Agentes para modificar la reología para masas de recubrimiento que pueden curar por radiación

    公开(公告)号:ES2535938T3

    公开(公告)日:2015-05-19

    申请号:ES12704425

    申请日:2012-02-20

    Applicant: BASF SE

    Abstract: Agente para mejorar la reología, constituido de (a1) por lo menos un diisocianato alifático y/o cicloalifático y/o por lo menos un poliisocianato a base de diisocianatos alifáticos y/o cicloalifáticos, (a2) por lo menos un compuesto con por lo menos uno, preferiblemente exactamente un grupo reactivo hacia los grupos isocianato y por lo menos un doble enlace C>=C que puede polimerizar por radicales libres, (a3) opcionalmente por lo menos un compuesto con por lo menos dos grupos reactivos hacia los grupos isocianato, que son elegidos de entre grupos hidroxi-, mercapto-, amino primarios y/o secundarios, con un peso molecular promedio aritmético Mn no superior a 500 g/mol, (a4) opcionalmente por lo menos un compuesto con por lo menos dos grupos reactivos hacia los grupos isocianato, que son elegidos de entre grupos hidroxi-, mercapto-, amino primarios y/o secundarios, con un peso molecular promedio aritmético Mn superior a 500 g/mol, (a5) por lo menos una amina de la fórmula (III) H-NR1R2, así como (a6) opcionalmente por lo menos un compuesto diferente de (a2) y (a5), el cual exhibe exactamente un grupo reactivo hacia grupos isocianato así como (a7) opcionalmente por lo menos un poliisocianato diferente de (a1) que contiene - por lo menos un grupo (met)acrilato y unido a él - por lo menos un grupo urea de la fórmula (I) -NH-(CO)-NR1R2 donde R1 y R2 significan en cada caso independientemente uno de otro hidrógeno, alquilo, arilo, cicloalquilo, aralquilo, con la condición de que por lo menos uno de los radicales es diferente a hidrógeno, donde el compuesto (a1) es un poliisocianato que contiene grupos alofanato, en los cuales por lo menos una parte de los componentes (a2) está unida a grupos alofanato.

    14.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:AT471218T

    公开(公告)日:2010-07-15

    申请号:AT05753770

    申请日:2005-06-17

    Applicant: BASF SE

    Abstract: The invention relates to an apparatus and a method of producing molding materials and coatings on substrates by curing radiation-curable materials under an inert gas atmosphere by exposure to high-energy radiation.

    ACRYLATE-BASED MONOMERS FOR USE AS REACTIVE DILUENTS IN PRINTING FORMULATIONS

    公开(公告)号:SG11201906757PA

    公开(公告)日:2019-08-27

    申请号:SG11201906757P

    申请日:2018-02-09

    Applicant: BASF SE

    Abstract: INTERNATIONAL APPLICATION PUBLISHED UNDER THE PATENT COOPERATION TREATY (PCT) (19) World Intellectual Property Organization International Bureau (43) International Publication Date 16 August 2018 (16.08.2018) WIP0 I PCT omit IIl °nolo iflo oimIE (10) International Publication Number WO 2018/146259 Al (51) International Patent Classification: C09D 11/101 (2014.01) C09D 4/00 (2006.01) B41M 7/00 (2006.01) CO9D 11/30 (2014.01) (21) International Application Number: PCT/EP2018/053304 (22) International Filing Date: 09 February 2018 (09.02.2018) (25) Filing Language: English (26) Publication Language: English (30) Priority Data: 17155623.6 10 February 2017 (10.02.2017) EP (71) Applicant: BASF SE [DE/DE]; Carl-Bosch-Str. 38, 67056 Ludwigshafen am Rhein (DE). (72) Inventors: FLECKENSTEIN, Christoph; Carl-Bosch- Str. 38, 67056 Ludwigshafen (DE). BARO, Juergen; Carl- Bosch-Str. 38, 67056 Ludwigshafen (DE). BECK, Erich; Carl-Bosch-Str. 38, 67056 Ludwigshafen (DE). KALLER, Martin; Carl-Bosch-Str. 38, 67056 Ludwigshafen (DE). MISSKE, Andrea; Carl-Bosch-Str. 38, 67056 Lud- wigshafen (DE). FLEISCHHAKER, Friederike; Carl- Bosch-Str. 38, 67056 Ludwigshafen (DE). = (74) Agent: RIPPEL, Hans Christoph; Isenbruck Bosl Horschler LLP Patentanwalte, EASTSITE ONE, Secken- heimer LandstraBe 4, 68163 Mannheim (DE). (81) Designated States (unless otherwise indicated, for every kind of national protection available): AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW. (84) Designated States (unless otherwise indicated, for every kind of regional protection available): ARIPO (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW), Eurasian (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM), European (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR), OAPI (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG). Declarations under Rule 4.17: as to applicant's entitlement to apply for and be granted a patent (Rule 4.17(ii)) of inventorship (Rule 4.17(iv)) Published: with international search report (Art. 21(3)) W O 20 18/ 146 25 9 Al (54) Title: ACRYLATE-BASED MONOMERS FOR USE AS REACTIVE DILUENTS IN PRINTING FORMULATIONS (57) : The invention relates to compositions, comprising. a)1.00 to 65.00% by weight of at least one compound of formula (I), wherein R 1 , R 2 , 0 R 3 , R 4 are each independently H, C1-C6-alkyl, C1-C6-alkoxy, or C1-C6-alkoxy- (I) Ci-C6-alkyl; R is H or Ci-C6-alkyl; Xis CR6R7, 0, or NR 8 ; R 6 R are each in- 7 dependently H, C1-C6-alkyl, Ci-C6-alkoxy, or C1-C6-alkoxy-Ci-C6-alkyl; R8 0 R 5 is H, C1-C6-alkyl, or C1-C6-alkoxy-C1-C6-alkyl; k is 1, 2, 3, 4 or 5, as com- ponent A; b) 1.00 to 60.00% by weight of at least one monomer having two (meth)acrylate groups and having a molecular weight of no more than 500 Dal- ton, as component B; c) 0 to 25% by weight of at least one monomer having at least three (meth)acrylate groups and having a molecular weight of no more than 600 Dalton, as component C; and d) 1.00 to 30.00% by weight of at least one polymer having at least two (meth)acrylate groups and having a molecular weight of at least 700 Dalton, as component D; with the proviso that the amount of components A + B is at least 50% by weight, as well as the use of these compositions as printing inks, in particular inkjet printing inks. R1 R2 R:R4 X N

    DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO PARA EL CURADO MEDIANTE RADIACION DE ALTA ENERGIA EN ATMOSFERA DE GAS INERTE.

    公开(公告)号:ES2346068T3

    公开(公告)日:2010-10-08

    申请号:ES05753770

    申请日:2005-06-17

    Applicant: BASF SE

    Abstract: Dispositivo 1 para la realización de un curado de revestimientos sobre un sustrato S en atmósfera de gases inertes, que contiene - recubrimientos laterales 2, 3, 4 y 5, - recubrimientos superiores e inferiores 6 y 7, en donde 2, 3, 4, 5, 6 y 7 encierran conjuntamente un espacio interior, - una o múltiples paredes divisorias 8 que subdividen el interior, en donde las paredes divisorias 8 se unen con el recubrimiento inferior 7 y mantienen una distancia d1 con respecto al recubrimiento superior 6, - una o múltiples paredes divisorias 9 que subdividen el interior, en donde las paredes divisorias 9 se unen con el recubrimiento superior 6 y mantienen una distancia d2 con respecto al recubrimiento inferior 7, - en donde 8 y 9 conforman con la respectiva pared divisoria adyacente 9 u 8 y, eventualmente, con los recubrimientos laterales 2 o 3, un espacio interior subdividido (compartimento), - al menos, una fuente de radiación 10 dentro del interior y/o que penetra en el interior, - al menos, un dispositivo de suministro de gas 11, con el cual se puede conducir un gas o una mezcla de gases hacia el interior o puede formarse allí, - al menos, un dispositivo de transporte 12 para el sustrato S, - entrada 13 y - salida 14, en donde - las paredes divisorias 8 se encuentran esencialmente perpendiculares sobre el recubrimiento inferior 7, - las paredes divisorias 9 se encuentran esencialmente perpendiculares sobre el recubrimiento superior 6, - las distancias d1 y d2, así como el ancho b del dispositivo 1 están seleccionados de modo tal que sean mayores que las dimensiones del sustrato S a lo largo de la dirección de avance del dispositivo de transporte 12 y - mediante los dispositivos 2, 3, 8 y 9 se forman, al menos, 4 compartimentos.

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