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公开(公告)号：CN103562440A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201280025459.6
申请日：2012-03-12
Applicant: JX日矿日石金属株式会社
CPC classification number: H05K1/0274 , C25D3/38 , C25D3/58 , C25D5/10 , C25D5/12 , C25D5/48 , C25D7/0614 , C25D11/38 , H05K1/09 , H05K3/384 , H05K2201/0141 , H05K2201/0355 , Y10T428/12049
Abstract: 本发明提供一种覆铜层压板，其是贴合有实施了包含铜－钴－镍合金镀敷的粗糙化处理的铜箔和液晶聚合物的覆铜层压板，其在铜箔电路蚀刻后没有液晶聚合物树脂表面上的粗糙化粒子残渣。该覆铜层压板是贴合有铜箔和液晶聚合物的覆铜层压板，其中，该铜箔在与液晶聚合物的粘接面上形成有铜的一次粒子层和在该一次粒子层之上的二次粒子层，该二次粒子层包含含有铜、钴和镍的三元系合金，该一次粒子层的平均粒径为0.25～0.45μm，该二次粒子层的平均粒径为0.05～0.25μm。
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公开(公告)号：CN105555012B
公开(公告)日：2020-03-03
申请号：CN201510691464.6
申请日：2015-10-22
Applicant: JX日矿日石金属株式会社
Abstract: 本发明涉及铜放热材、印刷配线板及其制造方法、以及使用有该铜放热材的产品。本发明提供一种具有良好放热性的铜放热材。本发明的铜放热材是在一个或两个面上形成含有选自Cu、Co、Ni、W、P、Zn、Cr、Fe、Sn及Mo中的一种以上的金属的合金层，且利用雷射光波长为405nm的雷射显微镜测得的一个或两个表面的面粗糙度Sz为5μm以上。
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公开(公告)号：CN104427757B
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201410410740.2
申请日：2014-08-20
Applicant: JX日矿日石金属株式会社
Abstract: 本发明公开了表面处理铜箔、附载体铜箔、积层板、印刷布线板、电子机器、以及印刷布线板的制造方法。本发明的表面处理铜箔是通过粗化处理而在一个铜箔表面及/或两个铜箔表面形成粗化粒子，关于粗化处理表面的所述粗化粒子，长径为100nm以下的粗化粒子每单位面积形成有50个/μm2以上，粗化处理表面的MD的60度光泽度为76～350％，粗化处理表面含有选自由Ni、Co所组成的群中的任一种以上的元素，在粗化处理表面含有Ni的情况下，Ni的附着量为1400μg/dm2以下，在粗化处理表面含有Co的情况下，Co的附着量为2400μg/dm2以下。本发明提供一种与树脂良好地粘接，且通过蚀刻而去除铜箔后的树脂的透明性优异，信号的传输损耗少的表面处理铜箔及使用其的积层板。
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公开(公告)号：CN104120471B
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201410171666.3
申请日：2014-04-25
Applicant: JX日矿日石金属株式会社
Abstract: 本发明提供即便用于高频电路基板也会良好抑制传输损耗且会良好抑制铜箔表面的落粉的发生的高频电路用铜箔。该高频电路用铜箔是在铜箔的表面形成了铜的一次粒子层之后、在该一次粒子层上形成了含有铜、钴及镍的3元系合金的二次粒子层的铜箔，利用激光显微镜测得的粗化处理面的凹凸的高度平均值为1500以上。
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公开(公告)号：CN103562440B
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201280025459.6
申请日：2012-03-12
Applicant: JX日矿日石金属株式会社
CPC classification number: H05K1/0274 , C25D3/38 , C25D3/58 , C25D5/10 , C25D5/12 , C25D5/48 , C25D7/0614 , C25D11/38 , H05K1/09 , H05K3/384 , H05K2201/0141 , H05K2201/0355 , Y10T428/12049
Abstract: 本发明提供一种覆铜层压板，其是贴合有实施了包含铜－钴－镍合金镀敷的粗糙化处理的铜箔和液晶聚合物的覆铜层压板，其在铜箔电路蚀刻后没有液晶聚合物树脂表面上的粗糙化粒子残渣。该覆铜层压板是贴合有铜箔和液晶聚合物的覆铜层压板，其中，该铜箔在与液晶聚合物的粘接面上形成有铜的一次粒子层和在该一次粒子层之上的二次粒子层，该二次粒子层包含含有铜、钴和镍的三元系合金，该一次粒子层的平均粒径为0.25～0.45μm，该二次粒子层的平均粒径为0.05～0.25μm。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105323958A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201510284347.8
申请日：2015-05-28
Applicant: JX日矿日石金属株式会社
CPC classification number: H05K1/09 , C25D3/38 , H05K3/382 , H05K2201/0355
Abstract: 本发明涉及表面处理铜箔、附载体铜箔、积层体、印刷配线板、电子机器、表面处理铜箔的制造方法及印刷配线板的制造方法。其提供一种剥离强度良好、且即便用于高频电路基板也可良好地抑制传输损耗的表面处理铜箔。该表面处理铜箔依序具有：铜箔、含有一种以上选自由Ni、Co、Zn、W、Mo及Cr所组成的群中的元素的金属层、及以铬氧化物形成的表面处理层，金属层中选自由Ni、Co、Zn、W、Mo及Cr所组成的群中的元素的合计附着量为200～2000μg/dm2，施加250℃×10分钟的热处理后，以仅露出表面处理层的表面的状态于浓度为20mass％且温度为25℃的硝酸浴浸渍30秒时，铜于硝酸浴的溶出量为0.0030g/25cm2以下。
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公开(公告)号：CN104220642B
公开(公告)日：2018-02-02
申请号：CN201380018135.4
申请日：2013-03-29
Applicant: JX日矿日石金属株式会社
Inventor： 福地亮
CPC classification number: H05K1/09 , C23C22/24 , C23C22/83 , C23C30/00 , C23C30/005 , C23C2222/20 , H05K1/0242 , H05K1/0393 , H05K3/382 , H05K3/389 , H05K2201/0141 , H05K2201/032 , H05K2201/0355 , Y10T428/12056 , Y10T428/12556 , Y10T428/12569 , Y10T428/12847 , Y10T428/12882 , Y10T428/12903 , Y10T428/1291 , Y10T428/12917 , Y10T428/12937 , Y10T428/26 , Y10T428/263 , Y10T428/27 , Y10T428/273
Abstract: 一种表面处理铜箔，其铜箔表面的Si附着量为3.1～300μg/dm2，铜箔表面的N附着量为2.5～690μg/dm2。本发明的课题在于：获得一种在提供“在适用于高频用途的液晶聚合物(LCP)积层有铜箔”的可挠性印刷基板(FPC)用铜箔时剥离强度提高的铜箔。
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公开(公告)号：CN104246013B
公开(公告)日：2018-01-23
申请号：CN201380018060.X
申请日：2013-03-29
Applicant: JX日矿日石金属株式会社
Inventor： 福地亮
CPC classification number: C23C22/24 , C23C22/83 , C23C2222/20 , C25D7/0614 , H05K1/09 , H05K3/022 , H05K3/382 , H05K2201/0141
Abstract: 一种表面处理铜箔，于铜箔表面的XPS survey测定中，Si浓度为2.0％以上，N浓度为2.0％以上。本发明的课题在于：获得一种在提供“在适用于高频用途的液晶聚合物(LCP)积层有铜箔”的可挠性印刷基板(FPC)用铜箔时剥离强度提高的铜箔。
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公开(公告)号：CN105774118B
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201610012147.1
申请日：2016-01-08
Applicant: JX日矿日石金属株式会社
IPC: B32B15/01 , B32B15/20 , B32B15/082 , B32B37/15
Abstract: 本发明涉及附镀敷的金属基材。具体提供一种尽管使用含有常温下与氧的反应性较高的元素的金属基材，焊料密接性及耐候性也优异的金属基材。本发明的附镀敷的金属基材是在金属基材的一部分或全部的表面上形成了选自由Co镀层、以及含有选自由Co、Ni及Mo所组成的群中的2种以上的元素的合金镀层所组成的群中的镀层的附镀敷的金属基材，且该镀层中的Co、Ni及Mo的合计附着量为500μg/dm2以上，且金属基材含有选自由Ti、Si、Mg、P、Sn、Zn、Cr、Zr、V、W、Na、Ca、Ba、Cs、Mn、K、Ga、B、Nb、Ce、Be、Nd、Sc、Hf、Ho、Lu、Yb、Dy、Er、Pr、Y、Li、Gd、Pu、In、Fe、La、Th、Ta、U、Sm、Tb、Sr、Tm及Al所组成的群中的1种以上的元素。
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公开(公告)号：CN107041064A
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201610967732.7
申请日：2013-03-29
Applicant: JX日矿日石金属株式会社
Inventor： 福地亮
CPC classification number: H05K1/09 , C23C22/24 , C23C22/83 , C23C30/00 , C23C30/005 , C23C2222/20 , H05K1/0242 , H05K1/0393 , H05K3/382 , H05K3/389 , H05K2201/0141 , H05K2201/032 , H05K2201/0355 , Y10T428/12056 , Y10T428/12556 , Y10T428/12569 , Y10T428/12847 , Y10T428/12882 , Y10T428/12903 , Y10T428/1291 , Y10T428/12917 , Y10T428/12937 , Y10T428/26 , Y10T428/263 , Y10T428/27 , Y10T428/273 , C23C28/34 , C25D11/38
Abstract: 本申请涉及一种表面处理铜箔，其铜箔表面的Si附着量为3.1～300μg/dm2，铜箔表面的N附着量为2.5～690μg/dm2。本发明的课题在于：获得一种在提供“在适用于高频用途的液晶聚合物(LCP)积层有铜箔”的可挠性印刷基板(FPC)用铜箔时剥离强度提高的铜箔。
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