Abstract:
본 발명은 향상된 리튬이온 도핑 속도를 갖는 리튬이온 삽입/탈리용 전극을 제공한다. 또한, 본 발명은 상기 리튬이온 삽입/탈리용 전극을 음극으로서 채용한 리튬이온커패시터를 제공한다. 본 발명에서 제공하는 리튬이온 삽입/탈리용 전극은, 양면을 갖는 집전체로서, 금속 구리보다 높은 표준 환원 전위를 갖는 금속을 포함하는 집전체; 및 상기 집전체의 적어도 일면에 형성된 리튬이온 삽입/탈리용 활물질층;을 포함한다.
Abstract:
본 발명은 가교성 사다리형 폴리실세스퀴옥산을 이용한 유무기 하이브리드 겔 고분자 전해질의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 유무기 하이브리드 겔 고분자 전해질에 관한 것이다. 본 발명은 가교성 폴리실세스퀴옥산과 액상 전해질을 광 또는 열 개시로 겔화 반응시켜 유무기 하이브리드 겔 고분자 전해질을 제조하는 것을 특징으로 한다. 가교성 폴리실세스퀴옥산은 가교성 유기관능기를 갖고, 하기 화학식 1로 표시될 수 있다.
여기서, R 1 , R 2 및 R 3 는 각각 알킬기, 알릴기, 비닐기, 에폭시기, 아민기, 할로겐, 알킬할로겐, 메타크릴기, 아크릴기 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있으며, n은 1 내지 10,000 의 정수이다. 본 발명에 의한 유무기 하이브리드 겔 고분자 전해질은 높은 이온전도도와 높은 전기 화학적 안정성을 가지기 때문에 리튬 이온 고분자 전지 등에 응용이 가능하다.
Abstract:
A thermal conductive polymer composite material of the present invention comprises: first polymer particles and a plurality of monomers comprising thermally conductive layers covering the surface of the first polymer particles having higher thermal conductivity than the first polymer particles, and the thermally conductive layers of the monomers connected to each other and forming a heat conduction path. If using the thermal conductive polymer composite material, compared with a conventional composite material, despite being lightweight; excellent thermal conductivity can be provided and can be provided by a simple step of hot-pressing molding, thereby providing a polymer composite material which can effectively form a heat transfer path in the composite material. [Reference numerals] (AA) Heating and pressing
Abstract:
PURPOSE: A method for fabricating a zinc oxide semiconductor is provided to improve an electric characteristic by activating a dopant included in a zinc oxide layer. CONSTITUTION: A zinc oxide layer including a dopant is deposited on a silicon substrate or a sapphire substrate. In order to from an n type zinc oxide semiconductor, the dopant selected from a group of Al, In, Ga, and B or an oxide including Al, In, Ga, and B is added to the zinc oxide layer. In order to from a p type zinc oxide semiconductor, the dopant selected from a group of Li, Na, K, N, P, As, and Ni or an oxide including Li, Na, K, N, P, As, and Ni is added to the zinc oxide. The substrate including the zinc oxide layer is loaded into a thermal processing reactor. The dopant of the zinc oxide layer is activated by performing the thermal process for the zincs oxide layer under atmosphere of one element selected from H, O, N, Ar, NO, N2O, and NO2 gas.