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公开(公告)号：KR100481042B1
公开(公告)日：2005-04-07
申请号：KR1020010062156
申请日：2001-10-09
Applicant: 한국산업기술평가원(관리부서:요업기술원)
IPC: C01B25/32
Abstract: 본 발명은 하이드록시아파타이트[Ca
10 (PO
4 )
6 (OH)
2 ]의 결정구조를 유지하면서 Si이온에 의해 일부의 P이온이 치환되고 Mg이온에 의해 일부의 Ca이온이 치환된 새로운 하이드록시아파타이트 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명의 하이드록시아파타이트는 기존의 하이드록시아파타이트 보다 생체 친화성이 높아 인공뼈 등의 각종 생체조직 및 의료용 재료 등에 이용가능하며 의료용 재료에 생체 친화성을 높이기 위한 코팅용으로 적합하다.-
公开(公告)号：KR1020040103632A
公开(公告)日：2004-12-09
申请号：KR1020030034680
申请日：2003-05-30
Applicant: 한국산업기술평가원(관리부서:요업기술원) , 주식회사 금강쿼츠
IPC: C03C10/14
CPC classification number: C03C17/3411 , C03C2217/228 , C03C2217/78 , C03C2218/113 , H01L23/15
Abstract: PURPOSE: A quartz glass coated with Y2O3, plasma-resistant member for a semiconductor manufacturing apparatus, is provided. The coating layers formed with Y2O3 prepared by sol-gel process have high porosity to reduce residual stress formed on the quartz preform. CONSTITUTION: The plasma-resistant member, quartz glass coated with Y2O3, has a quartz preform, a dense first Y2O3 layer formed on the quartz preform, a porous second Y2O3 layer between quartz preform and the first layer. The porous Y2O3 coating layer(more than 95% of porosity) is formed by the following steps of: (a) spin coating a quartz preform with Yttrium(Y) solution prepared by sol-gel process; (b) thermal-treating quartz preform coated with Y-solution at a lower temperature than the crystallization temperature of Y2O3, 600 deg.C; (c) quenching the preform to room temperature, preferably at a rate more than 300deg.C/min; (d) thermal-treating the quenched preform over the crystallization temperature(1000deg.C) and cooling slowly. The dense Y2O3 coating layer(37% of porosity) is formed by coating the porous Y2O3 layer with Y-solution, thermal-treating quartz preform coated with Y-solution at lower than 600deg.C, cooling slowly to room temperature, thermal-treating at 1000deg.C and cooling slowly. The thickness of layers is controlled by repeating the steps of a-c.
Abstract translation: 目的：提供涂覆有Y 2 O 3的石英玻璃，用于半导体制造装置的耐等离子体构件。 由溶胶 - 凝胶法制备的Y2O3形成的涂层具有高孔隙率，以减少在石英预制件上形成的残余应力。 构成：涂有Y2O3的耐等离子体构件石英玻璃具有石英预成型体，在石英预成型体上形成致密的第一Y 2 O 3层，在石英预制件与第一层之间的多孔第二Y 2 O 3层。 通过以下步骤形成多孔Y2O3涂层（孔隙率大于95％）：（a）通过溶胶 - 凝胶法制备的钇（Y）溶液旋涂石英预制件; （b）在比Y2O3，600℃的结晶温度低的温度下热处理涂有Y溶液的石英预制件; （c）将预成型件淬火至室温，优选以大于300℃/分钟的速度淬火; （d）在结晶温度（1000℃）下热处理淬火预制件并缓慢冷却。 通过用Y溶液涂覆多孔Y 2 O 3层，用低于600℃的Y溶液涂覆的热处理石英预制件，缓慢冷却至室温，热处理形成致密的Y 2 O 3涂层（孔隙率的37％） 在1000℃，缓慢冷却。 通过重复a-c的步骤来控制层的厚度。
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公开(公告)号：KR1020030046107A
公开(公告)日：2003-06-12
申请号：KR1020010076509
申请日：2001-12-05
Applicant: 한국산업기술평가원(관리부서:요업기술원)
CPC classification number: C01B25/32 , A61L24/02 , C01P2004/10
Abstract: PURPOSE: A hydroxyapatite whisker£Ca10(PO4)6(OH)2| containing Si and Mg by a hydrothermal method is provided for use as reinforcing materials of biotissue and medical substances due to improved biological affinity compared with conventional hydroxyapatite whisker. CONSTITUTION: The hydroxyapatite whisker containing Si and Mg is characterized by substituting P for Si and Ca for Mg in the hydroxyapatite£Ca10(PO4)6(OH)2| crystal structure, wherein the amounts of Si and Mg are 0.1-5wt.% and 0.1-1wt.%, respectively. The preparation method of hydroxyapatite whisker comprises the steps of: preparing hydroxyapatite powder containing Si and Mg; adding organics such as citric acid, lactic acid, ethylenediamine tetraacetic acid(EDTA), etc.; hydrothermal reacting at 200deg.C for 24hrs. in a high pressure vessel; washing and drying at 100deg.C. The resultant hydroxyapatite particles have a whisker shape and an aspect ratio over 10.
Abstract translation: 目的：羟基磷灰石晶须£Ca（PO4）6（OH）2 | 与传统的羟基磷灰石晶须相比，由于与生物组分和医药物质的增强材料相比，由于提高了生物亲和力，所以通过水热法含有Si和Mg。 构成：含有Si和Mg的羟基磷灰石晶须的特征在于用羟基磷灰石Ca（PO4）6（OH）2 | 晶体结构，其中Si和Mg的量分别为0.1-5重量％和0.1-1重量％。 羟基磷灰石晶须的制备方法包括以下步骤：制备含有Si和Mg的羟基磷灰石粉末; 加入有机物如柠檬酸，乳酸，乙二胺四乙酸（EDTA）等; 在200℃水热反应24小时。 在高压容器中; 在100℃下洗涤和干燥。 所得到的羟基磷灰石颗粒具有晶须形状和10以上的纵横比。
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公开(公告)号：KR1020030046106A
公开(公告)日：2003-06-12
申请号：KR1020010076508
申请日：2001-12-05
Applicant: 한국산업기술평가원(관리부서:요업기술원)
CPC classification number: C01B25/32 , A61L24/02 , C01P2004/10
Abstract: PURPOSE: A hydroxyapatite whisker£Ca10(PO4)6(OH)2| containing Si and Mg prepared by a melting method is provided for use as reinforcement of biotissue and medical materials due to improved biological affinity compared with conventional hydroxyapatite whisker. CONSTITUTION: The hydroxyapatite whisker containing Si and Mg is characterized by substituting P for Si and Ca for Mg in the hydroxyapatite£Ca10(PO4)6(OH)2| crystal structure, wherein the amounts of Si and Mg are 0.1-5wt.% and 0.1-1wt.%, respectively. The preparation method of hydroxyapatite whisker comprises the steps of: preparing hydroxyapatite powder containing Si and Mg; adding solid flux such as K2SO4, Na2SO4, KCl, MgCl2, etc.; melting a mixture at 700-1200deg.C for 3hrs. in a high pressure vessel; washing and drying at 100deg.C. The resultant hydroxyapatite particles have a whisker shape and an aspect ratio over 5.
Abstract translation: 目的：羟基磷灰石晶须£Ca（PO4）6（OH）2 | 与传统的羟基磷灰石晶须相比，由于提高的生物亲和力，提供了通过熔融法制备的含Si和Mg的生物组织和医疗材料的增强。 构成：含有Si和Mg的羟基磷灰石晶须的特征在于用羟基磷灰石Ca（PO4）6（OH）2 | 晶体结构，其中Si和Mg的量分别为0.1-5重量％和0.1-1重量％。 羟基磷灰石晶须的制备方法包括以下步骤：制备含有Si和Mg的羟基磷灰石粉末; 加入固体助熔剂如K 2 SO 4，Na 2 SO 4，KCl，MgCl 2等; 将混合物在700-1200℃下熔融3小时。 在高压容器中; 在100℃下洗涤和干燥。 所得羟基磷灰石颗粒具有晶须形状和纵横比超过5。
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公开(公告)号：KR1020080055277A
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：KR1020060128368
申请日：2006-12-15
Applicant: 한국산업기술평가원(관리부서:요업기술원)
Abstract: A method for forming a nanoporous oxide layer is provided to form self-assembled nanopores having a diameter of 20 nm or smaller on the surface of a base material. A method for forming a nanoporous oxide layer on the surface of a base material includes the steps of: applying electric voltage to the base material to perform a first anodizing process; removing the oxide layer formed during the first anodizing step to form a pretexture on the surface of the base material; and applying electric voltage lower than that of the first anodizing step to the pretexture-formed base material to anodize the base material.
Abstract translation: 提供一种形成纳米多孔氧化物层的方法，以在基材的表面上形成直径为20nm以下的自组装纳米孔。 在基材表面形成纳米多孔氧化物层的方法包括以下步骤：向基材施加电压以进行第一阳极氧化处理; 去除在第一阳极氧化步骤期间形成的氧化物层以在基材的表面上形成预纹理; 并将电压低于第一阳极氧化步骤的电压施加到预先形成的基材上以阳极氧化基材。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020080034366A
公开(公告)日：2008-04-21
申请号：KR1020060100509
申请日：2006-10-16
Applicant: 한국산업기술평가원(관리부서:요업기술원) , 임광현
IPC: C01B31/04
CPC classification number: C01B32/20 , C01B2204/00
Abstract: A method for manufacturing a high density graphite is provided to manufacture a graphite having high density, high hardness, high self-lubricity and compact pores by preparing a filler and a binder with high volatilities using pitch and passing the filler and the binder through carbonizing and graphitizing processes, and a high density graphite manufactured by the method is provided to be used as a graphite for machinery parts or mechanical seals. A manufacturing method of a high density graphite comprises the steps of: subjecting pitch to a heat treatment process at 490 to 500 deg.C for 0.5 to 4 hours to prepare a filler of which volatility is adjusted to a range of 3 to 7 wt.%; subjecting pitch to a heat treatment process at 200 to 240 deg.C for 1 to 6 hours to prepare a binder of which volatility is adjusted to a range of 58 to 60 wt.%; controlling particles of the filler and the binder to a particle size corresponding to a sieve size of 325 meshes or less; and mixing the filler and the binder with each other. The filler is coke. The heat treatment processes are performed while stirring the pitch to a rotation speed of 80 to 120 revolutions per minute under an inert atmosphere. The manufacturing method further comprises the step of molding a mixture of the filler and the binder, primarily heat-treating the molding at 1,100 to 1,250 deg.C for 2 to 4 hours to carbonize the molding, and secondly heat-treating the carbonized molding at 2,200 to 3,000 deg.C for 1 to 3 hours to graphitize the carbonized molding.
Abstract translation: 提供一种制造高密度石墨的方法，通过使用沥青制备填料和具有高挥发性的粘合剂，通过碳化和使填料和粘合剂通过而制造具有高密度，高硬度，高自润滑性和致密孔的石墨 石墨化工艺和通过该方法制造的高密度石墨被提供用作机械部件或机械密封件的石墨。 高密度石墨的制造方法包括以下步骤：在490〜500℃下对沥青进行0.5〜4小时的热处理，制备挥发度调整为3〜7重量％的填料。 ％; 在200〜240℃下对沥青进行1〜6小时的热处理，调制挥发度为58〜60重量％的粘合剂。 将填料和粘合剂的颗粒控制在相当于325目或更小的筛孔尺寸的颗粒尺寸; 并将填料和粘合剂彼此混合。 填料是焦炭。 在惰性气氛下，以80〜120转/分钟的转速搅拌沥青，进行热处理工序。 该制造方法还包括将填料和粘合剂的混合物成型的步骤，首先在1100〜1250℃热处理2〜4小时，使成形体碳化，二次对碳化成型品进行热处理 2200〜3000℃1〜3小时，对碳化成型品进行石墨化。
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17.发明授权금속 도핑된 폴리카보실란의 제조 방법, 이를 포함하는나노결정형 실리콘 카바이드 섬유를 제조하는 방법 및 그에의해 제조되는 ＳｉＣ 섬유 失效金属掺杂的多晶工艺用于生产碳硅烷，用于生产纳米晶碳化硅纤维包含其的方法，以及因此碳化硅纤维由产生
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公开(公告)号：KR100888769B1
公开(公告)日：2009-03-17
申请号：KR1020070009287
申请日：2007-01-30
Applicant: 한국산업기술평가원(관리부서:요업기술원)
Abstract: 본 발명은 입자간 및 기판과의 사이에 결합력을 제고하면서 보다 큰 비표면적을 제공할 수 있는 나노 입자 집적화막 형성방법에 관한 것이다. 본 발명은 액상 전구체를 분무하는 단계, 분무된 액적을 가열실로 도입하는 단계, 가열실에서 상기 액적을 가열하여 기상 나노입자를 생성하는 단계, 상기 기상 나노 입자를 증착실로 도입하는 단계 및 상기 도입된 기상 나노 입자를 기판에 증착하여 나노입자막을 형성하는 단계를 포함하는 나노 입자 집적화 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 나노 입자의 물성과 입자간 및 기판과의 사이에 결합력을 유지하면서 높은 비표면적을 나타내어 기존의 방법에서는 제공할 수 없었던 새로운 형태의 새로운 물성을 갖는 고집적 나노입자막을 제공할 수 있게 된다.
나노입자, 고집적화, NGF, 가지, 비표면적-
公开(公告)号：KR100842850B1
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：KR1020060128368
申请日：2006-12-15
Applicant: 한국산업기술평가원(관리부서:요업기술원)
Abstract: 양극산화법을 이용하여 모재표면에 자기 정렬된 산화물 나노세공(Nanopore)을 제공하는 방법 및 이에 의해 제조되는 피막 부재에 관한 것이다. 본 발명은, 모재의 표면에 다공성 산화물 피막을 형성하는 방법에 있어서, 모재에 전압을 인가하여 1차 양극 산화를 하는 단계; 상기 1차 양극 산화 단계에서 형성된 피막을 제거하여 모재 표면에 프리텍스쳐를 형성하는 단계; 및 프리텍스쳐가 형성된 모재에 1차 양극산화 때보다 낮은 전압을 인가하여 상기 모재를 2차 양극 산화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 다공성 피막 형성 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 불규칙적인 나노 세공이 집단별로 일정한 패턴으로 배열되어 자기 정렬된 나노 세공 피막 부재를 제공할 수 있게 되며, 종래에는 얻을 수 없었던 20 nm 이하의 나노 세공의 자기 정렬도 본 발명의 방법에 의해 가능하다. 본 발명은 고밀도 디바이스, CNT 디바이스, 포토닉 디바이스등 차세대 나노디바이스 및 나노응용 기술에 큰 역할을 할 것이다.
양극산화, 자기조립, 나노세공-
公开(公告)号：KR100824430B1
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：KR1020060100509
申请日：2006-10-16
Applicant: 한국산업기술평가원(관리부서:요업기술원) , 임광현
IPC: C01B31/04
Abstract: 본 발명은 피치를 일정한 온도와 시간 조건에서 열처리하여 휘발분량이 조절된 충진제와 바인더를 포함하는 고밀도 흑연 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에서 피치를 이용하여 제조된 충진제는 통상의 충진제에 비해 휘발분량이 높았으며, 상기 충진제를 사용하여 탄화, 흑연화 과정을 거쳐 제조된 흑연은 밀도가 높고, 경도도 높았다. 또한, 본 발명에서 제조된 흑연은 자기 윤활성을 띠었고 기공이 거의 보이지 않을 만큼 치밀화 되었다. 따라서, 본 발명의 방법에 따라 제조된 흑연은 고밀도 흑연으로서 기계용 부품이나 미케니칼 씰용으로 사용될 수 있다.
흑연, 충진제, 바인더, 휘발분
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