公开(公告)号：KR1020020011689A

公开(公告)日：2002-02-09

申请号：KR1020000045113

申请日：2000-08-03

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 문성욱 ,  채경수

IPC: G02B26/08

Abstract: PURPOSE: An optical switch device with an offset correcting function is provided to be capable of minimizing optical loss by assuring the offset correction for an optical switch device fabricated using an MEMS(Micro Electro Mechanical System) technique. CONSTITUTION: An incident beam(200) reflected from a reflection plate(300) is again reflected toward the reflection plate(300) by a sidewall(100). The reflection plate(300) is positioned on a middle place of a distance for minimizing optical loss by reflecting an incident beam from an input toward a reflection surface of the sidewall(100). A driver(400) is coupled to the reflection plate(300) to generate drive force for moving the reflection plate to any positions. That is, the incident beam(200) is sequentially reflected by the reflection plate(300) and the sidewall(100).

Abstract translation: 目的：提供具有偏移校正功能的光学开关装置，以便通过确保使用MEMS（微机电系统）技术制造的光学开关装置的偏移校正来最小化光学损耗。 构成：从反射板（300）反射的入射光束（200）再次被侧壁（100）反射向反射板（300）。 反射板（300）位于距离中间位置，以通过将来自输入的入射光束反射到侧壁（100）的反射表面来最小化光学损失。 驱动器（400）耦合到反射板（300）以产生用于将反射板移动到任何位置的驱动力。 也就是说，入射光束（200）被反射板（300）和侧壁​​（100）依次反射。

公开(公告)号：KR1020010100605A

公开(公告)日：2001-11-14

申请号：KR1020000023922

申请日：2000-05-04

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 문성욱 ,  채경수

IPC: G02B26/08

Abstract: 본 발명은 광스위칭장치에 관한 것으로서, 특히, 입력광을 반사시켜 광로를 변화시키는 반사미러; 입력신호에 의해 정전인력을 발생하여 기설정된 위치로 스위칭하도록 상기 반사미러를 구동시키고, 상기 반사미러의 변위에 대응하여 정전용량을 변화시키는 구동수단; 상기 구동수단으로부터 정전용량의 변화량을 검출하는 정전용량 검출수단; 및 상기 정전용량 검출수단의 출력신호에 기초하여 상기 반사미러의 스위칭 위치를 판별하여 기설정 위치와 일치하지 않을 시 상기 반사미러의 위치를 보정하도록 상기 구동수단을 제어하는 제어수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에서는 제어 가능한 초소형 기계적 구조물을 이용하여 반사미러의 변위에 따른 정전용량의 변화량을 검출하여 반사미러의 스위칭 위치를 제어하는 피드백 회로를 구현함으로써, 반사미러의 정밀한 위치 제어가 가능하게 하며, 이로 인해 복수의 광로를 선택할 수 있는 선택성이 개선됨과 아울러 광손실이 줄어드는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR100485592B1

公开(公告)日：2005-04-27

申请号：KR1020010066261

申请日：2001-10-26

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 문성욱 ,  채경수 ,  강호관

IPC: B81B7/00

Abstract: 본 발명은 대변위 작동형 구동기에 관한 것이다. 보다 상세하게는 구동기의 양 전극간 간격을 최소한의 선폭을 갖도록 줄임으로서 서브 마이크로 간격이 형성된 영역에서 변위를 최대한으로 증대시킬 수 있는 기술에 관한 것이다.
본 발명은 대변위 작동형 구동기에 있어서, 고정된 상태에서 자세를 유지하여 변위를 발생시키는 고정전극(100)과; 가동전극 구동빔(210)이 선단에 돌출되어 형성되며, 구동기가 구동될 때 상기 고정전극(100) 방향으로 근접하여 변위를 발생시키는 지지빔(200)을 구비하며; 상기 고정전극(100)과 가동전극 구동빔(210)이 결합될 때, 상기 가동전극 구동빔(210)의 지지빔(200)이 결합된 부위의 전극간 초기에는 공정 가능한 최소 선폭 만큼의 전극 간격(300)을 유지하여 최소한의 구동력을 얻으며, 동작시에는 고정전극(100)과 가동전극 구동빔(210) 간의 간격이 적어도 1㎛ 이하의 서브마이크로 간격(400)을 갖도록 유지하여 대변위의 구동력을 발생시키는 것을 특징으로 하는 대변위 작동형 구동기가 제시된다.
따라서, 본 발명은 대변위 작동형 구동기를 구현함으로서 전기도금 공정을 이용하여 고 형상비를 갖는 구조물을 제작할 경우 광스위치, 광 셔터(shutter), xy 스테이지 등에 적용할 수 있다.

公开(公告)号：KR100485548B1

公开(公告)日：2005-04-27

申请号：KR1020020084010

申请日：2002-12-26

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 문성욱 ,  신현준 ,  채경수

IPC: G02B26/02

Abstract: 본 발명은 이중거울 구조를 이용한 초소형 광감쇄기에 관한 것으로서, 더 상세하게는 두개의 반사거울 면을 활용하여 거울을 움직이는 구동기의 구동 변위를 종래의 것에 비해 50% 정도 줄일 수 있는 광감쇄기에 관한 것이다.
본 발명의 이중거울 구조를 이용한 초소형 광감쇄기는 광신호가 분배되는 광통신망의 노드에 위치하여 광의 세기를 조절해주는 광감쇄기에 있어서; 입력광을 단속하여 광의 세기를 조절하고 서로 반대방향으로 움직이는 2개의 거울과, 상기 거울에 각각 연결되어 거울을 움직이는 구동기와, 상기 구동기와 임의의 간격을 두고 이격되고 구동기가 거울을 움직일 수 있도록 전압을 인가하는 구동전극과, 광섬유를 고정시키는 광섬유 고정부로 구성되되, 상기 구동전극에 전압이 인가될 경우 구동기에 구동전극 방향으로 힘이 발생되고, 구동기의 구동 변위는 입력 전압의 세기에 의해 결정되며, 상기 입력광은 구동기에 의해 서로 다른 방향으로 움직이는 두 거울 사이의 자유공간을 광경로로 사용하여 통과하며, 상기 구동기의 동작에 따라 2개의 거울이 동시에 움직이거나 별도로 움직이는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 광감쇄기는 능동 기능을 할 수 있는 것으로, 종래의 수동 광감쇄기 소자와 달리 구동 전압에 따라 광의 세기를 자유자재로 조절할 수 있다.

公开(公告)号：KR100402990B1

公开(公告)日：2003-10-23

申请号：KR1020010066260

申请日：2001-10-26

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 문성욱 ,  채경수 ,  김종용 ,  강호관

IPC: G02B26/00

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing an optical switch by using an ultraviolet rays LIGA technique is provided to prevent the generation of crack due to the relatively small residual stress by utilizing a polymer as a photo resist material during the manufacture of the optical switch, thereby improving the adhesion to the ground layer. CONSTITUTION: A method for manufacturing an optical switch by using an ultraviolet rays LIGA technique includes the steps of: forming an oxidation layer(20) on a semiconductor substrate(10) to a predetermined thickness, forming a polymer thick layer(30) on the oxidation layer(20) formed on the semiconductor substrate(10) by using the polymer as the photo resist material, removing a solvent resided at the formed polymer thick layer(30) by a soft baking, initializing so as to combine of a material consisting of the polymer thick layer(30) by implementing a photolithography on a negative type mask after the soft baking, accelerating the combination of the material of the initialized polymer thick layer by a post baking after the process of the photolithography, developing so as to pattern a specific region of the polymer thick layer(30) to a predetermined thickness after the post baking, depositing an electroplating material on the patterned region of the polymer thick layer(30) and etching the resided photo resist material by using a conventional removing material after the deposition of the electroplating material.

Abstract translation: 目的：提供一种通过使用紫外线LIGA技术制造光学开关的方法，以防止在制造光学开关期间利用聚合物作为光致抗蚀剂材料而由于相对较小的残余应力而产生裂纹，由此改善 对地面层的附着力。 本发明提供了一种利用紫外线LIGA技术制造光开关的方法，该方法包括以下步骤：在半导体衬底（10）上形成预定厚度的氧化层（20），在该半导体衬底（10）上形成聚合物厚层（30） 通过使用聚合物作为光致抗蚀剂材料在半导体基板（10）上形成氧化层（20），通过软烘烤除去驻留在形成的聚合物厚层（30）处的溶剂，初始化以组合由 通过在软烘烤之后在负型掩模上实施光刻，在光刻工艺之后通过后烘焙加速已初始化的聚合物厚层的材料的组合，进行显影以形成图案，从而形成聚合物厚层（30） 在后烘烤之后将聚合物厚层（30）的特定区域固定到预定厚度，在聚合物厚层（30）的图案化区域上沉积电镀材料， 在沉积电镀材料之后通过使用常规去除材料来沉积驻留的光致抗蚀剂材料。