탄소나노튜브 전극, 이를 이용한 전기이중층축전기 및 그 제조방법
    11.
    发明授权
    탄소나노튜브 전극, 이를 이용한 전기이중층축전기 및 그 제조방법 失效
    탄소나노튜브전극,이를이용한전기이중층전전기및그제조방법

    公开(公告)号:KR100461966B1

    公开(公告)日:2004-12-17

    申请号:KR1020020058225

    申请日:2002-09-25

    CPC classification number: Y02E60/13

    Abstract: 고주파플라즈마화학증착법과 열플라즈마화학증착법을 결합한 공정에 의해 금속기판 위에 별도의 촉매층 코팅과정을 거치지 않고 길이가 긴 탄소나노튜브를 생성시켜 이를 전극으로 사용한 전기이중층축전기의 전극 단위면적당 축전용량을 크게 하여 축전기 전체의 에너지밀도를 증가시킨다.

    Abstract translation: 目的:提供碳纳米管,使用其的电化学双层电容器及其制造方法,以通过使用PECVD(等离子体增强化学气相沉积)法和TACVD(热激活 化学气相沉积法)。 构成:为了提高金属基板(100)的品质,从金属基板(100)的表面除去粒子。 碳氢化合物气体和射频电流被提供到腔室内部。 通过执行PECVD工艺在金属衬底(100)上生长碳纳米管(200)。 在碳纳米管(200)的生长过程中断之前,PECVD过程被中断。 烃气体被提供到腔室的内部。 碳纳米管(200)通过执行TACVD工艺生长在金属基底(100)上。

    도전성 물질, 금속 산화물 또는 이들의 혼합물로 표면처리된 양극 활물질, 이를 이용한 양극과 리튬전지, 및 그제조방법
    12.
    发明公开
    도전성 물질, 금속 산화물 또는 이들의 혼합물로 표면처리된 양극 활물질, 이를 이용한 양극과 리튬전지, 및 그제조방법 失效
    正电极活性材料表面处理导电材料,金属氧化物或其混合物,用于防止内部阻抗增加并降低电极容量,并优化导电剂和粘合剂的添加量及其制备方法

    公开(公告)号:KR1020040096203A

    公开(公告)日:2004-11-16

    申请号:KR1020030029068

    申请日:2003-05-07

    Abstract: PURPOSE: A positive electrode active material for a lithium battery, its preparation method, a positive electrode containing the active material and a lithium battery containing the positive electrode are provided, to improve conductivity, high rate charge/discharge characteristics, high temperature characteristics and cycle lifetime characteristics. CONSTITUTION: The positive electrode active material comprises a conductive material, a metal oxide or their mixture formed on the surface of a positive electrode active material, in the shape of a thin film or cluster with a thickness of 1-300 nm. Preferably the conductive material is selected from the group consisting of acetylene black, carbon black, carbon nanotube and carbon nanofiber with a particle size of 1-300 nm, or the group consisting of Li, Al, Sn, Bi, Si, Sb, Ni, Cu, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ag, Zr, Zn, Mo, Au, Ru, Pd, In, Pt, Ir and their alloys with a particle size of 1-300 nm; and the metal oxide is selected from the group consisting of Al2O3, MgO, CoO, NiO, Li2O, Li2CO3, TiO2, ZrO2, ZnO, Co3O4, BaTiO3, CuO, V2O5, V2O3, RuO2, SiO2, SnO2, Bi2O3, Sb2O3, Fe2O3, Fe3O4, Cr2O3, AgO, MoO3 and their mixtures with a particle size of 1-300 nm.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于锂电池的正极活性物质及其制备方法,含有活性物质的正极和含有正极的锂电池,以提高导电性,高速率充放电特性,高温特性和循环 寿命特性。 构成:正极活性物质包含形成在正极活性物质的表面上的导体材料,金属氧化物或它们的混合物,厚度为1-300nm的薄膜或簇状。 优选导电材料选自乙炔黑,炭黑,碳纳米管和粒径为1-300nm的碳纳米纤维,或由Li,Al,Sn,Bi,Si,Sb,Ni ,Cu,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ag,Zr,Zn,Mo,Au,Ru,Pd,In,Pt,Ir及其合金的粒径为1-300nm; 金属氧化物选自Al2O3,MgO,CoO,NiO,Li2O,Li2CO3,TiO2,ZrO2,ZnO,Co3O4,BaTiO3,CuO,V2O5,V2O3,RuO2,SiO2,SnO2,Bi2O3,Sb2O3,Fe2O3 ,Fe 3 O 4,Cr 2 O 3,AgO,MoO 3及其混合物,其粒度为1-300nm。

    탄소나노튜브 전극, 이를 이용한 전기이중층축전기 및 그 제조방법
    13.
    发明公开
    탄소나노튜브 전극, 이를 이용한 전기이중층축전기 및 그 제조방법 失效
    碳纳米管,电化学双层电容器及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020040029491A

    公开(公告)日:2004-04-08

    申请号:KR1020020058225

    申请日:2002-09-25

    CPC classification number: Y02E60/13 H01G11/36

    Abstract: PURPOSE: A carbon nano tube, an electrochemical dual layer capacitor using the same, and a fabricating method thereof are provided to grow the carbon nano tube having long length by using a PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) method and a TACVD(Thermally Activated Chemical Vapor Deposition) method. CONSTITUTION: Particles are removed from a surface of a metal substrate(100) in order to improve the quality of the metal substrate(100). A hydrocarbon gas and RF current are provided into the inside of a chamber. A carbon nano tube(200) is grown on the metal substrate(100) by performing a PECVD process. The PECVD process is interrupted before the growing process of the carbon nano tube(200) is interrupted. The hydrocarbon gas is provided into the inside of the chamber. The carbon nano tube(200) is grown on the metal substrate(100) by performing a TACVD process.

    Abstract translation: 目的:提供一种碳纳米管,使用该纳米管的电化学双层电容器及其制造方法,通过使用PECVD(等离子体增强化学气相沉积)法和TACVD(热活化型)来生长具有长度的碳纳米管 化学气相沉积)方法。 构成:为了提高金属基材(100)的质量,从金属基材(100)的表面除去颗粒。 烃气体和RF电流被提供到室的内部。 通过执行PECVD处理,在金属基板(100)上生长碳纳米管(200)。 在碳纳米管(200)的生长过程中断之前,PECVD工艺被中断。 烃气体被提供到室的内部。 碳纳米管(200)通过进行TACVD工艺在金属基板(100)上生长。

    질소산화물 저감용 선택적 무촉매 환원제
    14.
    发明授权
    질소산화물 저감용 선택적 무촉매 환원제 失效
    질소산화물저감용선택적무촉매환원제

    公开(公告)号:KR100402051B1

    公开(公告)日:2003-10-17

    申请号:KR1020000061354

    申请日:2000-10-18

    Abstract: PURPOSE: By adding a specific amount of an anionic surfactant or anionic surfactant/nonionic surfactant in aqueous solution of carbamide £(NH2)2CO| employed in selective non-catalytic reduction of nitric oxides, it is possible to spray carbamide solution finer than use aqueous solution of carbamide alone, especially accelerate chemical decomposition of carbamide over a relatively low temperature range of less than 900°C. CONSTITUTION: In the selective non-catalytic reducing agent for reducing nitric oxides(NOx) containing aqueous solution of carbamide £(NH2)2CO| as main Ingredient, the selective non-catalytic reducing agent is added with a sulfone-based anionic surfactant in an amount of 0.1 to 20wt.%, wherein the sulfone-based anionic surfactant is selected from sodium alpha olefin sulfonate 0.1-10 wt.% and linear alkylbenzene sulfonic acid 0.1-5 wt.%. Further, the selective non-catalytic reducing agent is added with coconut diethanol amide nonionic surfactant in an amount of 0.1-20 wt.%.

    Abstract translation: 目的:在尿素(NH2)2CO |水溶液中加入特定量的阴离子表面活性剂或阴离子表面活性剂/非离子表面活性剂, 用于选择性非催化还原一氧化氮时,可以喷射比单独使用尿素水溶液更细的尿素溶液,特别是在低于900℃的较低温度范围内加速尿素的化学分解。 本发明涉及一种用于还原含氮氧化物(NOx)的尿素水溶液的选择性非催化还原剂(NH2)2CO | 作为主要成分,选择性非催化还原剂中加入0.1至20重量%的基于砜的阴离子表面活性剂,其中砜基阴离子表面活性剂选自α-烯烃磺酸钠0.1-10重量% 和直链烷基苯磺酸0.1-5重量%。 此外,选择性非催化还原剂中加入0.1-20重量%的椰子二乙醇酰胺非离子表面活性剂。

    상온 화학 증착 시스템 및 이를 이용한 복합 금속막 제조 방법
    15.
    发明公开
    상온 화학 증착 시스템 및 이를 이용한 복합 금속막 제조 방법 失效
    电子循环共振和溅射组合化学蒸气沉积系统在常规温度下的制备和复合金属膜的制备方法

    公开(公告)号:KR1020020082013A

    公开(公告)日:2002-10-30

    申请号:KR1020010021711

    申请日:2001-04-23

    Abstract: PURPOSE: An electron cyclotron resonance and sputter combined chemical vapor deposition system at ordinary temperature is provided which forms a composite metal film at ordinary temperature by combining electron cyclotron resonance with sputter, and a preparation method of the composite metal film using the same is provided. CONSTITUTION: The electron cyclotron resonance and sputter(55) combined chemical vapor deposition system at ordinary temperature comprises a reaction chamber(10) providing reaction environment for depositing metal ions and radical ions on the substrate; a substrate(15) which is installed in the reaction chamber, and on which a sample where metal ions and radical ions are deposited is mounted; an ECR (electron cyclotron resonance) system which is connected to the reaction chamber to plasma formed by an ECR (electron cyclotron resonance); an organic matter supply system for supplying organic materials into the reaction chamber; a sputtering system for supplying metal ions to the reaction chamber(10); an induction voltage supply system for guiding the metal ions and radical ions to the sample mounted on the substrate; a grid which is installed adjacently to the substrate(15), and to which a voltage supplied by the induction voltage supply system is impressed to guide the metal ions and radical ions to the sample; and a vacuum system which is connected to the reaction chamber to adjust internal degree of vacuum.

    Abstract translation: 目的:提供常温下的电子回旋共振和溅射组合化学气相沉积系统,通过将电子回旋共振与溅射组合,在常温下形成复合金属膜,并提供了使用其的复合金属膜的制备方法。 构成:电子回旋共振和溅射(55)在常温下组合的化学气相沉积系统包括反应室(10),为基底上沉积金属离子和自由基离子提供反应环境; 安装在反应室中并且其上沉积有金属离子和自由基离子的样品的基底(15); ECR(电子回旋共振)系统,其通过ECR(电子回旋共振)与反应室连接至等离子体; 用于向反应室供应有机材料的有机物质供给系统; 用于向反应室(10)供应金属离子的溅射系统; 用于将金属离子和自由基离子引导到安装在基板上的样品的感应电压供给系统; 与衬底相邻安装的栅格,并且由感应电压供应系统提供的电压被施加到该栅极以将金属离子和自由基离子引导到样品; 以及连接到反应室以调节内部真空度的真空系统。

    화학 증착 시스템에서 배출되는 미반응 유독가스의 정화 장치및 방법
    16.
    发明授权
    화학 증착 시스템에서 배출되는 미반응 유독가스의 정화 장치및 방법 失效
    用于净化化学蒸气沉积系统中排出的不需要的危险气体的装置和方法

    公开(公告)号:KR100238387B1

    公开(公告)日:2000-01-15

    申请号:KR1019980000641

    申请日:1998-01-13

    Abstract: 화학 증착 시스템에서 배출되는 미반응 유독가스의 정화 장치에 있어서, 유기 화합물의 연소를 위한 니크롬선이 내장된 열분해 시스템과, 용해성 가스를 제거할 수 있는 향류 접촉식 물세척 시스템으로 이루어지며, 상기 열분해 시스템과 상기 물세척 시스템은 상호 연결되어 있는, 소형 화학 증착 시스템의 배기가스 처리에 적합한 다단식 배기가스 정화 장치, 및 이러한 장치를 사용한 배기가스 정화 방법이 개시되어 있다. 본 발명에 따라 특별한 구동 장치 없이도 복합 성분으로 이루어진 유기 화합물을 고효율로 처리하는 것이 가능하며, 열분해 시스템의 구성이 극히 간단하여 스위치의 개폐에 의해서도 장치의 작동이 가능하고, 장치가 소형이고 간단하므로 유지비가 저렴하다.

    유동상을 이용한 간접 가열식 유류 오염 토양의 열 탈착 처리방법 및 장치
    17.
    发明公开
    유동상을 이용한 간접 가열식 유류 오염 토양의 열 탈착 처리방법 및 장치 失效
    使用流化床对间接加热油污染土壤进行热解吸处理的方法和设备

    公开(公告)号:KR1019990073768A

    公开(公告)日:1999-10-05

    申请号:KR1019980006879

    申请日:1998-03-03

    Abstract: 본 발명은 유류 등으로 오염된 토양을 유동상을 이용 열 탈착하여 정화 처리하는 데 있어서 탈착 가스를 주기적으로 공급하여 토양에 흡착되어 있는 유류를 탈착하는 데 필요한 가스의 총량을 저감시키고, 반응기 자체의 탈착 효율을 처리 가스 연속 공급시와 거의 같게 할 수 있는 열 탈착 처리 장치를 제공하는 것으로서, 별도의 구동 장치를 요하지 않으면서도 연소열이 고효율로 탈착기에 전달되며, 유동상 처리 장치는 주기적으로 조작되므로 폐가스의 발생량을 원천적으로 억제할 수 있다.

    다단 기체-고체 접촉장치
    18.
    发明公开
    다단 기체-고체 접촉장치 失效
    多级气固接触装置

    公开(公告)号:KR1019970020138A

    公开(公告)日:1997-05-28

    申请号:KR1019950035388

    申请日:1995-10-13

    Abstract: 본 발명은 기체-고체 접촉장치에 관한 것이다. 종래에도 다양한 종류의 기체-고체 접촉장치가 안출되어 있으나, 이들은 기체-고체 접촉효율이 저하되거나 압력강하가 발생되고, 고체입자의 제류량분포의 제어가 어렵고, 고체입자의 크기 및 입자강도의 범위에 한계가 있었다. 본 발명은 수직으로 설치되는 통형의 접촉장치 본체에 상부로부터 고체입자를 투입하여 낙하시키면서 기체를 하부측에서 상부로 상향 유통시킴과 아울러 본체 내부에는 다단의 제어밸브를 설치하여 이 제어밸브의 상,하부측 압력을 측정하여 그 차압에 따라 제어밸브의 개폐정도를 제어함으로써 기체-고체의 접촉효율이 향상되고 압력의 강하가 배제되며 고체입자의 크기와 입자 강도의 범위에 한계가 없게 되며 고체입자의 체류량을 최적한 상태로 제어할 수 있도록 한 것이다.

    전자 싸이클로트론 공명 플라즈마와 펄스형 직류 바이어스결합형 상온 화학 증착 시스템 및 이를 이용한 금속복합막 제조방법
    20.
    发明授权
    전자 싸이클로트론 공명 플라즈마와 펄스형 직류 바이어스결합형 상온 화학 증착 시스템 및 이를 이용한 금속복합막 제조방법 有权
    电子循环共振等离子体和脉冲直流偏置组合系统的室温下化学气相沉积系统及其使用的金属复合膜的制备方法

    公开(公告)号:KR100481685B1

    公开(公告)日:2005-04-07

    申请号:KR1020020034635

    申请日:2002-06-20

    Abstract: 본 발명은 ECR 장치를 이용한 화학 증착 시스템에 펄스형 직류 바이어스 발생장치를 결합함으로써 상온 증착을 가능하게 하는 증착 시스템 및 이를 이용한 금속 복합막의 제조 방법에 관한 것으로, 시료가 장착되는 기판을 내설하고 화학 증착이 이루어지는 반응 챔버; 상기 반응 챔버에 연결되어 플라즈마를 발생시켜 공급하는 ECR 장치; 상기 반응 챔버에 연결되어 상기 플라즈마에 의하여 이온화되는 유기금속화합물을 공급하는 전구체 공급 장치; 및 이온화된 금속이온과 유기물 이온을 상기 기판위 시료로 유도하는 유도 장치를 포함하여 구성되는 상온 화학 증착 시스템을 제공한다. 직류 바이어스에서 발생되는 고전압 전위차에 의해 기질 표면 위로 플라즈마에 의하여 분해된 이온을 기질 표면상에서 과포화시킬 수 있기 때문에 실온에서도 금속 복합막의 제조가 가능하며 제조되는 금속막의 조성 및 물성제어가 용이하다.

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