아산화질소 함유 기체 혼합물로부터 아산화질소의 회수 및 정제공정
    11.
    发明公开
    아산화질소 함유 기체 혼합물로부터 아산화질소의 회수 및 정제공정 有权
    从含一氧化二氮的气体混合物中回收和纯化一氧化二氮的方法

    公开(公告)号:KR1020180010366A

    公开(公告)日:2018-01-31

    申请号:KR1020160091920

    申请日:2016-07-20

    Abstract: 본발명은아산화질소를포함하는기체혼합물또는배기가스를공급하여기체혼합물내 함유된미세액적상태의수분, 미세액적상태의유분및 미세입자불순물로이루어지는군으로부터선택되는 1 종이상을제거하는전처리공정; 상기전처리공정을거친기체혼합물로부터아산화질소분리성능이우수한분리막을사용하여아산화질소를질소또는/및산소로부터선택적으로분리하여농축하는막분리공정; 상기막분리공정을거친기체혼합물에함유된이산화탄소, 이산화질소, 수증기및 유기탄화수소로이루어지는군으로부터선택되는 1 종이상의불순물을흡착에의해제거하는흡착공정; 및상기흡착공정을거친기체혼합물을압축및 냉각하고증류로분리하여고순도아산화질소를회수하는증류공정;을포함하는아산화질소의회수및 정제공정을제공한다. 본발명에따른아산화질소의회수및 정제공정에의하여아산화질소, 아디프산, 질산및 카프로락탐생산공정의배기가스로부터이산화탄소에비하여지구온난화지수(GWP)가 310배높은아산화질소를회수하여온실가스의저감효과를얻을수 있다. 또한, 본발명에따른아산화질소의회수및 정제공정에의하여아산화질소, 아디프산, 질산및 카프로락탐생산공정의배기가스로부터반도체, LCD, OLED 공정용등으로사용할수 있는고순도(99.999 부피% 이상)의아산화질소를고회수율(90 % 이상)로회수및 정제할수 있다.

    Abstract translation: 本发明的用于除去从所述组中的至少一个构件选自由油和细颗粒杂质的在美国税务敌人状态中在气体混合物中或供给到含有一氧化二氮的气体混合物中的废气含有非税敌人状态湿气 预处理过程; 使用具有优异的分离性能一氧化二氮从由从氮和/或氧,一氧化二氮选择性分离富含粗气体混合物的预处理工艺的分离膜的膜分离工艺; 的选自由二氧化碳,二氧化氮,水蒸汽和包含通过该膜分离处理后的气体中的有机烃类组成的组中选择的一个构件上的杂质的吸附工序中,将混合物通过抽吸除去; 和压缩和冷却所述气体混合物在吸附通过蒸馏和回收高纯度一氧化二氮的蒸馏工序的粗分离;提供了含有一氧化二氮的回收和纯化过程。 通过根据本发明,一氧化二氮,己二酸,硝酸,和己内酰胺的全球变暖潜势(GWP)回收高310倍氧化亚氮与来自生产过程的温室气体的排放气体的二氧化碳的一氧化二氮的回收和纯化过程 可以获得。 此外,通过在根据本发明,己二酸,硝酸,和己半导体从中可以用作例如用于OLED步骤内酰胺制造工序,液晶,高纯度的废气中的一氧化二氮的回收和纯化过程一氧化二氮(体积或更高99.999% )一氧化氮氮可以高回收率(90%以上)进行回收和纯化。

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