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公开(公告)号：WO2019022431A1
公开(公告)日：2019-01-31
申请号：PCT/KR2018/008110
申请日：2018-07-18
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 청소 효율을 향상시킨 청소기를 제공한다. 청소기는 본체, 피청소면의 이물질을 흡입할 수 있도록 마련되는 흡입장치 및 상기 흡입장치의 후방에 위치되도록 상기 본체와 상기 흡입장치를 연결하는 연장부재를 포함하고, 상기 흡입장치는 흡입구를 포함하는 흡입헤드, 상기 흡입헤드와 상기 연장부재를 연결하는 연결부재 및 상기 흡입장치가 피청소면을 따라 이동할 때 상기 흡입구가 피청소면으로부터 들뜨는 것을 방지할 수 있도록, 상기 흡입장치의 내부에 수용되고, 상기 흡입구와 상기 연장부재 사이에 배치되는 웨이트를 포함한다.
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公开(公告)号：WO2010140864A3
公开(公告)日：2010-12-09
申请号：PCT/KR2010/003605
申请日：2010-06-04
Abstract: 본 발명은 스테레오 영상을 처리하기 위한 장치 및 방법에 관한 것으로서, 일정 거리 이격되어 설치되는 제 1 카메라 모듈과 제 2 카메라 모듈을 통해 제 1 이미지와 제 2 이미지를 획득하는 과정과, 상기 스테레오 영상을 촬영하는 경우, 미리 정해진 시간 간격으로 제 1 이미지와 제 2 이미지를 교번(alternative)하게 샘플링하는 과정과, 상기 샘플링한 적어도 하나의 제 1 이미지와 적어도 하나의 제 2 이미지를 부호화하는 과정을 포함하여 2차원 영상 압축 기술을 사용하여 스테레오 영상 압축할 때보다 낮은 복잡도로 스테레오 영상을 압축할 수 있는 이점이 있다.
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公开(公告)号：KR102219451B1
公开(公告)日：2021-02-24
申请号：KR1020140125437
申请日：2014-09-22
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 스토리지컨트롤러는제1 온-다이터미네이션(on-die termination, 이하 ODT) 회로, 제2 ODT 회로및 ODT 제어회로를포함한다. 상기제1 ODT 회로는데이터스트로브신호가전달되는스트로브신호라인에제1 종단저항을제공한다. 상기제2 ODT 제어회로는데이터가전달되는적어도하나의데이터라인에제2 종단저항을제공한다. 상기 ODT 제어회로는상기제1 ODT 회로와상기제2 ODT 회로의활성화와비활성화를개별적으로제어한다.
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公开(公告)号：KR1020170019196A
公开(公告)日：2017-02-21
申请号：KR1020150113288
申请日：2015-08-11
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G06F19/3481 , G06F19/00 , G09B5/02 , G09B19/003 , G09B19/0038
Abstract: Various embodiments of the present invention relate to a device and a method to provide an exercise service in an electronic device. According to the present invention, the electronic device comprises: a communication module; a memory to store a plurality of algorithms for analyzing user activities; and a processor. The processor: acquires activity schedule information associated with user activity; selects at least one recognition algorithm from the plurality of recognition algorithms at least based on the activity schedule information; and uses the at least one recognition algorithm to analyze the activity information associated with the user activity, so as to provide activity guide information associated with the user activity. Other embodiments can be possible.
Abstract translation: 本发明的各种实施例涉及在电子设备中提供锻炼服务的设备和方法。 根据本发明，该电子设备包括：通信模块; 存储器，用于存储用于分析用户活动的多个算法; 和一个处理器。 处理器：获取与用户活动相关的活动时间表信息; 至少基于活动调度信息从多个识别算法中选择至少一个识别算法; 并且使用至少一个识别算法来分析与用户活动相关联的活动信息，以便提供与用户活动相关联的活动指导信息。 其他实施例是可能的。
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公开(公告)号：KR100834832B1
公开(公告)日：2008-06-03
申请号：KR1020060119040
申请日：2006-11-29
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02 , H01L21/027
CPC classification number: H01L22/12 , G03F7/70625 , G03F7/70633
Abstract: A method for measuring a critical dimension of a pattern by using an overlay measuring apparatus is provided to enhance reliability of a semiconductor memory device by measuring accurately an open size of a fuse box. A scanning range of a z-axis of an overlay measuring apparatus is determined by using pattern thickness information(106). A step pitch of the overlay measuring apparatus is inputted and X and Y coordinates of a reticle to the pattern are inputted(108,110). A size of the pattern is inputted into the overlay measuring apparatus and a position of a measuring target pattern of the patterns is inputted(112,114). Thickness information of a passivation layer is inputted(116). The size of the pattern is measured and a high quality condition is inputted(118). A top region size of the pattern is measured and a position of a z-axis focus at a fuse box top region is stored(120,122). A pattern size of a succeeding lot is measured by using stored information(124). The measured pattern size of the succeeding lot is compared with the high quality condition(128).
Abstract translation: 提供了一种通过使用覆盖测量装置来测量图案的临界尺寸的方法，以通过精确地测量保险丝盒的开口尺寸来增强半导体存储器件的可靠性。 通过使用图案厚度信息（106）确定覆盖测量装置的z轴的扫描范围。 输入覆盖测量装置的步距，并输入掩模版的X和Y坐标（108,110）。 将图案的尺寸输入到重叠测量装置中，并且输入图案的测量对象图案的位置（112,114）。 输入钝化层的厚度信息（116）。 测量图案的尺寸并输入高质量条件（118）。 测量图案的顶部区域尺寸并存储在保险丝盒顶部区域处的z轴焦点的位置（120,122）。 通过使用存储的信息来测量后续批次的图案尺寸（124）。 将后续批次的测量图案尺寸与高质量条件（128）进行比较。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020070020743A
公开(公告)日：2007-02-22
申请号：KR1020050074960
申请日：2005-08-16
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/3244 , C23C16/505 , H01J37/32559 , H01L21/67069
Abstract: 본 발명은 전극에 아크가 발생되는 것을 미연에 막을 수 있을 뿐만 아니라 반응 가스의 확산을 보다 향상시킬 있는 플라즈마 공정 장치를 제공하는 것이 그 기술적 과제이다. 이를 위해, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 공정 장치는, 작업 챔버가 형성된 바디와, 작업 챔버의 일측에 위치되며 작업 챔버에 고주파 에너지를 인가하기 위해 외부 전원과 연결되는 제1 전극과, 그리고 작업 챔버의 일측에 대향되는 타측에 위치되며 접지되는 제2 전극을 포함하고, 제1 전극에는 작업 챔버로 반응 가스를 분사시키기 위한 분사공이 형성되고, 그리고 제1 전극의 저면과 분사공의 내주면 사이에는 라운드 처리된다.
플라즈마, 전극, 반응 가스, 분사공-
公开(公告)号：KR100611069B1
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：KR1020000042684
申请日：2000-07-25
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 조정희
IPC: H01L21/027
Abstract: 오버레이 보정 및 정렬 보정 기능을 갖는 얼라인 마크를 형성하고, 상기 얼라인 마크를 이용하여 오버레이 보정 및 정렬 보정을 수행하는 방법이 개시되어 있다. 상기 얼라인 마크는 3개의 동심적인 박스형 마크로 구성된다. 상기 얼라인 마크가 기판 상의 소정 위치에 형성되면, 상기 박스형 마크의 좌변, 우변, 상변, 및 하변의 좌표를 파악하여 기판의 X축 및 Y축 좌표를 인식한다. 상기 인식된 X, Y축 좌표는 프리셋된 좌표값에 비교되며, 이를 상기 프리셋된 좌표값에 일치시키므로써 정렬보정이 이루어진다. 오버레이 보정은 노광 후 상기 박스형 마크 내에 형성되는 이너 박스와 박스형 마크 사이의 간격을 검출하고, 이를 프리셋된 수치와 비교, 일치시키는 과정을 통해 이루어진다. 레티클의 제조가 용이해지며, 공정 시간이 단축되고, 생산성을 향상시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR100577568B1
公开(公告)日：2006-05-08
申请号：KR1020040079766
申请日：2004-10-07
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 조정희
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70633 , H01L23/544 , H01L2223/54453 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 본 발명은 생산 수율을 증대 또는 극대화할 수 있는 오버레이 측정방법 및 그에 사용되는 오버레이 마크를 개시한다. 그의 방법은, 소정의 단위 공정이 완료된 웨이퍼를 정렬하는 단계; 상기 웨이퍼 상에 형성된 오버레이 마크를 측정하는 단계; 상기 웨이퍼의 오버레이 측정이 처음으로 수행되었는지를 확인하는 단계; 및 상기 오버레이 측정이 처음으로 수행되었을 경우, 상기 웨이퍼의 중심과 상기 오버레이 마크의 중심간의 거리를 이용하여 오버레이 데이터를 검출하는 단계를 포함함에 의해 웨이퍼의 초기 오버레이 측정 시 오버레이 데이터를 산출토록 하여 이를 후속의 포토 리소그래피 공정에 적용할 수 있기 때문에 생산 수율을 향상시킬 수 있다.
포토레지스트(photo-resist), 오버레이(overlay), 이너 마크(inner mark), 아웃 마크(outer mark)-
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公开(公告)号：KR1020020045296A
公开(公告)日：2002-06-19
申请号：KR1020000074699
申请日：2000-12-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: PURPOSE: A wafer chuck is provided to reduce a vacuum error rate by improving a structure of a wafer vacuum absorbing portion. CONSTITUTION: A multitude of vacuum absorbing hole(123) is formed on an upper portion of a main body(100) in order to absorb a wafer(200). The main body(100) has a shape of a disc. A circulating flow path(120) is formed on a wafer loading portion of a surface of the main body(100). A connection hole is formed at a lower portion of a center of the circulating flow path(120). The connection hole is connected with an external vacuum system. The circulating flow path(120) is formed with a multitude of linear flow path(121) and three ring-shaped flow paths(122). The ring-shaped flow paths(122) have different diameters, respectively. The vacuum absorbing hole(123) is formed at a crossing portion between the linear flow path(121) and the ring-shaped flow paths(122).
Abstract translation: 目的：提供晶片卡盘以通过改善晶片真空吸收部分的结构来降低真空误差率。 构成：为了吸收晶片（200），在主体（100）的上部形成有多个真空吸收孔（123）。 主体（100）具有盘的形状。 在主体（100）的表面的晶片装载部分上形成有循环流路（120）。 连接孔形成在循环流路（120）的中心的下部。 连接孔与外部真空系统连接。 循环流路（120）形成有多个线性流路（121）和三个环形流路（122）。 环形流路（122）分别具有不同的直径。 真空吸收孔123形成在线状流路121与环状流路122的交叉部。
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