Abstract:
본 발명은 술폰화된 폴리페닐실세스퀴옥산(Sulfonated PolyPenylSilsesQuioxane, S-PPSQ)으로 도핑된 전도성 폴리아닐린 및 그의 제조 방법에 관한 것이다. 상기 술폰화된 폴리페닐실세스퀴옥산의 도핑으로 인하여 일반적인 폴리아닐린에 비해 전도성이 높고, 내열성이 높다. 상기 폴리아닐린은 폴리아닐린과 술폰화된 폴리페닐실세스퀴옥산을 유기용매에서 용해시킨 후, 교반하는 방법으로 제조할 수 있다.
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본 발명은 술폰화된 폴리페닐실세스퀴옥산 및 양의 저항온도계수를 가지게 하는 도판트로 도핑된 폴리아닐린에 관한 것이다. 상기 술폰화된 폴리페닐실세스퀴옥산은 폴리아닐린에 도핑 시 높은 내열성을 가지게 하며 또한 도핑된 폴리아닐린이 음의 저항온도계수를 갖게 한다. 음의 저항온도계수를 가지기 위한 술폰화된 폴리페닐실세스퀴옥산과 양의 저항온도계수를 가지기 위한 도판트가 동시에 도핑됨으로써 도핑된 폴리아닐린의 저항온도계수를 조절할 수 있게 된다.
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본 발명은 전기방사를 이용한 사다리형 폴리실세스퀴옥산 미세섬유 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 사다리형 폴리실세스퀴옥산 미세섬유는 사다리형 폴리실세스퀴옥산 단독 전기방사에 의해 달성되므로 제조가 용이하고, 내열성 및 내화학성이 우수하여 다양한 분야에 유용하게 사용될 수 있다.
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본 발명은 실세스퀴옥산 중합체 매트릭스를 전구체로 하여 제조된 저유전막으로서, 상기 실세스퀴옥산 중합체 매트릭스는 알콕시실란에 다반응성 환형 실록산의 입체 이성질체를 첨가하여 제조된 실세스퀴옥산 졸(sol)인 것을 특징으로 하는 저유전막 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 저유전막은 ~500℃의 경화온도에서도 열에 의해 분해되지 않고 안정된 도막 상태를 유지하며, 도막 표면의 굴곡 정도가 작아 매우 균일한 표면 특성을 나타낼 뿐 아니라, 500nm 이상의 두께에서도 균열 현상없이 매끄럽게 코팅될 수 있어 코팅성이 매우 우수하다. 또한, 본 발명에 따른 저유전막은 높은 표면 모듈러스 및 경도를 가지면서도, 우수한 저유전 특성을 발휘할 수 있다.
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PURPOSE: A polysilsesquioxane microfiber of a ladder type using electrospinning and a method for fabricating the same are provided to ensure excellent thermal resistance and chemical resistance. CONSTITUTION: A polysilsequioxane microfiber of a ladder type contains polysilsesquioxane of chemical formula 1. In chemical formula 1, R is selected from the group consisting of organic functional groups. The polysilsesquioxane is denoted by chemical formula 2 or 3. The thickness of the microfiber is 1-10 um. A method for fabricating the microfiber comprises a step of electrospinning a solution containing polysilsesquioxane and a step of irradiating UV ray. A solvent used in the solution is tetrahydrofurane, dimethyl formamide, dimehtyl acetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, hexane, cyclohexane, toluene, xylene, cresol, chloroform, dimethyl benzene, trimethyl benzene, pyridine, methyl naphthalene, nitromethane, acrnitrile, methylene chloride, aniline, dimethyl sulfoxide, or benzyl alcohol.
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본 발명은 광활성 그룹(photoactive group)이 실록산 주쇄에 연결된 사다리 구조(ladder structure)의 폴리실세스퀴옥산을 포함하는 발광재료에 관한 것이다. 이를 통해 내열성 및 기계적 특성이 우수할 뿐 아니라, 박막으로 제조하는 경우 코팅성 및 도막 특성이 개선될 수 있으며, 낮은 발광 효율을 가지는 기존의 유기계 발광재료에 비해 발광 효율이 높은 발광재료를 제공할 수 있다.
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본 발명은 그라펜을 이용한 대전방지 투명 코팅, 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상기 코팅은 단일층 또는 다층의 그라펜을 포함하는 도전성 입자, 및 바인더를 포함한다. 상기 코팅은 그라펜을 용매에 분산시켜 그라펜 분산액을 제조하는 단계; 경화성 바인더를 용매에 용해시켜 바인더 용액을 제조하는 단계; 상기 그라펜 분산액, 바인더 용액 및 임의로 첨가제를 혼합하여 코팅액을 제조하는 단계; 상기 코팅액을 기재에 도포, 건조하여 코팅막을 형성하는 단계, 및 코팅막을 경화시키는 단계를 포함하는 방법에 의해 제조된다. 이에 따라, 투과도, 내마모성, 내스크래치성, 화학적 안정성, 코팅막의 치수안정성이 우수한 투명 내지 반투명 대전 방지 코팅막을 제조할 수 있으며 기재 접착성 및 적용성이 우수하여 경질의 기재나 유연성 기재 등에 사용할 수 있는 이점이 있다.
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PURPOSE: A manufacturing method of polysilsesquioxane is provided to easily polymerizing polysilsesquioxane of high regularity at room temperature, without the transfer of the reactor of 2-3 steps, dehydrating process, and molecular weight control using high temperature. CONSTITUTION: A manufacturing method of polysilsesquioxane comprise: a step of manufacturing water-containing organic solution comprising a monomer in chemical formula 1, organic solvent, water, and a catalyst; and a step of manufacturing basket type polysilsesquioxane in chemical formula 2, or ladder type polysilsesquioxane in chemical formula 3, selectively. In chemical formulas, R1 is C1-20 alkoxy group, R2 and R3 is respectively substituted or non-substituted aliphatic organic functional group, alkyl, aryl, vinyl, an amine group, an acryl group, halogen or alkylhalogen, and n is 2-100,000.
Abstract:
PURPOSE: A Siloxane based-low dielectric film using cyclic silsesquioxane is provided to have excellent physical property, thermal stability and crack resistance, and to have high modulus and hardness maintaining excellent low dielectric property. CONSTITUTION: A Siloxane based-low dielectric film using cyclic silsesquioxane comprises a step of manufacturing silsesquioxane sol by sol-gel method by adding the stereoisomer of multi-reactive cyclic silsesquioxane into alkoxy siloxane; a step of manufacturing coating liquid containing the silsesquioxane sol and solvent; and a step of spreading the coating liquid and hardening. The silsesquioxane polymer matrix uses as a precursor for the manufacturing of the dielectric film. The silsesquioxane polymer matrix is the silsesquioxane sol manufactured by the adding of the multi-reactive cyclic silsesquioxane into the alkoxysilane.