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公开(公告)号:KR1020110137603A
公开(公告)日:2011-12-23
申请号:KR1020100057621
申请日:2010-06-17
Applicant: 숭실대학교산학협력단 , 서울대학교산학협력단
CPC classification number: G06Q30/0601 , G06F21/31 , G06K17/0025 , G06Q10/047
Abstract: PURPOSE: A smart cart interlocking apparatus and method thereof are provided to shorten shopping time by setting up shopping routes about each smart cart by classifying groups corresponding to the number of smart carts. CONSTITUTION: A user authenticator(110) compares user information with customer information and authenticate the user of a main smart cart. A cart interlocking unit(120) receives sub smart cart information which is interlocked with the main smart cart. The cart interlocking unit interlocks the main smart cart and the sub smart cart. A route setup unit(130) transmits a movement route to the main smart cart and the sub smart cart.
Abstract translation: 目的:提供一种智能车联锁装置及其方法,通过对与智能车数量相对应的组进行分类来设置关于每个智能车的购物路线来缩短购物时间。 规定:用户认证器(110)将用户信息与客户信息进行比较,并认证主智能车的用户。 车联锁单元(120)接收与主智能车互锁的辅助智能车信息。 推车互锁单元将主智能车和副智能车互锁。 路线设置单元(130)将移动路线发送到主智能车和子智能车。
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公开(公告)号:KR102002612B1
公开(公告)日:2019-07-22
申请号:KR1020170139512
申请日:2017-10-25
Applicant: 서강대학교산학협력단 , 서울대학교산학협력단
IPC: A61K9/00 , A61K9/51 , A61K31/5575
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公开(公告)号:KR101880790B1
公开(公告)日:2018-08-16
申请号:KR1020150048982
申请日:2015-04-07
Applicant: 서강대학교산학협력단 , 서울시립대학교 산학협력단 , 서울대학교산학협력단 , 서울대학교병원
IPC: A61K47/30 , A61K47/36 , A61K48/00 , C12N15/113
CPC classification number: A61K47/30 , A61K47/36 , A61K48/00 , C12N15/113
Abstract: 본발명은자기조립되어응축된고분자량의 siRNA 코어입자와외부를양이온성고분자와히알루론산으로순착적으로코팅하여망막내부로다량의 siRNA를효율적으로전달하는입자및 이의제조방법에관한것이다. 본발명의코어에는 1×10개이상의상기작은간섭 RNA(siRNA) 또는안티센스핵산(antisense nucleic acids)을포함하므로종래에비해많은양의 siRNA를전달할수 있다. 본발명은외곽(쉘)을 (-) 전하를띄는히알루론산으로코팅을함으로서 (-) 전하를띄고있는유리체 meshwork 구조물질들과 aggregation을방지하고망막의 inner limiting membrane 에도달할수 있다. 또한히알루론산은뮬러(Muller) 세포의 CD44 receptor와결합하여망막의구조를트랜스시토시스기작으로 sub-retinal space 에통과할수 있다. 일부는 Muller 세포내에서표적유전자의 mRNA의해석(translation)을억제하고많은부분은다시 retinal pigment epithelial(RPE) 세포막에존재하는 CD44 receptor와결합하여세포내로들어가 RPE 내에서표적유전자의 mRNA의해석(translation)을또한억제한다.
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公开(公告)号:KR1020150129873A
公开(公告)日:2015-11-23
申请号:KR1020140056221
申请日:2014-05-12
Applicant: 서강대학교산학협력단 , 서울대학교병원 , 서울대학교산학협력단
Abstract: 본발명은유전체약물을응축시켜입자화하고외부를히알루론산으로코팅하여망막에유전체약물을효율적으로전달하는나노입자및 이의제조방법에관한것이다. 본발명은코어와이를둘러싸는외곽(쉘) 구조를가지는유전체약물전달용나노입자로서, siRNA 등핵산을폴리머형태로비독성의양이온성고분자와응축시켜코어를형성함에따라핵산이효소에의해쉽게분해되지않고안정적으로망막신경세포에도달할수 있으며, 또한, 외곽(쉘)을 (-) 전하를띄고뮬러세포와반응하는히알루론산으로코팅하여망막을트랜스시토시스(transcytosis)하여통과할수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及通过将药物基因缩合成颗粒并用透明质酸涂覆其外侧而将药物基因有效递送到视网膜的纳米粒子,以及纳米粒子的制造方法。 本发明提供了具有核和外(壳)结构的药物基因递送的纳米颗粒,其防止核酸容易地被酶分解,并通过将核酸冷凝形成核来稳定地将核酸递送到视网膜神经细胞 作为具有聚合物形式的无毒阴离子聚合物的siRNA等。 此外,本发明的纳米颗粒可以透过透视,通过用具有负电荷的透明质酸涂覆外侧(壳)并与Muller细胞反应,穿透视网膜。
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公开(公告)号:KR101101925B1
公开(公告)日:2012-01-02
申请号:KR1020080133431
申请日:2008-12-24
Applicant: 서울대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 e-빔 및 SOI기판을 사용하지 않고 실리콘 기판의 측벽에 형성된 보호층 패턴과 통상적인 식각 공정을 이용하여 단결정실리콘 나노 와이어를 제조할 수 있는 나노 와이어 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, e-빔 및 SOI기판을 사용하지 않고 통상적인 포토리쏘그래피공정 및 반도체 기판을 사용하므로 나노와이어의 제조 비용을 절감할 수 있다.
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公开(公告)号:KR1020100074883A
公开(公告)日:2010-07-02
申请号:KR1020080133431
申请日:2008-12-24
Applicant: 서울대학교산학협력단
CPC classification number: H01L21/02603 , H01L21/02554 , H01L21/0274 , H01L21/28 , H01L21/30604 , H01L21/3065
Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of a nanowire is provided to manufacture the single-crystal silicon nanowire using a protective layer pattern formed on the side wall of a silicon substrate, and an etching process. CONSTITUTION: A manufacturing method of a nanowire comprises the following steps: forming more than grooves on a substrate(100); forming a protective layer pattern on upper side wall of the grooves; forming a lower side wall of the grooves by etching the lower side of the grooves using the protective layer pattern as an etching mask; etching the lower side wall of the grooves; removing the protective layer pattern; and etching the substrate in between two grooves to form the nanowire(130).
Abstract translation: 目的:提供一种纳米线的制造方法,以使用形成在硅衬底的侧壁上的保护层图案和蚀刻工艺来制造单晶硅纳米线。 构成:纳米线的制造方法包括以下步骤:在基板(100)上形成多于凹槽; 在槽的上侧壁上形成保护层图案; 通过使用保护层图案蚀刻凹槽的下侧作为蚀刻掩模来形成凹槽的下侧壁; 蚀刻凹槽的下侧壁; 去除保护层图案; 并且在两个沟槽之间蚀刻所述衬底以形成所述纳米线(130)。
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