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公开(公告)号：KR101278972B1
公开(公告)日：2013-07-02
申请号：KR1020110117325
申请日：2011-11-11
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H05H1/46 , H01L21/205
Abstract: 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 일면의 중심에 제1 주파수의 제1 RF 전력을 공급받는 원판형의 제1 전극, 일면의 복수의 위치에서 제2 주파수의 제2 RF 전력을 공급받고 제1 전극의 주위에 배치된 와셔 형상의 제2 전극, 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치된 와셔 형상의 절연 스페이서, 제1 전극에 전력을 공급하는 제1 RF 전원, 제2 전극에 전력을 공급하는 제2 RF 전원, 및 제1 RF 전원의 전력 및 제2 RF 전원의 전력을 조절하는 제어부를 포함한다.
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公开(公告)号：KR101197017B1
公开(公告)日：2012-11-06
申请号：KR1020090107595
申请日：2009-11-09
Applicant: 한국과학기술원 , 주성엔지니어링(주)
Abstract: 본 발명은 플라즈마 발생 장치를 제공한다. 이 장치는 진공 용기, 진공 용기의 내부에 배치되고 나란히 연장되는 복수의 접지 전극들, 진공 용기의 내부에 배치되고 접지 전극들 사이에 개재된 전원 전극들, 및 진공 용기의 내부에 배치되고 전원 전극과 접지 전극 사이에 개재된 전극 유전체들을 포함하고, 전원 전극들은 RF 전원에 연결된다.
축전 결합 플라즈마, 다중 전원 전극, 다중 접지 전극, 할로우 케소드 방전Abstract translation: 本发明提供一种等离子体产生装置。 该装置被设置在电源电极的内部，以及介于之间的真空腔室和设置在所述多个接地电极的内部被布置在真空室的内部，该真空室通过侧是侧延伸，所述真空室接地电极和电源电极 并且电极介质夹在接地电极之间，电源电极连接到RF电源。
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公开(公告)号：KR101181709B1
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：KR1020100067239
申请日：2010-07-13
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명의 축전 결합 플라즈마 발생 장치를 제공한다. 이 장치는 RF 전원, RF 전원에 연결된 제1 전극, 및 기판을 장착하고 제1 전극과 대향하여 이격되어 배치된 제2 전극을 포함한다. 제1 전극은 홀들을 포함하는 할로우 케소드 영역을 포함하고, 할로우 케소드 영역은 복수의 서브 할로우 케소드 영역들로 분리되고, 서브 할로우 케소드 영역들은 서로 다른 홀의 형태를 가진다. 서브 할로우 케소드 영역의 홀들은 트렌치를 통하여 서로 연결된다.
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公开(公告)号：KR101101751B1
公开(公告)日：2012-01-09
申请号：KR1020090076516
申请日：2009-08-19
Applicant: 한국과학기술원 , 주성엔지니어링(주)
Abstract: 본 발명은 플라즈마 발생 장치를 제공한다. 이 장치는 진공 용기, 진공 용기의 내부에 일부 또는 전부가 노출되고 나란히 연장되는 복수의 전원 전극들, 및 기판을 지지하고, 전원 전극들이 배치되는 평면에서 수직으로 이격되어 배치된 기판 홀더를 포함한다. 전원 전극들은 라인 형상이고, 전원 전극들은 N 등분되고, N 등분된 부분의 중심부에 배치된 노드들에 RF 전력이 공급된다.
축전 결합 플라즈마, 멀티 파워 공급, 정상파효과-
15.发明授权
公开(公告)号：KR101092879B1
公开(公告)日：2011-12-12
申请号：KR1020090029424
申请日：2009-04-06
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/687 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32541
Abstract: 본발명은기판처리장치, 기판처리방법, 예비전극구조체, 측정전극구조체, 및공정전극구조체를제공한다. 상기기판처리방법은위치에따라다른홀의형태를가진예비전극구조체를이용하여홀의형태에따른플라즈마특성및 공정결과중에서적어도하나를확인하여홀의형태를선택하는단계, 홀의밀도가위치에따라서로다른측정전극구조체를이용하여기판을처리하여최적공정위치를선택하는단계, 최적공정위치에대응하는측정전극구조체의홀의밀도를전사하여공정전극구조체를제공하는단계, 및공정전극구조체를이용하여위치에따른공정불균일성을보상하는단계를포함할수 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020110083246A
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：KR1020100003381
申请日：2010-01-14
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32541 , H01J37/32091 , H01J37/32137 , H01J37/3244 , H01J37/32715 , H05H1/46 , H05H2001/4675
Abstract: PURPOSE: A capacitively coupled plasma generating device and a capacitively coupled plasma generating method are provided to include holes which show a discharging feature different according to the duty ratio of an RF pulse in a first electrode, thereby providing uniform plasma by adjusting the duty ratio of an RF pulse. CONSTITUTION: An RF power supply device(142) provides a periodic RF pulse by a driving frequency. A first electrode(122) is connected to the RF power supply device. The first electrode comprises a hollow cathode area including holes. A second electrode(132) faces and is separate from the first electrode. A board(134) is mounted on the second electrode. An RF pulse controller(144) controls the cycle of the RF pulse of the RF power supply device.
Abstract translation: 目的：提供电容耦合等离子体产生装置和电容耦合等离子体产生方法，以包括根据第一电极中的RF脉冲的占空比显示放电特征不同的孔，从而通过调节第一电极的占空比来提供均匀的等离子体 RF脉冲。 构成：RF电源装置（142）通过驱动频率提供周期性RF脉冲。 第一电极（122）连接到RF电源装置。 第一电极包括包括孔的空心阴极区域。 第二电极（132）面对并与第一电极分离。 板（134）安装在第二电极上。 RF脉冲控制器（144）控制RF电源装置的RF脉冲的周期。
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公开(公告)号：KR1020110050969A
公开(公告)日：2011-05-17
申请号：KR1020090107595
申请日：2009-11-09
Applicant: 한국과학기술원 , 주성엔지니어링(주)
CPC classification number: H01J37/32568 , H01J37/32091 , H01J37/32559 , H01J37/32577 , H01J37/32715 , H01J37/32825 , H05H1/46 , H05H2001/4675
Abstract: PURPOSE: A device for generating poly silicon metalizing plasma is provided to form plasma through a power electrode and a ground electrode by arranging a ground electrode which is nearly divided to a divided power electrode. CONSTITUTION: A plurality of ground electrodes(120) are arranged inside a vacuum container. The ground electrodes are expanded side by side. A power electrode(110) is arranged inside the vacuum container. The power electrodes are allowed between the ground electrodes. An electrode dielectric(130) is arranged inside the vacuum container. The electrode dielectrics are allowed between the power electrode and the ground electrode. The power electrodes are connected to an RF power. A supplementary insulator(140) is arranged on the power electrode and the electrode dielectric. An upper side of the supplementary insulator has the same height as an upper side of the ground electrode.
Abstract translation: 目的：提供一种用于产生多晶硅金属化等离子体的装置，通过布置几乎划分成分割的电源电极的接地电极，通过功率电极和接地电极形成等离子体。 构成：多个接地电极（120）布置在真空容器内。 接地电极并排扩张。 电力电极（110）布置在真空容器内。 电源电极被允许在接地电极之间。 电极电介质（130）布置在真空容器内。 在电极和接地电极之间允许电极电介质。 电源电极连接到RF电源。 辅助绝缘体（140）布置在电源电极和电极电介质上。 辅助绝缘体的上侧具有与接地电极的上侧相同的高度。
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公开(公告)号：KR1020110018996A
公开(公告)日：2011-02-25
申请号：KR1020090076516
申请日：2009-08-19
Applicant: 한국과학기술원 , 주성엔지니어링(주)
CPC classification number: H01J37/32091 , H01J37/32183 , H01J37/32541 , H01J37/32669 , H01J37/32715 , H01J37/32825 , H01J2237/33 , H05H1/46 , H05H2001/4675 , H05H2001/4682
Abstract: PURPOSE: A supplies the RF power in a plurality of spots to the power electrode the plasma generating device forms the power electrode partitioning of line shape. CONSTITUTION: The whole is in other words side by side expanded in the inside of the vacuum container(110). It is perpendicularly separated in the plane including power electrodes and the substrate holder supporting substrate is arranged. Power electrodes have line shape. Power electrodes are equally divided N.
Abstract translation: 目的：A将等离子体产生装置形成线形形状的功率电极划分的多个点中的RF功率提供给电力电极。 构成：换句话说，整体在真空容器（110）的内部并排膨胀。 在包括电力电极的平面中垂直分离，并且布置衬底保持器支撑衬底。 电源电极具有线形。 功率电极相等分。
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公开(公告)号：KR1020100100288A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：KR1020090019091
申请日：2009-03-06
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/205 , H01L21/66
CPC classification number: H01L22/34 , H01J37/32091
Abstract: PURPOSE: A measuring pattern structure, an adjustment structure, a substrate treatment apparatus, and a substrate treatment method are provided to offer uniformity of plasma and process result of a substrate according to the position of the substrate by using the measurement pattern structure arranged on the top electrode of the capacitive coupled plasma. CONSTITUTION: A measurement pattern structure having different structure according to the position is offered(S100). A substrate is process using the plasma formed by applying electricity to the top electrode(S110). An optimal process result is selected by radiating the process result of the substrate according to the position(S120).
Abstract translation: 目的：提供测量图形结构，调整结构，基板处理装置和基板处理方法，以通过使用布置在基板处理装置上的测量图案结构来提供基于基板的位置的等离子体的均匀性和基板的处理结果 电容耦合等离子体的顶部电极。 构成：提供根据位置具有不同结构的测量图案结构（S100）。 衬底是使用通过向顶部电极施加电力而形成的等离子体的工艺（S110）。 通过根据位置辐射基板的处理结果来选择最佳的处理结果（S120）。
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公开(公告)号：KR1020090015392A
公开(公告)日：2009-02-12
申请号：KR1020070079686
申请日：2007-08-08
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01J37/32 , H01J27/02 , H01J37/30 , H01L21/265
Abstract: An ion beam generator and the method for generating ion beam are provided to increase the potential energy of the ion by arranging the bias electrode inside the source vacuum chamber. The plasma generation device part(100) comprises the load applying the energy of the power source and power source to the plasma. The load comprises at least one electrode or antenna. The plasma generation device part generates the ion, the electronics, and the neutral gas. The source vacuum container(200) stores the plasma. The bias electrode(300) is arranged inside the source vacuum chamber. The ion extraction part(400) extracts ions from the source vacuum chamber. The ion energy is increased by the bias electrode. The ion extraction part comprises the first grid electrode(410), and the second grid electrode(420) and the third grid electrode(430). Each grid electrode is electrically insulated.
Abstract translation: 提供了离子束发生器和用于产生离子束的方法，以通过将偏置电极布置在源真空室内来增加离子的势能。 等离子体产生装置部分（100）包括将电源和电源的能量施加到等离子体的负载。 负载包括至少一个电极或天线。 等离子体产生装置部分产生离子，电子和中性气体。 源真空容器（200）存储等离子体。 偏置电极（300）设置在源真空室内。 离子提取部分（400）从源真空室提取离子。 离子能量由偏置电极增加。 离子提取部分包括第一栅格电极（410）和第二栅极电极（420）和第三栅极电极（430）。 每个栅电极都是电绝缘的。
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