Abstract:
본 발명은 광흡수용 나노입자에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 Cu 2 ZnSn(S,Se) 4 나노입자(이하 "CZTSS 나노입자")에 관한 것이다. 본 발명은 독성물질을 사용하지 않으면서도 저가 범용원소를 이용하여 합성된 CZTSS 나노입자 전구체 및 그 제조방법과 상기 전구체를 이용한 CZTSS 나노입자 및 그 제조방법을 제공한다.
Abstract:
형광체를 포함하는 태양전지 및 이의 제조방법을 제공한다. 상기 태양전지는하부전극, 상기 하부전극 상에 배치되는 패턴 형광체층, 상기 패턴 형광체층의 전면에 배치되는 광흡수층, 상기 광흡수층 상에 배치되는 투명전극층 및 상기 투명전극층 상에 배치되는 상부전극을 포함하고, 상기 태양전지의 제조방법은 기판 상에 하부전극을 형성하는 단계, 상기 하부전극 상에 패턴 형광체층을 형성하는 단계, 상기 패턴 형광체층의 전면에 광흡수층을 형성하는 단계, 상기 광흡수층 상에 투명전극층을 형성하는 단계 및 상기 투명전극층 상에 상부전극을 형성하는 단계를 포함하여, 광흡수층에 흡수되지 않고 하부전극에 도달하여 반사되는 특정 파장 대역의 광을 흡수한 후, 약 500nm ∼ 800nm의 가시광선 파장 대역의 광으로 파장 변환시켜 광흡수층에 공급함으로써, 태양전지의 광전류 밀도를 증가시키고, 이로써 광전 변환효율을 향상시킬 수 있다.
Abstract:
레이저 리소그래피를 이용하여 3차원 구조의 광흡수층을 가지는 태양전지를 제조하는 방법이 개시된다. 이는 하부구조 상에 하부구조의 표면을 노출시키는 다수개의 노출부를 가지는 포토레지스트 마스크를 형성하는 단계와, 하부구조의 노출된 표면에 광흡수층의 일부 또는 전부를 위한 기둥형 전구체층을 형성하는 단계를 포함하며, 포토레지스트 마스크의 형성은 레이저 리소그래피를 이용한다. 이러한 레이저 리소그래피는 경제적인 제조비용으로 3차원 구조의 다양한 광흡수층을 정밀하게 형성할 수 있다.
Abstract:
레이저 리소그래피를 이용하여 3차원 구조의 광흡수층을 가지는 태양전지를 제조하는 방법이 개시된다. 이는 하부구조 상에 하부구조의 표면을 노출시키는 다수개의 노출부를 가지는 포토레지스트 마스크를 형성하는 단계와, 하부구조의 노출된 표면에 광흡수층의 일부 또는 전부를 위한 기둥형 전구체층을 형성하는 단계를 포함하며, 포토레지스트 마스크의 형성은 레이저 리소그래피를 이용한다. 이러한 레이저 리소그래피는 경제적인 제조비용으로 3차원 구조의 다양한 광흡수층을 정밀하게 형성할 수 있다.
Abstract:
형광체를 포함하는 태양전지 및 이의 제조방법을 제공한다. 태양전지는 후면 전극, 광흡수층, 버퍼층, 투명전극층 및 전면 전극이 순차 적층된 구조를 가지며, 상기 버퍼층 및 투명전극층 중 적어도 어느 하나는 형광체를 포함하고, 태양전지의 제조방법은 기판 상에 후면 전극, 광흡수층, 버퍼층, 투명전극층 및 전면 전극을 순차로 형성하되, 상기 버퍼층 및 상기 투명전극층 중 적어도 어느 하나에 형광체가 포함되도록 형성하여 투명전극층 및/또는 버퍼층에서 손실되는 파장 대역의 광을 흡수한 후 방출하여 광흡수층에 공급함으로써 약 500nm ∼ 800nm의 가시광선 파장 대역의 광흡수량을 증가시켜, 태양전지의 광전류 밀도를 향상시키고, 이는 태양전지의 광전변환 효율을 향상시킬 수 있다.
Abstract:
A solar cell including a phosphor and a method for manufacturing the same are provided. The solar cell has a structure of a rear electrode, a light absorption layer, a buffer layer, a transparent electrode layer, and a front electrode sequentially stacked, wherein at least one of the buffer layer and the transparent electrode layer includes a phosphor. The method for manufacturing the solar cell: sequentially forms the rear electrode, the absorption layer, the buffer layer, the transparent electrode layer, and the front layer on a substrate, forms at least one of the buffer layer and the transparent electrode layer to include the phosphor; and increases photocurrent density of the solar cell by increasing an amount of light absorption in a visible wavelength band of approximately 500-800 nanometers by supplying the light with a wavelength band lost in the transparent electrode layer and/or the buffer layer to the light absorption layer by absorbing and emitting the light, thereby can improve photoelectric conversion efficiency of the solar cell.
Abstract:
가스센서 및 이의 제조방법을 제공한다. 본 발명에 의한 가스센서는 p형 박막형 화합물 반도체층을 채용하여 화학적으로 안정하고, 신속하게 검출 대상 가스를 검지할 수 있으며, p형 박막형 화합물 반도체층의 치밀한 특성과 n형 다공성 화합물 반도체층의 다공질 특성으로 pn 접합 계면에서 가스 분자의 화학 반응이 용이하게 일어날 수 있고, 반응 시간 및 회복 시간이 감소될 수 있다. 또한, 본 발명에 의한 가스센서의 제조방법은 기판 상에 p형 화합물 반도체용 전구체 박막을 스퍼터링하여 증착하고, 전구체 박막을 열처리하는 단계를 통해 p형 박막형 화합물 반도체층을 형성하며, CBD(chemical bath deposition)법을 이용하여 p형 박막형 화합물 반도체층 상에 n형 금속 산화물 나노로드를 성장시키는 단계를 통해 n형 다공성 화합물 반도체층을 형성하여 간단하고 용이하게 우수한 특성을 갖는 가스센서를 제조할 수 있다.
Abstract:
본 발명은 광흡수 나노입자에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 독성물질을 사용하지 않아 친환경적이면서도 보다 저가의 공정을 통해 태양전지 박막에 사용될 수 있는 광흡수 나노입자 전구체 및 그 제조방법과 그 전구체를 이용한 고품질 광흡수 나노입자 및 그 나노입자 제조방법에 관한 것이다.
Abstract:
PURPOSE: A quaternary zinc oxide thin film, a method for manufacturing the same, and an electronic device comprising the same are provided to obtain a quaternary zinc oxide thin film with bandgap energy of 3.7eV or greater and a low specific resistance of 10^-3Ωcm through co-doping of magnesium and group III elements. CONSTITUTION: A quaternary zinc oxide thin film comprises magnesium and one or more of group III elements consisting of indium, gallium, and aluminum. In order to implement co-doping, the doping concentration of magnesium is fixed while the doping concentration of the group III element is controlled. The resistance value of the group III element ranges from 10×10^-3Ωcm to 7×10^-4Ωcm. [Reference numerals] (AA) Generally used TCO material ·Low specific resistance ·Wide band-gap energy ·In is rare metal and too expensive ·Low chemical thermal stability; (BB) ZnO is an inexpensive material ·ZnO has low specific resistance ·Using ZnO doped with group III element primarily·Expressing superior optical, electric characteristics(3.5-3.6eV, 10^-4Ωcm); (CC) Mg is a generally used band-gap engineering element ·Band-gap energy(3.3eV-5.0eV) of an MZO thin film ·High specific resistance(10^5Ωcm); (DD) Band-gap arrangement problem of a TCO (3.5eV)/ZnS(3.65eV)/CIGS(1.5eV)/Mo structure ·Embodiment of UV-LED( 10^-4Ωcm) is necessary