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公开(公告)号：KR100954544B1
公开(公告)日：2010-04-22
申请号：KR1020080061394
申请日：2008-06-27
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
Inventor： 김창규
Abstract: 본 발명은 출력되는 빛의 파장을 일정 범위 내에서 연속적으로 변화시킬 수 있는 미소기전집적시스템(MEMS: Micro-Electro-Mechanical System) 형태의 열구동 파장가변 광원에 관한 것이다. 본 발명에 따른 열구동 파장가변 광원은 기판, 상기 기판의 상부에 위치하는 하부반사경, 상기 하부반사경의 상부에 위치하는 능동매질, 상기 능동매질의 상부에 위치하는 상부고정반사경, 상기 능동매질에 전류를 통하기 위해 상기 능동매질의 하부에 위치하는 제1전극, 상기 능동매질에 전류를 통하기 위해 상기 능동매질의 상부에 위치하는 제2전극, 상기 하부반사경의 위에 설치되며 양측단부가 상기 하부반사경에 고정되는 열구동체, 상기 열구동체에 전류를 통하기 위해 열구동체에 연결되도록 설치되는 제3전극과 제4전극, 상기 열구동체의 중앙에 일측이 연결되어 일방향으로 연장되는 지지대, 상기 지지대의 회전중심을 형성하기 위해 상기 지지대에 일측이 연결되며 타측이 상기 하부반사경에 고정되고 비틀림 탄성을 갖는 연결부, 및 상기 능동매질의 상부에서 상기 능동매질에 대향되게 위치하며 상기 제2전극보다 높게 위치하도록 상기 지지대의 타측에 연결되는 상부이동반사경을 포함하여 구성된다.
파장가변, 광원, 레이저, 발광 다이오드, 멤스-
公开(公告)号：KR20180058352A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：KR20160157188
申请日：2016-11-24
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
Inventor： 김창규
CPC classification number: G01L1/18 , G01L1/14 , G01L9/0002 , G01L9/0005
Abstract: 일실시예에따른압력센서는, 하부평판; 상기하부평판상에제1 방향으로배치된제1 도체어레이; 상기제1 도체어레이상에상기제1 방향과교차하는제2 방향으로배치된제2 도체어레이; 및상기제2 도체어레이상에배치된상부평판;을포함할수 있다.
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公开(公告)号：KR101667856B1
公开(公告)日：2016-10-20
申请号：KR1020140182862
申请日：2014-12-18
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: G01Q60/48
Abstract: 일실시예에따른프로브팁 제조방법은, 실리콘재질을포함하는상판및 하판, 및상기상판및 하판사이에접하도록마련되는산화막판을포함하는 SOI(silicon-on-insulator) 기판을제공하는단계; 상기 SOI 기판의상면과하면각각에 1차보호막을증착하는단계; 상기상면에증착된 1차보호막에서프로브팁의기둥부분을남기고상기상면에증착된 1차보호막을제거하는단계; 상기하면에증착된 1차보호막에서지지부부분만남기고상기하면에증착된 1차보호막을제거하는단계; 상기하면의상기 1차보호막이제거된부분의하판을산화막판까지식각하는단계; 상기상면에 2차보호막을증착하는단계; 상기상면에증착된 2차보호막에서외팔보(cantilever) 부분과지지부부분을남기고상기 2차보호막을제거하는단계; 상기상면의상기 2차보호막이제거된부분의상판을식각하는단계; 상기상면의 2차보호막을제거하는단계; 상기상판을일정한깊이까지식각하여실리콘기둥을형성하는단계; 남아있는상기상면의 1차보호막을제거하는단계; 상기실리콘기둥의옆면을포함한상기상면에 3차보호막을증착하는단계; 상기실리콘기둥끝단의테두리부분의 3차보호막을식각하는단계; 상기 3차보호막이식각된틈을통해상기실리콘기둥끝단을뾰족하게식각하는단계; 및남아있는상기보호막들을모두제거하고상기프로브팁을분리하는단계;를포함할수 있다.
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公开(公告)号：KR101666721B1
公开(公告)日：2016-10-17
申请号：KR1020140166588
申请日：2014-11-26
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
Inventor： 김창규
Abstract: 일실시예에따른프로브팁 제조방법에있어서, 상기제조방법은 (a) 육면체의기판형성재료로구성된덩어리를제공하는단계, (b) 상기덩어리의상면에기둥단면크기의마스크물질을코팅하고패터닝하는단계, (c) 상기기둥단면크기를가지는기둥이형성되도록상기덩어리를이방성식각처리하여일체화된기둥과기판을형성하는단계, (d) 상기코팅된마스크물질을제거하는단계, (e) 상기기판과기둥의표면에일정한두께의보호막을코팅하는단계. (f) 상기기둥의테두리부분에위치된보호막을식각하여상기기둥의테두리부분을노출시키는단계, (g) 상기노출된기둥의테두리부분에대한식각처리하여첨단부를형성하는단계, 및 (h) 상기보호막을모두제거하는단계를포함할수 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160063063A
公开(公告)日：2016-06-03
申请号：KR1020140166588
申请日：2014-11-26
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
Inventor： 김창규
CPC classification number: G01R1/067 , G01R1/06705 , G01R1/06733 , G01R1/06738 , G01R1/06755 , G01R3/00
Abstract: 일실시예에따른프로브팁 제조방법에있어서, 상기제조방법은 (a) 육면체의기판형성재료로구성된덩어리를제공하는단계, (b) 상기덩어리의상면에기둥단면크기의마스크물질을코팅하고패터닝하는단계, (c) 상기기둥단면크기를가지는기둥이형성되도록상기덩어리를이방성식각처리하여일체화된기둥과기판을형성하는단계, (d) 상기코팅된마스크물질을제거하는단계, (e) 상기기판과기둥의표면에일정한두께의보호막을코팅하는단계. (f) 상기기둥의테두리부분에위치된보호막을식각하여상기기둥의테두리부분을노출시키는단계, (g) 상기노출된기둥의테두리부분에대한식각처리하여첨단부를형성하는단계, 및 (h) 상기보호막을모두제거하는단계를포함할수 있다.
Abstract translation: 根据实施例，提供了一种用于制造探针尖端的方法。 该制造方法包括以下步骤：（a）提供由六面体基板形成材料构成的块状物; （b）在所述块体的上表面上涂布和图案化柱状横截面尺寸的掩模材料; （c）通过对所述块进行各向异性热蚀刻处理，形成具有柱截面尺寸的柱状的一体化的支柱和基板; （d）去除涂覆的面罩材料; （e）在基板和支柱的表面上涂覆规则厚度的保护膜; （f）通过蚀刻位于柱的边缘部分中的保护膜来暴露柱的边缘部分; （g）通过对所述暴露的支柱的边缘部分进行蚀刻处理来形成尖端; 和（h）去除整个保护膜。 本发明旨在提供一种能够具有高纵横比并调节端部直径的探针尖端。
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公开(公告)号：KR101183458B1
公开(公告)日：2012-09-17
申请号：KR1020110015558
申请日：2011-02-22
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
Inventor： 김창규
Abstract: 본 발명에 의한 정전 방식 에너지 수집 장치는, 베이스와, 상기 베이스에 고정되어 있는 제1 평행판과, 상기 제1 평행판과 소정의 거리 이격된 평행 상태로 제공되고 외력이 가해지면 상기 제1 평행판에 대해서 평행한 상태를 유지하며 상기 베이스측을 향해 진동하는 제2 평행판을 포함하는 질량체를 포함한다.
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公开(公告)号：KR102079072B1
公开(公告)日：2020-02-19
申请号：KR1020170170611
申请日：2017-12-12
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
Inventor： 김창규
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公开(公告)号：KR102032403B1
公开(公告)日：2019-10-15
申请号：KR1020170075953
申请日：2017-06-15
Applicant: (주)에스아이엔지니어링 , 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: H01L21/68 , H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/677 , H01L21/66
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公开(公告)号：KR101910712B1
公开(公告)日：2018-10-22
申请号：KR1020160157188
申请日：2016-11-24
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
Inventor： 김창규
Abstract: 일실시예에따른압력센서는, 하부평판; 상기하부평판상에제1 방향으로배치된제1 도체어레이; 상기제1 도체어레이상에상기제1 방향과교차하는제2 방향으로배치된제2 도체어레이; 및상기제2 도체어레이상에배치된상부평판;을포함할수 있다.
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