웃 설계 방법이 제공된다. 상기 더블 패터닝 레이아웃 설계 방법은 스키메틱 회로를 설계하되, 상기 스키메틱 회로 상의 제1 패스와 제2 패스를 포함하는 크리티컬 패스(critical paths)를 정의하여 설계하고, 제1 컬러의 제1 마스크 레이아웃과 제2 컬러의 제2 마스크 레이아웃으로 분리되고, 상기 스키메틱 회로에 대응되는 더블 패터닝 레이아웃을 설계하는 것을 포함하되, 상기 더블 패터닝 레이아웃을 설계하는 것은 상기 스키메틱 회로 상의 상기 크리티컬 패스를 앵커링(anchoring)하는 것을 포함한다.

    KR102232922B1 - Static random access memory device including write assist circuit

    公开(公告)号:KR102232922B1

    公开(公告)日:2021-03-29

    申请号:KR1020140103762A

    申请日:2014-08-11

    CPC classification number: G11C11/419

    Abstract: 본 발명에 따른 스태틱 랜덤 액세스 메모리 장치는, 데이터 신호의 로직 상태에 응답하여 메모리 셀과 연결된 제 1 비트 라인 및 제 2 비트 라인 중 하나를 플로팅 시키고 다른 하나의 비트 라인에는 쓰기 전압을 인가하는 쓰기 드라이버, 상기 플로팅된 비트 라인의 전압을 입력받아 쓰기 실패 신호를 출력하는 쓰기 실패 감지부, 그리고 상기 쓰기 실패 신호에 응답하여 쓰기 보조 전압을 생성하는 보조 전압 생성부를 포함하되, 상기 쓰기 드라이버는 상기 쓰기 보조 전압을 상기 쓰기 전압을 인가한 비트 라인에 추가로 공급한다.

    집적 회로의 레이아웃 설계 방법 및 상기 집적 회로의 제조 방법
    8.
    发明授权
    집적 회로의 레이아웃 설계 방법 및 상기 집적 회로의 제조 방법 有权
    集成电路布局设计方法及集成电路制造方法

    公开(公告)号:KR101697343B1

    公开(公告)日:2017-01-18

    申请号:KR1020150030551

    申请日:2015-03-04

    Abstract: 본개시는집적회로의레이아웃설계방법으로서, 집적회로를정의하는복수의표준셀들을배치및 배선함으로써제1 레이아웃을설계하고, 제1 레이아웃에대한마스크데이터준비과정에서, 제1 레이아웃을변경함으로써제2 레이아웃을생성하며, 이때, 제1 레이아웃의제1 레이어에해당하는제1 레이어패턴들의형성에필요한마스크들의개수가감소되도록제1 레이어패턴들중 제1 및제2 패턴들을서로연결함으로써제2 레이아웃을생성한다.

    Abstract translation: 设计集成芯片(IC)的布局的方法包括通过放置和布线定义IC的多个标准单元来设计第一布局,以及通过在与...相关的掩模数据准备处理过程中修改第一布局来生成第二布局 第一布局,其中通过连接与第一布局的第一层相对应的第一层图案中的第一和第二图案来生成第二布局,使得形成第一层图案所需的掩模的数量减少。

    집적 회로의 레이아웃 설계 방법 및 상기 집적 회로의 제조 방법
    9.
    发明公开
    집적 회로의 레이아웃 설계 방법 및 상기 집적 회로의 제조 방법 有权
    集成电路布局的设计方法和集成电路的制造方法

    公开(公告)号:KR1020160023542A

    公开(公告)日:2016-03-03

    申请号:KR1020150030551

    申请日:2015-03-04

    CPC classification number: H01L27/0207 H01L29/0692 H01L2224/0612

    Abstract: 본개시는집적회로의레이아웃설계방법으로서, 집적회로를정의하는복수의표준셀들을배치및 배선함으로써제1 레이아웃을설계하고, 제1 레이아웃에대한마스크데이터준비과정에서, 제1 레이아웃을변경함으로써제2 레이아웃을생성하며, 이때, 제1 레이아웃의제1 레이어에해당하는제1 레이어패턴들의형성에필요한마스크들의개수가감소되도록제1 레이어패턴들중 제1 및제2 패턴들을서로연결함으로써제2 레이아웃을생성한다.

    Abstract translation: 设计集成芯片(IC)的布局的方法包括通过放置和布线定义IC的多个标准单元来设计第一布局,以及通过在与...相关的掩模数据准备处理过程中修改第一布局来生成第二布局 第一布局,其中通过连接与第一布局的第一层相对应的第一层图案中的第一和第二图案来生成第二布局,使得形成第一层图案所需的掩模的数量减少。

    기준 전압 발생기를 포함하는 메모리 장치
    10.
    发明公开
    기준 전압 발생기를 포함하는 메모리 장치 审中-实审
    包括参考电压发生器的存储器件

    公开(公告)号:KR1020160019595A

    公开(公告)日:2016-02-22

    申请号:KR1020140103774

    申请日:2014-08-11

    CPC classification number: G11C11/419 G11C7/12 G11C11/412 G11C2207/002

    Abstract: 본발명에따른스태틱랜덤액세스메모리장치는, 단일비트라인구조의메모리셀들을포함하는제 1 메모리셀 어레이, 단일비트라인구조의메모리셀들을포함하는제 2 메모리셀 어레이, 상기제 1 메모리셀 어레이또는상기제 2 메모리셀 어레이중 어레이선택신호에따라선택된메모리셀 어레이의비트라인전압을센싱전압으로출력하고, 비선택된메모리셀 어레이의비트라인전압을기준전압으로출력하는기준전압생성부, 그리고상기센싱전압과상기기준전압의차이를증폭하여출력하는차동센스앰프를포함하되, 상기센싱전압과상기기준전압의로직상태는서로상보이다.

    Abstract translation: 根据本发明,静态随机存取存储器件包括:包括单位线结构的存储单元的第一存储单元阵列; 包括单位线结构的存储单元的第二存储单元阵列; 参考电压产生单元,其输出根据阵列选择信号选择的第一和第二存储单元阵列之一的位线电压作为感测电压,并输出未选择的存储单元阵列的位线电压作为参考电压 ; 以及差分读出放大器,其放大并输出感测电压和参考电压之间的差。 感测电压和参考电压的逻辑状态彼此互补。

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