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公开(公告)号：KR1020150028184A
公开(公告)日：2015-03-13
申请号：KR1020140053519
申请日：2014-05-02
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: A47L5/225 , A47L5/26 , A47L5/28 , A47L9/1616 , A47L9/2878 , A47L9/322 , A47L9/325
Abstract: 본 발명은 제 1 청소모듈과, 제 1 청소모듈에 분리 가능하게 결합되는 제 2 청소모듈을 포함한 진공 청소기에 관한 것으로, 제 1 청소모듈은 제 1 팬모터 및 제 1 집진유닛을 포함하고, 제 2 청소모듈은 제 2 팬모터 및 제 2 집진유닛을 포함하므로, 업라이트 방식으로 청소를 수행할 경우에는 충분히 큰 흡입력으로 청소할 수 있으며, 제 2 청소모듈을 분리하여 핸디 방식으로 청소를 수행할 경우에는 용이하게 제 2 청소모듈을 들고 청소할 수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种真空吸尘器。 真空吸尘器包括第一清洁模块和联接到第一清洁模块以与之分离的第二清洁模块。 第一清洁模块包括第一风扇电动机和第一集尘单元。 第二清洁模块包括第二风扇电动机和第二集尘单元。 因此，在以直立方式进行清洁的情况下，真空吸尘器能够使用户以足够的吸力进行清洁，并且在分离第二清洁模块并以便利的方法进行清洁的情况下，真空吸尘器 用户可以轻松地按住第二个清洁模块进行清洁。
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公开(公告)号：KR101387267B1
公开(公告)日：2014-04-18
申请号：KR1020070082028
申请日：2007-08-14
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본 발명은 영상을 확대하는 것에 관한 것으로, 특히 양선형 보간법(Bilinear interpolation)으로 임의의 영상을 확대하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명에서, 영상 확대가 요청되면, 영상을 확대하며, 상기 확대된 영상의 화소들 중에서 보간해야 하는 화소들을 검색하고, 상기 검색된 화소들 각각에 대응되는 선형 가중치들을 계산하며, 비트연산을 위해 상기 계산된 선형 가중치들 각각을 2의 거듭제곱들을 나눈 값인 근사 선형 가중치들로 변환하고, 상기 변환된 근사 선형 가중치들을 각각을 근사 선형 보간식에 반영하여 근사 선형 보간식을 생성하며, 상기 생성된 근사 선형 보간식을 비트연산의 근사 선형 보간식으로 변환하고, 상기 비트연산을 처리하여 상기 검색된 화소들 각각에 대응되는 화소값들을 계산한 후, 상기 검색된 화소들을 보간함을 특징으로 한다.
영상 처리, 양선형 보간법(Bilinear interpolation), 화소, 고속 양선형 보간법(High speed bilinear interpolation)-
公开(公告)号：KR1020120106147A
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：KR1020110024048
申请日：2011-03-17
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027 , H01L21/302
CPC classification number: G03F1/82 , H01L21/0274 , G03F7/70925 , H01L21/0337 , H01L21/302
Abstract: PURPOSE: A photomask cleaning device is provided to extend the lifetime of a photomask by cleaning only desired area without damage to an optical pattern area. CONSTITUTION: A photomask cleaning device includes a photomask chuck and a nozzle set(50a). The nozzle set is installed on end of a cleaning arm(30a). The nozzle set includes a first nozzle and a second nozzle. The first nozzle includes a first external case and a first internal tube. The second nozzle includes a second external case and a second internal tube. A fluid supplying path(40a) is formed in the cleaning arm to supply fluid and air to the nozzle set. A header(25) is supported by a support section(23).
Abstract translation: 目的：提供光掩模清洁装置以通过仅清洁所需区域而不损坏光学图案区域来延长光掩模的寿命。 构成：光掩模清洁装置包括光掩模卡盘和喷嘴组（50a）。 喷嘴组安装在清洁臂（30a）的末端。 喷嘴组包括第一喷嘴和第二喷嘴。 第一喷嘴包括第一外壳和第一内管。 第二喷嘴包括第二外壳和第二内管。 在清洁臂中形成流体供给路径（40a），以将流体和空气供给到喷嘴组。 集管（25）由支撑部分（23）支撑。
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公开(公告)号：KR1020100120799A
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：KR1020090039618
申请日：2009-05-07
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: A47L5/28 , A47L9/1691 , A47L9/10 , A47L9/00 , A47L9/16
Abstract: PURPOSE: A vacuum cleaner of a double locking structure is provided to facilitate the emptying of a dust bin and the maintenance of a filter since the dust bin and a filter case are independently separated and installed. CONSTITUTION: A vacuum cleaner(1) of a double locking structure comprises a dust bin(200), a coupling unit(400) and a second locking member(210). At least one first locking member is formed on the dust bin. The coupling unit changes the dust bin to a fixed state or a non-fixed state. The second locking member is connected to the first locking member so that the dust bin is not installed/separated by the load in the non-fixed state of the coupling unit. The first locking member is sunk from the lower part to a given height of the upper part of the outer side of the dust bin.
Abstract translation: 目的：提供双重锁定结构的真空吸尘器，以便排空垃圾箱和过滤器的维护，因为垃圾箱和过滤器箱独立分离和安装。 构成：双重锁定结构的真空吸尘器（1）包括垃圾箱（200），联接单元（400）和第二锁定构件（210）。 至少一个第一锁定件形成在垃圾箱上。 联接单元将垃圾箱更改为固定状态或非固定状态。 第二锁定构件连接到第一锁定构件，使得在联接单元的非固定状态下，垃圾箱不被负载安装/分离。 第一锁定构件从下部到吸尘器外侧上部的给定高度下沉。
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公开(公告)号：KR1020100033325A
公开(公告)日：2010-03-29
申请号：KR1020080102584
申请日：2008-10-20
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: A47L9/1691 , A47L5/28 , A47L9/12 , A47L9/1666 , A47L9/1683 , A47L9/325
Abstract: PURPOSE: A vacuum cleaner is provided, which can improve convenience of a user by improving separation and mounting structure of a garbage collecting can. CONSTITUTION: A vacuum cleaner comprises a main body(100), a dust collector, a first garbage collecting can(120), a second garbage collecting can(130), and a locking device(200). The dust collector is fixed to the cleaner body. The first garbage collecting can is attachably and detachably installed to the cleaner body, is arranged in the lower part of the dust collector, and collects large waste. The second garbage collecting can is attachably and detachably installed to the cleaner body, is arranged in the lower part of the first garbage collecting can, and collects small waste. The locking device has first and second positions.
Abstract translation: 目的：提供一种吸尘器，通过改善垃圾收集罐的分离和安装结构，可以提高使用者的便利性。 构成：吸尘器包括主体（100），集尘器，第一垃圾收集罐（120），第二垃圾收集罐（130）和锁定装置（200）。 集尘器固定在清洁器主体上。 第一个垃圾收集罐可拆卸地安装在清洁器主体上，布置在集尘器的下部，并收集大量废物。 第二垃圾收集罐可拆卸地安装在清洁器主体上，布置在第一垃圾收集罐的下部，并收集小废物。 锁定装置具有第一和第二位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020070088135A
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：KR1020060018347
申请日：2006-02-24
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32504 , H01J37/32467
Abstract: An apparatus for treating a substrate is provided to reduce an error rate due to impurities generated from a substrate treating process by using plasma. A chamber(10) includes a reaction space for forming plasma. A substrate is loaded into the reaction space. A ceramic coating layer(13) is formed on a part of an inner surface of the chamber. An electrode is positioned in the inside of the chamber. The ceramic coating layer includes at least one of alumina oxide and yttrium oxide. The ceramic coating layer is formed by a spraying method. The chamber includes an outer wall(11) and an inner wall(12) contacting the reaction space. The inner wall is separated from the outer wall. The ceramic coating layer is formed in the inner wall. The inner wall is formed with aluminum and is processed by an anodization method.
Abstract translation: 提供了一种用于处理基板的设备，以减少由于使用等离子体而由基板处理工艺产生的杂质引起的误差率。 室（10）包括用于形成等离子体的反应空间。 将底物装入反应空间。 在室的内表面的一部分上形成陶瓷涂层（13）。 电极位于腔室的内部。 陶瓷涂层包括氧化铝和氧化钇中的至少一种。 通过喷涂法形成陶瓷涂层。 该室包括与反应空间接触的外壁（11）和内壁（12）。 内壁与外壁分离。 陶瓷涂层形成在内壁上。 内壁由铝形成，并通过阳极氧化法进行处理。
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公开(公告)号：KR1020070000241A
公开(公告)日：2007-01-02
申请号：KR1020050055813
申请日：2005-06-27
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 조정희
IPC: H01L21/02
Abstract: A remote control system and a method of semiconductor device manufacturing equipment are provided to enhance a remote control speed of the equipment and to perform stably a remote controlling process on the equipment regardless of the kind of an OS(Operating System). A remote control system includes semiconductor device manufacturing equipment, an interface, and a remote control apparatus. The semiconductor device manufacturing equipment(100) includes a plurality of input/output apparatuses(120) for transmitting data to the outside. The interface(200) is used for receiving the data from the input/output apparatuses, transforming the data into a predetermined data signal capable of being recognized by a network, and transmitting the predetermined data signal to the network. The remote control apparatus(300) is used for receiving the predetermined data signal from the network and checking and controlling an operation state of the equipment.
Abstract translation: 提供遥控系统和半导体器件制造设备的方法，以增强设备的远程控制速度，并且无论OS（操作系统）的种类如何，都能够对设备进行稳定的远程控制处理。 遥控系统包括半导体器件制造设备，接口和遥控设备。 半导体器件制造设备（100）包括用于向外部发送数据的多个输入/输出设备（120）。 接口（200）用于从输入/输出设备接收数据，将数据变换为能被网络识别的预定数据信号，并将预定的数据信号发送到网络。 远程控制装置（300）用于从网络接收预定的数据信号并检查和控制设备的操作状态。
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公开(公告)号：KR1020050082747A
公开(公告)日：2005-08-24
申请号：KR1020040011304
申请日：2004-02-20
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02F1/13
Abstract: 플라즈마 가공 장치에서, 외부로부터 로딩된 기판을 가공하는 가공 챔버 내에는 하부전극과 상부전극이 구비된다. 하부전극은 다수의 하부전극셀로 이루어져 로딩된 기판을 지지한다. 하부전극은 다수의 하부전극셀 단위로 분리 가능하다. 상부전극은 하부전극과 마주하여 플라즈마 가스를 발생한다. 따라서, 하부전극의 소정 부분이 손상될 경우 다수의 하부전극셀 중 손상된 부분에 대응하는 어느 하나의 하부전극셀 만을 교체하거나 재가공할 수 있다.
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公开(公告)号：KR100439472B1
公开(公告)日：2004-07-09
申请号：KR1020010070565
申请日：2001-11-13
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 조정희
IPC: H01L21/66
CPC classification number: H01L22/20 , G03F7/70533 , G03F7/70633 , G06T7/001 , G06T7/73 , G06T2207/30148 , H01L21/67253
Abstract: 공정 에러를 최소화하기 위한 공정 에러 측정 방법 및 장치와 이를 이용한 오버레이 측정 방법 및 장치가 개시되어 있다. 소정의 단위 공정이 완료된 피측정물 상에 적어도 2 부분의 영역을 지정한다. 상기 각 영역에서 공정 에러값들을 각각 출력한다. 상기 공정 에러값들로 부터 각 영역에서의 보정값들을 각각 계산한다. 상기 계산된 보정값들을 이 전에 수행한 단위 공정 장치에 피드백하는 반도체 공정 에러 측정 방법을 제공한다. 상기 각각의 공정 에러값들은 머지되어 하나의 파일을 생성하여 출력된다. 따라서, 피측정물 상의 영역별로 보정값을 각각 반영함으로서, 단위 공정 시에 피측정물의 각 영역별로 발생되는 공정 불량을 최소화할 수 있다.
Abstract translation: 在用于测量能够减少处理误差的过程误差的方法和装置中，以及用于测量覆盖层的方法和装置，至少两个区域被分配给已经通过预定单元处理的待测对象 。 检测每个区域的过程误差值。 基于过程误差值计算每个区域的误差校正值。 将计算出的误差校正值反馈到执行预定单元处理的设备。 过程错误值被合并并输出为一个文件。 形成在对象上的每个区域的误差校正值反映在执行单位处理的装置中，因此当执行单位处理时可以减少在对象的每个区域中产生的处理失败。
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公开(公告)号：KR1020030039599A
公开(公告)日：2003-05-22
申请号：KR1020010070565
申请日：2001-11-13
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 조정희
IPC: H01L21/66
CPC classification number: H01L22/20 , G03F7/70533 , G03F7/70633 , G06T7/001 , G06T7/73 , G06T2207/30148 , H01L21/67253
Abstract: PURPOSE: A method for measuring a process error is provided to minimize a process error occurring in each area of a measuring target by feeding back a correction value in each area on the measuring target so that the correction value is reflected in a unit process. CONSTITUTION: At least two areas on the measuring target on which a predetermined unit process is finished are designated(S10). A process error value in each area is detected(S12). A correction value in each area is calculated from the process error value(S14). The calculated correction value is fed back to a previous unit process apparatus(S16).
Abstract translation: 目的：提供一种测量过程误差的方法，通过反馈测量目标上每个区域中的校正值来最小化在测量目标的每个区域中出现的过程误差，从而校正值反映在单位过程中。 规定：指定在预定单元处理完成的测量目标上的至少两个区域（S10）。 检测各区域的处理误差值（S12）。 根据处理误差值计算出各区域的校正值（S14）。 将计算出的校正值反馈到先前的单位处理装置（S16）。
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