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公开(公告)号：KR100203405B1
公开(公告)日：1999-06-15
申请号：KR1019950067539
申请日：1995-12-29
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은 반도체소자의 제조공정중 웨이퍼를 이송장비에 관한 것으로 특히 웨이퍼가 장착된 캐리어를 안전하게 이동 또는 보관을 위하여 사용되는 웨이퍼 캐리어 박스에 관한 것이다.
종래의 캐리어 박스는 캐리어의 유동으로 파티클을 유발하여 웨이퍼를 가장 안전하게 보관하거나 이송해야할 자체가 오염소스가 되고 외관이 쉽게 손상되어 장비의 수명이 단축되는 문제점들이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로 박스내의 바닥과 측면에 보강한 리브와, 커버에 캐리어를 고정하는 고정핀과, 커버에 분리되도록 형성한 봉투 고정핀으로 구성하여, 캐리어의 유동을 방지하고 파손되기 쉬운 부위를 교체가능하도록 형성하여 웨이퍼의 오염을 막고 장비의 수명을 연장할 수 있도록 한 것이다.-
公开(公告)号：KR100164529B1
公开(公告)日：1998-12-15
申请号：KR1019960024194
申请日：1996-06-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: B01D47/00
CPC classification number: B01D53/002 , B01D49/02
Abstract: 본 발명은 배출 가스 처리 장치 및 방법에 관한 것으로서, 소정의 공정을 거친 후 메인 덕트로 배출되는 가스 중에 내포된 습기 또는 흄 등을 제거할 수 있는 습기 및 흄 제거 장치를 포함하는 배출 가스 처리 장치에 있어서, 상기 습기 및 흄 제거 장치는, 소정의 공정을 거친 가스가 유입 및 배출되는 가스 유입관 및 배기관과, 폐액이 드레인되는 배수관을 갖는 통체와, 상기 통체내에 유입된 배출 가스의 체적을 팽창시켜 온도를 강하시킬 수 있도록 상기 배출 가스를 확산시키는 제1온도 강하 수단과, 상기 제1온도 강하 수단을 거쳐 배출되는 가스의 주위 압력을 낮추어 온도를 재차 강하시킬 수 있도록 소정의 가스를 가속 공급시키는 제2온도 강하 수단과, 상기 제1, 2온도 강하 수단에 의하여 액화된 가스에 내포된 습기 기타 불순물이 걸러지는 집진대� �� 구비하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명에 의하면, 배출 가스 중에 포함된 습기 및 흄 등이 완전히 제거될 수 있으므로 덕트의 부식을 방지하게 됨으로써 설비 유지비를 절감할 수 있고, 나아가 환경 오염을 더욱 효과적으로 예방할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1019960042907A
公开(公告)日：1996-12-21
申请号：KR1019950013250
申请日：1995-05-25
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: 개방형(Open) 세라믹 핑거에서 잠금장치 역활을 부가하여 처지거나 빠지는 현상(sagging)방지용으로 더브테일 형상의 돌기와 인입홈이 형성되고 상기 각돌기와 인입홈에는 와이어 안착홈이 형성된 것을 특징으로 하는 폐쇄형(Close-Type) 세라믹 핑거를 제공하였다. 세라믹 핑거를 더브테일 형상의 폐쇄형(Closed type)으로 제작하여 처지거나 빠지는(sagging) 현상에 적절하게 대응할 수 있을 뿐만 아니라, 함유량 보강으로 내구성 향상 및 열 팽창에도 견딜 수 있도록 조치 하였으며 또한, 처지거나 빠지는(sagging) 현상이 저온 가열 용기(Low-Temp Heating Chamber)보다는 고온 가열 용기(High Temp Heating Chamber)에서 심하고 플랫 영역(Flat-Zone)보다는 양쪽 말단영역(END-Zone)쪽에서 집중 발생되며 특히 터미널 용접 부위가 더 심하므로 이에 따라 적절히 지지부재의 폭을 조절하여 세라믹 핑거를 제공할 수 있게 되었다.
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