Abstract:
본 발명의 일 측면은 DNA를 전기적으로 고정시키고 완전히 펼친 상태에서 표지체로부터 방출되는 파장을 검출함으로써 광학적인 한계를 보완하여 높은 정밀도를 갖는 DNA 서열분석 방법 및 상기 방법을 자동화할 수 있는 나노 소자 칩을 제공하고자 한다. 본 발명의 또다른 측면은 상이한 파장을 방출하는 표지체(label)로 표지된 복수 개의 PNA(peptide nucleic acid)를 서열 분석 대상 DNA에 상보적 결합시켜 결합 오차를 제거하고 광학적인 공간 분해능의 한계를 해결할 수 있는 DNA 서열 분석 방법을 제공하고자 한다. 본 발명의 일 측면에 따른 나노 소자 칩 및 DNA 염기서열 분석 방법을 사용하는 경우, 첫째, 실시간으로 높은 공간분해능을 가지는 광학적 신호를 검출하여 고감도, 고효율 및 저잡음의 검출을 실현할 수 있고, 둘째, DNA를 일시적으로 고정시키고 일렬로 펼칠 수 있는 나노채널을 집적시켜 나노 소자 칩으로 구현함으로써 검출 속도를 조절할 수 있고 PCR 비용을 줄일 수 있다. 셋쩨, 복수 개의 PNA와 형광 표지 및 FRET 방법을 사용하여 PNA 결합 오차를 검출하여 제거할 수 있고, 파장의 편이(shift)를 증가시켜 정교하고 값비싼 광학 필터를 사용하지 않을 수 있다. 또한, 복수 개의 나노채널이 집적되어 있는 나노 소자 칩, 다채널 레이저 및 광학 시스템을 통하여 염기서열 분석을 자동화하여, 개인 지놈(genome) 지도 작성, 맞춤 의학 및 치료에 기여할 수 있다.
Abstract:
본 발명은 발전부의 영구자석과 코일이 직렬배치된 자성유체를 이용한 고효율 연속발전 사이클 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 자성을 띄는 나노입자인 자성유체와, 상기 자성유체가 내부로 통과되어 순환되는 순환파이프와, 상기 순환파이프의 외측을 감싸도록 하여 상기 순환파이프의 길이방향을 따라 일정 간격으로 복수개 배치되는 영구자석과, 상기 순환파이프의 외측을 감싸도록 권선되되, 상기 순환파이프의 길이방향을 따라 상기 영구자석 사이에 복수개 배치되어 코일을 포함하는 유도발전부를 포함하여 제공된다. 상기와 같은 본 발명에 따르면, 발전코일과 영구자석의 배치를 순환관의 길이방향을 따라 직렬형태로 배치시켜 영구자석의 내경이 줄어들어 공간적 효율을 높이도록 하며, 순환관의 길이방향을 따라 다양한 직경의 코일을 복수개로 스택시켜 기포와 같은 비자성체의 다양한 길이를 가지는 패턴에 의해 상쇄되는 발전전압을 보완시켜 발전전압을 더욱 높이도록 하여 발전효율이 증대되는 효과가 있다.
Abstract:
본 발병은 망막에 존재하는 ON 또는 OFF 이극세포에 선택적으로 광유전자를 발현시키기 위한 방법으로, 구체적으로는 ON 이극세포에 특이적으로 발현하는 프로모터, 제1 표적 유전자 및 Cre 유전자를 포함하는 제1 벡터 및 ON/OFF 이극세포에 발현하는 프로모터, 제2 표적 유전자 및 loxP 서열을 포함하는 제2 벡터를 포함하는 이극세포에서 선택적 유전자 발현용 키트 및 이를 이극세포에 도입하여 이극세포에서 유전자를 선택적으로 발현시키는 방법에 관한 것이다. 일 구체예에서 개시된 바업을 이용할 경우 광수용체가 없을 경우에도 이극세포에서 빛을 감지할 수 있으며, 이러한 경우 광수용체가 사멸하는 안질환을 갖는 환자에게 효과적인 치료법을 제공할 수 있다.
Abstract:
A sensor apparatus comprises: a sensor body with an optical fiber where multiple grids are formed in the longitudinal direction; an optical source which generates first incidence light and second incidence light with a different wavelength from each other, and induces the incidence to the optical fiber; and an optical analyzer which analyzes a wavelength signal of the light. The first incidence light forms refractive detection reflected light by being interfered or reflected by the multiple grids. The second incidence light forms second reflected light by being reflected from an outside obstacle after being outputted from a light outlet of the optical fiber. The second reflected light forms distance detection reflected light by being interfered by reference reflected light which is formed by the reflection of the second incidence light from a reference surface. The optical analyzer detects reflective states of the sensor body by detecting changes in the wavelength band of the refractive detection reflected light, and detects a distance between the sensor body and the obstacle by detecting the wavelength band of the distance detection reflected light.
Abstract:
본 발명은 나노입자를 핵산의 한쪽 말단과 결합시키는 단계; 상기 핵산을 나노채널에 도입하는 단계; 및 상기 단수 또는 복수 개의 나노채널 내부에 나노입자를 고정시키는 단계를 포함하는 핵산 서열 분석 방법 및 한쪽 말단에 나노입자를 붙인 핵산; 상기 핵산이 도입된 단수 또는 복수 개의 나노채널; 및 상기 나노채널 내부에서 유동하는 용액을 포함하는 핵산 서열 분석 장치를 제공한다. 본 발명은 나노채널 내에서 핵산의 펼침 효과를 증대시킬 수 있고, 효소와 염기를 포함하는 용액이 유동하기 때문에 염기서열 분석의 정확도가 높고, 잡음신호가 작아서 고효율로 신호를 검출할 수 있다. 또한 기존의 효소가 수명을 다해도 유동 용액에서 공급되는 새로운 효소에 의해 지속적으로 중합 반응이 일어날 수 있어, 핵산의 서열 분석 길이에 제한이 없다.
Abstract:
본 발명은 경사노광방식을 이용한 경사구조 프로브 팁의 반도체 검사장치 제조방법에 관한 것이다. 기존에는 이열구조의 반도체 패드 및 행렬 배열 반도체 패드의 검사를 위해 수직형 프로브 팁이 개발되었다. 본 발명에서는 프로브 팁의 기계적 특성 향상을 위해 경사구조 프로브 팁을 경사노광기를 이용하여 제작하는 방법을 제시한다. 본 발명의 경사노광기를 이용한 경사구조 프로브 팁의 반도체 검사장치 제조방법은 인쇄회로(50)기판에 프로브 팁(40)과 전기신호 연결을 위해 세라믹 재질의 보강판(10)에 관통홀(20)을 가공하고 관통홀에 전기도금 공정을 하여 전기배선을 형성한다. 그 보강판 위에 직접 경사구조 수직형 프로브 팁을 제작하여 기존의 접합방식에서 발생하는 생산성 저하 및 공정 안정화를 극복하기 위해 접합공정을 제거함으로써 완성되는 발명이 제시된다. 반도체 검사장치 , 프로브 팁, 프로브 팁 보강판, 경사구조, 경사노광기
Abstract:
PURPOSE: A method for fabricating a V-groove structure using a photoresist is provided to replace a prior silicon V-groove with a slant micro V-groove structure using the photoresist on a wafer. CONSTITUTION: According to the method for fabricating a V-groove(12) structure using a photoresist(16), a photo mask is placed on a substrate(13) coated with a photoresist and then it is exposed to light(14) slantly. It is exposed twice by changing an incident angle of the light and thus a slant side has a different angle. The substrate coated with a photoresist is exposed using a gray level mask(17) by controlling the penetration of the exposure light differently, and thus the V-groove structure is fabricated by making the exposure light be incident vertically and by controlling an intensity of the light.