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公开(公告)号：KR1020060061475A
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：KR1020040100230
申请日：2004-12-02
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 필터를 이용하여 공기의 오염을 여과하기 위한 공기 여과 장치가 개시되어 있다. 상기 여과 장치는 하우징 내부에 상기 공기를 여과하기 위한 다수의 필터를 구비한다. 또한, 상기 하우징 내부에는 상기 공기를 유/출입시키기 위한 송풍기가 배치되며 상기 필터에 의해 여과된 공기는 연결 배관 및 밸브를 통해 소정의 장치로 상기 공기를 공급되어 진다. 따라서, 공기 여과 장치를 구비하지 않은 장치에 용이하게 청정 공기를 공급할 수 있다.
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公开(公告)号：KR100514716B1
公开(公告)日：2005-09-13
申请号：KR1020030057426
申请日：2003-08-20
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: F24F7/06
CPC classification number: B01D46/521 , B01D46/002 , B01D46/10 , B01D53/0407 , B01D2256/26 , B01D2259/4508 , B01D2277/20 , B01D2279/51
Abstract: 오염 사고로 인해 발생한 국부 영역의 공기 오염을 제어하기에 적합한 공기 청정 장치 및 방법이 개시되어 있다. 공기를 내부로 흡입하는 흡입부 및 내부 공기를 외부로 배출하는 배기부를 포함하고, 내부가 외부 공간과 차단되는 하우징, 상기 하우징 내의 공기 흡입부에 인접하여 위치하고, 상기 공기 흡입부를 통해 흡입된 공기에서 제1 오염물군을 제거하기 위한 제1 필터들이 병렬 배치된 제1 필터부, 및 상기 하우징 내에 구비하고, 상기 하우징 내로 외부 공기를 흡입시키기 위한 송풍기를 구비하는 공기 청정 장치를 제공한다. 상기 제1 필터들이 병렬 배치되어 있어 상기 제1 오염물군을 빠르게 제거하므로 국부 영역의 오염을 제어할 수 있다.
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公开(公告)号：KR100474577B1
公开(公告)日：2005-03-08
申请号：KR1020020039160
申请日：2002-07-06
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: F24F13/28
Abstract: 미세한 파티클을 다량 포함하는 공기를 정화시키기에 적합한 청정실 공기 정화 시스템용 청정 공기 덕트(Fresh Air Duct) 및 상기 청정 공기 덕트를 채용하여 외부 공기를 정화시켜 청정화된 공기를 제공하는 청정실용 공기 제공 장치가 개시되어 있다. 상기 청정 공기 덕트는 공기를 이동시키기 위하여 그의 일단부에 그 연장 방향으로 움직일 수 있는 유연관부(plexible duct part)를 포함하는 제1 관을 구비한다. 또한, 상기 유연관부의 말단에 상기 공기중의 오염물질을 여과하기 위한 필터가 구비되고, 상기 유연관부의 말단에 연결되어, 상기 공기를 안내하기 위한 제2관을 구비된다. 상기 청정 공기 덕트가 채용되는 청정실 시스템에서는, 대기의 미세한 오염 입자가 청정실로 유입되는 것을 사전에 차단할 수 있고, 외부 공기가 비정상적인 오염 상태일 경우에도 외부의 오염물질을 적절하게 여과할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020040074768A
公开(公告)日：2004-08-26
申请号：KR1020030010164
申请日：2003-02-18
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67393 , H01L21/67017 , H01L21/67769
Abstract: PURPOSE: A method for safely storing an object, and apparatus having a storage box and a stocker for storing an object are provided to remove effectively contaminants from the object by inducing smoothly gas flow within a storage box. CONSTITUTION: A storage box(103) is provided to receive an object. The storage box is sealed up by performing a sealing process. The gas is injected into the storage box through the first valve connected to the storage box by supplying the gas to the storage box. The gas is exhausted from the storage box to the outside through the first valve connected to the storage box by increasing the internal gas pressure of the storage box.
Abstract translation: 目的：提供一种用于安全存储物体的方法，以及具有用于存储物体的存储箱和储料器的设备，以通过在存储箱内引起平稳的气流来有效地去除污染物。 构成：提供存储盒（103）以接收对象。 通过执行密封处理将储物箱密封。 通过将气体供给到储藏箱，通过连接到储藏箱的第一阀将气体注入储存箱。 通过增加存储箱的内部气体压力，通过连接到储存箱的第一阀将气体从储存箱排出到外部。
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公开(公告)号：KR1020030052516A
公开(公告)日：2003-06-27
申请号：KR1020010082502
申请日：2001-12-21
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: PURPOSE: An apparatus for collecting impurities in the air is provided to be capable of accurately measuring the volume of solvent stored in a collecting container and the flow rate of air passing through the collecting container by using a micro balance and a mass flow controller. CONSTITUTION: The predetermined volume of solvent is stored in a collecting container(1). An air suction pipe(3) is installed and inserted into the collecting container(1), wherein the air suction pipe(3) is capable of inhaling the air containing impurities into the collecting container(1). An air exhaust pipe(5) is installed at one side of the collecting container(1) for exhausting purified air bubbles, wherein the purified air bubble is formed by reacting on the solvent. A micro balance(9) is installed on the lower portion of the collecting container(1) for measuring the volume of the solvent. A mass flow controller(11) is connected with the air exhaust pipe(5) for uniformly controlling the flow rate of the exhausted air.
Abstract translation: 目的：提供一种用于收集空气中的杂质的装置，其能够通过使用微量平衡和质量流量控制器来精确地测量存储在收集容器中的溶剂的体积和通过收集容器的空气流量。 构成：将预定体积的溶剂储存在收集容器（1）中。 吸入管（3）安装并插入收集容器（1）中，其中吸气管（3）能够将含杂质的空气吸入收集容器（1）。 排气管（5）安装在收集容器（1）的一侧，用于排出净化的气泡，其中通过在溶剂上反应形成纯化的气泡。 微量平衡（9）安装在收集容器（1）的下部，用于测量溶剂的体积。 质量流量控制器（11）与排气管（5）连接，用于均匀地控制排气的流量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020000001708A
公开(公告)日：2000-01-15
申请号：KR1019980022084
申请日：1998-06-12
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: B01D46/00
CPC classification number: B01D46/0089 , B01D46/42
Abstract: PURPOSE: A fan filter device of a clean room is provided to improve the reliability according to the production of a semiconductor device by minimizing defects according to the effective operation of airflow of the clean room. CONSTITUTION: A fan filter device of a clean room comprises: a fan(22) to operate due to the drive of a motor(20) and the motor(20); an airflow conductive plate(24) that the center of the airflow conductive plate(24) is opened to prevent the vibration of the fan filter device(2) at the lower part of the fan(22), also to conduct the air flow; a filter(26) for filtrating the particles existing inside air, at the lower side of the fan filter device(1), an entrance end where the air enters the clean room; a branching plate(28) so the flowed air into the filter(26) as to have a steady flow on the upper part of the filter(26).
Abstract translation: 目的：提供洁净室的风扇过滤装置，以通过根据洁净室的气流的有效操作使缺陷最小化来提高根据半导体装置的生产的可靠性。 构成：洁净室的风扇过滤装置包括：由于电动机（20）和电动机（20）的驱动而操作的风扇（22）; 气流导电板（24）的中心打开以防止风扇过滤器装置（2）在风扇（22）的下部的振动的气流导电板（24）也导致空气流动; 用于过滤空气中存在的颗粒的过滤器（26），在风扇过滤装置（1）的下侧，空气进入洁净室的入口端; 分支板（28），使得流入过滤器（26）的流动空气在过滤器（26）的上部具有稳定的流动。
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公开(公告)号：KR1019990009661A
公开(公告)日：1999-02-05
申请号：KR1019970032129
申请日：1997-07-10
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: 본 발명은 반도체장치 제조를 위한 크린룸 내에 순환하는 크린에어로부터 이물질을 효과적으로 제거하여 청정도가 높은 공정라인을 형성하도록 하는 반도체장치 제조 크린룸에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체장치 제조 크린룸은 크린룸 내에 형성된 반도체장치 제조공정이 수행되는 공정라인; 상기 공정라인 상측의 크린에어 순환경로 상에 설치된 필터; 상기 공정라인의 하측에 설치되어 상기 공정라인을 통과한 크린에어를 상기 공정라인 상측의 필터를 통과하여 상기 공정라인으로 다시 순환시키는 순환팬; 상기 순환팬과 필터 사이의 크린에어 순환경로 상에 설치되어 순환하는 크린에어의 온도를 조절하는 온도조절장치 및 상기 순환팬과 필터 사이의 크린에어 순환경로 상에 설치된 항균필터를 구비하여 이루어진 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면, 순환팬과 온도조절장치 사이에 설치되는 항균필터에 의해 안전한 환경이 형성되는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR100567621B1
公开(公告)日：2006-04-04
申请号：KR1020040000229
申请日：2004-01-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
CPC classification number: G01N1/22 , G01M3/223 , Y10T137/0419 , Y10T137/4259 , Y10T137/5762 , Y10T137/7062
Abstract: 공정 가스 또는 케미컬을 전달하기 위한 배관들에 설치된 연결부들로부터 누설된 오염물의 확산을 방지하기 위한 오염 제어 장치가 개시되어 있다. 상기 오염 제어 장치는 상기 오염물의 확산을 방지하기 위해 각각의 연결부를 감싸도록 배치되는 커버와, 상기 커버와 상기 배관들 사이의 공간으로 외부 공기를 공급하기 위한 유입 포트와, 상기 공간으로 공급된 공기와 상기 오염물의 혼합 가스를 배출하기 위한 유출 포트를 포함한다. 상기 혼합 가스는 상기 유출 포트와 배기 덕트를 연결하는 연결 배관을 통해 배출되므로, 상기 오염물에 의한 작업 환경의 오염이 방지될 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020050071856A
公开(公告)日：2005-07-08
申请号：KR1020040000229
申请日：2004-01-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
CPC classification number: G01N1/22 , G01M3/223 , Y10T137/0419 , Y10T137/4259 , Y10T137/5762 , Y10T137/7062
Abstract: 공정 가스 또는 케미컬을 전달하기 위한 배관들에 설치된 연결부들로부터 누설된 오염물의 확산을 방지하기 위한 오염 제어 장치가 개시되어 있다. 상기 오염 제어 장치는 상기 오염물의 확산을 방지하기 위해 각각의 연결부를 감싸도록 배치되는 커버와, 상기 커버와 상기 배관들 사이의 공간으로 외부 공기를 공급하기 위한 유입 포트와, 상기 공간으로 공급된 공기와 상기 오염물의 혼합 가스를 배출하기 위한 유출 포트를 포함한다. 상기 혼합 가스는 상기 유출 포트와 배기 덕트를 연결하는 연결 배관을 통해 배출되므로, 상기 오염물에 의한 작업 환경의 오염이 방지될 수 있다.
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公开(公告)号：KR100490594B1
公开(公告)日：2005-05-19
申请号：KR1020030010164
申请日：2003-02-18
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67393 , H01L21/67017 , H01L21/67769
Abstract: 외부 오염원으로부터 피 보관체를 안전하게 보관할 수 있는 보관 방법과 보관함 및 스토커를 포함하는 보관 장치가 개시되어 있다. 적어도 하나의 보관함의 외부로부터 가스를 공급하고, 보관함과 연통되는 제1 밸브를 개방한 후, 제1 밸브를 통하여 보관함 내부로 가스를 분사한다. 보관함 내부의 가스 압력을 상승시켜 보관함과 연통되는 제2 밸브를 개방하여 보관함 내부의 가스를 외부로 배출한다. 상기 스토커의 일측은 개방되며, 타측에는 가스 공급관이 설치된다. 스토커에 수용되는 보관함의 일측에는 가스 차단밸브가 장착된 가스 공급부가 설치되고, 타측에는 가스 차단밸브가 장착된 가스 배출부가 설치된다. 보관함 내부에 원활한 가스흐름을 유도함으로써 피 보관체 주위의 오염원을 효과적으로 제거할 수 있으며, 보관함 외부의 오염원이 내부로 유입되는 것도 방지하여 피 보관체를 안전하게 보관할 수 있다.
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