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公开(公告)号：KR1020070108899A
公开(公告)日：2007-11-13
申请号：KR1020077020525
申请日：2006-02-15
Applicant: 에보니크 데구사 게엠베하
CPC classification number: C09C1/3036 , C01B33/18 , C01P2006/11 , C01P2006/12 , C01P2006/14 , C01P2006/17 , C01P2006/19 , C03B19/106 , C03B19/108 , C03B2201/03 , Y10T428/2982 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995
Abstract: Granules based on silicon dioxide and having the properties : Average grain size: 10 to 120 Vm BET surface area: 40 to 400 m^2/g Pore volume: 0. 5 to 2.5 ml/g Pore size distribution: less than 5 % of the total pore volume exists of pores with a diameter
Abstract translation: 基于二氧化硅并具有以下性质的颗粒：平均粒度：10至120Vm BET表面积：40至400m 2 / g孔体积：0.5至2.5ml / g孔径分布：小于5％ 总孔体积存在直径<5nm的孔，静置中孔和大孔pH值：3.6〜8.5拉伸密度：220〜700g / l它们是通过将二氧化硅分散在水中，喷雾干燥，任选地加热和 /或硅烷化。 而BET表面积为30〜90m 2 / g，DBP指数为80以下，平均聚集面积小于25000nm ^ 2，平均聚集体周长小于1000nm的热解二氧化硅粉末 其中至少70％的聚集体具有小于1300nm的圆周，或者通过使金属含量小于0.2Vg / g的四氯化硅反应制备具有小于0.2Vg / g的金属含量的高纯度热解法制备的二氧化硅 使用30ppb的火焰水解法。
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公开(公告)号：KR1020060087570A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：KR1020067005468
申请日：2004-09-16
Applicant: 에보니크 데구사 게엠베하
IPC: C01B33/113 , C03C1/02 , C03C1/00 , C03B19/12
CPC classification number: C01B33/183 , C03B19/12 , C03B2201/03 , C03C1/02 , Y02P40/57
Abstract: High-purity pyrogenically prepared silicon dioxide having metal contents of less than 0.2 mug/g is prepared by reacting a silicon tetrachloride having a metal content of less than 30 ppb by means of flame hydrolysis. The silicon dioxide can be utilised for the manufacture of high-purity glasses by means of the sol-gel process, which show a high-homogenity. It can be used for the production of shaped articles, which can be used as preforms for the optical fiber spinning.
Abstract translation: 通过火焰水解使具有小于30ppb的金属含量的四氯化硅反应制备金属含量小于0.2mug / g的高纯度热解法制备的二氧化硅。 二氧化硅可用于通过溶胶 - 凝胶法制造高纯度玻璃，这表现出高均匀性。 它可以用于生产成型制品，其可以用作光纤纺丝的预成型件。
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203.发明申请WASSERDAMPFBEHANDLUNG VON SILIZIUMDIOXIDPULVER BEI DER HERSTELLUNG VON QUARZGLAS 审中-公开石英玻璃生产中二氧化硅粉的水蒸汽处理
公开(公告)号：WO2017103170A1
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：PCT/EP2016/081523
申请日：2016-12-16
Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG
Inventor： OTTER, Matthias , LEHMANN, Walter , HÜNERMANN, Michael , NIELSEN, Nils Christian , WHIPPEY, Nigel Robert , GROMANN, Boris , KPEBANE, Abdoul-Gafar , KAYSER, Thomas
CPC classification number: C03B19/108 , C03B17/04 , C03B19/066 , C03B19/106 , C03B19/1095 , C03B2201/03 , C03B2201/04 , C03C3/06 , C03C13/045 , C03C2201/11 , C03C2201/23 , C03C2201/26 , C03C2201/32 , C03C2203/44 , C03C2203/54
Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei das Bereitstellen die Schritte I. Erzeugen eines Siliziumdioxidpulvers mit mindestens zwei Teilchen hergestellt aus einer Silizium-Chlor-Verbindung, II. Kontaktieren des Siliziumdioxidpulvers mit Wasserdampf unter Erhalt eines behandelten Siliziumdioxidpulvers und III. Granulieren des behandelten Siliziumdioxidpulvers zu einem Siliziumdioxidgranulat beinhaltet, und wobei der Chlorgehalt des Siliziumdioxidpulvers höher ist als der Chlorgehalt des Siliziumdioxidgranulats. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Herstellen eines Siliziumdioxidgranulats. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.
Abstract translation:
本发明涉及一种用于制造石英玻璃＆OUML;包括如下工艺步骤：i）提供一Siliziumdioxidgranulats rpers，ii）形成在玻璃从Siliziumdioxidgranulat熔化和iii）形成的石英玻璃与OUML; ...的至少一个的Rpers 的熔融玻璃的一部分，其中，提供一的生产具有由硅 - 氯化合物的至少两种粒子的二氧化硅粉末的步骤，与水蒸汽的二氧化硅粉末的II联系以得到处理过的二氧化硅粉末和III。 将经处理的二氧化硅粉末制粒成二氧化硅颗粒，并且其中二氧化硅粉末的氯含量高于二氧化硅颗粒的氯含量。 本发明还涉及一种石英玻璃＆OUML;主体，可以通过此方法获得BEAR是ltlich。 本发明还涉及生产二氧化硅颗粒的方法。 此外，本发明涉及一种光导，发光装置和模制体，其每一个都可以通过进一步处理石英玻璃体
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204.发明申请GLASFASERN UND VORFORMEN AUS QUARZGLAS MIT GERINGEM OH-, CL- UND AL-GEHALT 审中-公开优质玻璃纤维和低OH，CL和AL含量的形式
公开(公告)号：WO2017103153A1
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：PCT/EP2016/081503
申请日：2016-12-16
Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG
Inventor： HÜNERMANN, Michael , HOFMANN, Achim , FABIAN, Heinz , OTTER, Matthias , KAYSER, Thomas
IPC: C03B20/00 , C03B37/012 , C03B19/10 , C03B19/06
CPC classification number: C03B37/01211 , C03B19/066 , C03B19/108 , C03B19/1095 , C03B2201/03 , C03B2201/04 , C03C1/026 , C03C3/06 , C03C13/045 , C03C2201/11 , C03C2201/23 , C03C2201/32
Abstract: Die Erfindung betrifft einen Lichtleiter beinhaltend eine Hülle M1 und einen oder mehrere Kerne, wobei die Hülle M1 die Kerne umgibt, wobei jeder Kerneinen Brechungsindexverlauf senkrecht zur maximalen Kernausdehnung aufweist, wobei mindestens ein Brechungsindex n K von jedem Brechungsindexverlauf größer ist als der Brechungsindex n M1 der Hülle M1; wobei die Hülle M1 aus Siliziumdioxid besteht und einen OH-Gehalt von weniger als 10 ppm; und einen Chlorgehalt von weniger als 60 ppm; und einen Aluminiumgehalt von weniger als 200 ppb aufweist. Die Erfindung betrifft ebenfalls ein Siliziumdioxidgranulat I, gekennzeichnet durch einen Chlorgehalt von weniger als 200 ppm und einen Aluminiumgehalt von weniger als 200 ppb, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht des Siliziumdioxidgranulats I. Die Erfindung betrifft ebenfalls ein Siliziumdioxidgranulat II, gekennzeichnet durch einen Chlorgehalt von weniger als 500 ppm und einen Aluminiumgehalt von weniger als 200 ppb. Weiterhin betrifft die Erfindung Verfahren zum Herstellen von erfindungsgemäßen Siliziumdioxidgranulaten I und II sowie zum Herstellen eines Quarzglaskörpers, eines Lichtleiters und eines Lichtleiterkabels.
Abstract translation:
本发明涉及一种光导包括一个H导航用途LLE M1和一个或多个核心，其特征在于，为H导航用途LLE M1芯周围，每个核心具有，垂直于最大芯膨胀的折射率分布至少一个折射率< i>名词的<子>的ķ的;道路它比折射率名词的<子>的 M1 < / i> 的船体M1; 船体M1由二氧化硅制成并具有小于10ppm的OH含量; 并且氯含量小于60ppm; 并且具有小于200ppb的铝含量。 本发明还涉及一种Siliziumdioxidgranulat I，其特征在于由小于200 ppm的氯含量和小于200ppb的铝含量，基于Siliziumdioxidgranulats I的总重量计，本发明还涉及一种Siliziumdioxidgranulat II，其特征在于由以下的氯含量比 500 ppm和铝含量小于200 ppb。 此外，本发明涉及用于生产根据本发明的二氧化硅颗粒I和II以及用于生产石英玻璃体，光导体和光缆的方法
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205.发明申请OPTICAL FIBER PREFORM AND METHOD FOR MANUFACTURING SUCH OPTICAL FIBER PREFORM FROM A PRIMARY PREFORM 审中-公开光纤预制件和从主要预制件制造这种光纤预制件的方法
公开(公告)号：WO2015022562A1
公开(公告)日：2015-02-19
申请号：PCT/IB2013/002235
申请日：2013-08-13
Applicant: DRAKA COMTEQ BV
Inventor： GONNET, Cédric , PETITFRERE, Emmanuel , CALVO, Laurent , DELWAL, Olivier
IPC: C03B37/012 , C03C3/06 , C03C13/04 , G02B6/02
CPC classification number: C03B37/018 , C03B37/01291 , C03B2201/03 , C03B2201/32 , C03B2201/50 , C03B2203/22 , C03C3/06 , C03C13/045 , C03C25/1068 , C03C2201/02 , C03C2201/32 , C03C2201/50
Abstract: The invention relates to an optical fiber preform (20) comprising a primary preform (21) and one or more purified silica-based overclad layers (22) surrounding said primary preform (21), the purified silica-based overclad layers (22) comprising lithium and aluminium, and having a ratio between lithium concentration [Li] and aluminium concentration [Al] satisfying the following inequality (Formula (I)).
Abstract translation: 本发明涉及一种包括初级预制件（21）和围绕所述初级预制件（21）的一种或多种纯化的基于二氧化硅的外包层（22）的光纤预制件（20），所述纯化的基于二氧化硅的外包层（22）包括 锂和铝，并且具有满足以下不等式（式（I））的锂浓度[Li]和铝浓度[Al]之间的比率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2013140706A1
公开(公告)日：2013-09-26
申请号：PCT/JP2013/000273
申请日：2013-01-22
Applicant: 信越石英株式会社
Inventor： 山形 茂
CPC classification number: C30B15/10 , C03B19/095 , C03B2201/03 , C30B29/06 , C30B35/002 , Y02P40/57 , Y10T117/1032
Abstract: 本発明は、直胴部、湾曲部、及び底部を有する単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器であって、前記シリカ容器の外側が気泡を含有する不透明シリカガラスから成り、前記シリカ容器の内側が実質的に気泡を含有しない透明シリカガラスから成り、前記底部の内表面に、ＯＨ基を３００ｍａｓｓｐｐｍを超え３０００ｍａｓｓｐｐｍ以下の濃度で含有する厚さ２０μｍ以上１０００μｍ以下のシリカガラス層が形成されているものであることを特徴とする単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器である。これにより、引き上げた単結晶シリコン中のボイドやピンホールと呼ばれる空洞欠陥を低減することができる低コストの単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器が提供される。
Abstract translation: 一种用于提拉单晶硅的二氧化硅容器，该二氧化硅容器具有直的树干，一个弯曲部分和一个基部，其中用于提升单晶硅的二氧化硅容器的特征在于，二氧化硅容器的外侧包括不透明的石英玻璃 含有气泡，二氧化硅容器的内侧由基本不含气泡的透明石英玻璃构成，厚度为20〜1000μm，含有浓度大于300质量ppm的OH基的二氧化硅玻璃层和 等于或小于3,000质量ppm以下形成在底部的内表面上。 由此提供了一种廉价的二氧化硅容器，用于提升单晶硅，从而能够产生腔体缺陷; 即空隙和针孔在上拉单晶硅中被最小化。
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207.发明申请
公开(公告)号：WO2006094869A1
公开(公告)日：2006-09-14
申请号：PCT/EP2006/050759
申请日：2006-02-08
Applicant: DEGUSSA NOVARA TECHNOLOGY S.P.A. , COSTA, Fulvio , BOARA, Giulio , RÜCKEMANN, Andreas
Inventor： COSTA, Fulvio , BOARA, Giulio , RÜCKEMANN, Andreas
CPC classification number: C03B19/12 , C03B2201/03 , C03C1/006 , C03C3/06 , C03C2201/02 , C03C2203/22 , C03C2203/26 , C03C2203/52
Abstract: Process for the production of monoliths by means of the sol-gel process, comprising the following steps: a. hydrolysis of an alkoxide in aqueous solution to form a hydrolysate and optionally evaporation to optimum concentration of the same, b. addition of an oxide prepared by the pyrogenic route, c. mixing of the hydrolysate of the alkoxide with the oxide prepared by the pyrogenic route to form a colloidal sol, d. optional removal of coarse contents from the colloidal sol, e. gelling of the colloidal sol in a mould, f. optional replacement of the water contained in the resulting aerogel by an organic solvent, g. drying of the aerogel, h. heat treatment of the dried aerogel, the coarse content being removed from the colloidal sol.
Abstract translation: 通过溶胶 - 凝胶法生产整料的方法，包括以下步骤：a。 在水溶液中水解醇盐以形成水解产物，并任选蒸发至最佳浓度，b。 添加通过热解法制备的氧化物，c。 将醇盐的水解产物与通过热解法制备的氧化物混合以形成胶体溶胶，d。 从胶体溶胶中任选去除粗含量， 胶体溶胶在模具中凝胶化，f。 用有机溶剂任选地替代所得气凝胶中所含的水，g。 干燥气凝胶，h。 干燥的气凝胶的热处理，从胶体溶胶中除去粗含量。
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公开(公告)号：WO2005026068A3
公开(公告)日：2006-04-06
申请号：PCT/EP2004010335
申请日：2004-09-16
Applicant: DEGUSSA , JACOBSEN HAUKE , OSWALD MONIKA , SCHUMACHER KAI , MOERTERS MARTIN
Inventor： JACOBSEN HAUKE , OSWALD MONIKA , SCHUMACHER KAI , MOERTERS MARTIN
CPC classification number: C01B33/183 , C03B19/12 , C03B2201/03 , C03C1/02 , Y02P40/57
Abstract: High-purity pyrogenically prepared silicon dioxide having metal contents of less than 0.2 µg/g is prepared by reacting a silicon tetrachloride having a metal content of less than 30 ppb by means of flame hydrolysis. The silicon dioxide can be utilised for the manufacture of high-purity glasses by means of the sol-gel process, which show a high-homogenity. It can be used for the production of shaped articles, which can be used as preforms for the optical fiber spinning.
Abstract translation: 通过火焰水解使具有小于30ppb的金属含量的四氯化硅反应制备金属含量低于0.2μg/ g的高纯度热解法制备的二氧化硅。 二氧化硅可用于通过溶胶 - 凝胶法制造高纯度玻璃，这表现出高均匀性。 它可以用于生产成型制品，其可以用作光纤纺丝的预成型件。
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209.发明申请QUARTZ GLASS COMPONENT FOR A UV RADIATION SOURCE AND METHOD FOR PRODUCING AND TESTING THE APTITUDE 审中-公开石英玻璃部件，用于诊断的生产性和适用性UV辐射源和方法
公开(公告)号：WO2005102950A3
公开(公告)日：2006-03-02
申请号：PCT/EP2005003549
申请日：2005-04-05
Applicant: HERAEUS QUARZGLAS , SHINETSU QUARTZ PROD , SCHREIBER ANDREAS , KUEHN BODO , SCHILLING FRANZ-JOSEF , ARNOLD ERICH , WITZKE HANS-DIETER
Inventor： SCHREIBER ANDREAS , KUEHN BODO , SCHILLING FRANZ-JOSEF , ARNOLD ERICH , WITZKE HANS-DIETER
CPC classification number: C03B19/01 , C03B19/1453 , C03B32/00 , C03B2201/03 , C03B2201/04 , C03B2201/07 , C03B2201/23 , C03C3/06
Abstract: A conventional method for producing a quartz glass component for a UV radiation source includes melting SiO 2 containing grains. The aim of the invention is to provide an improved and inexpensive method which allows for the production of a quartz glass component that is characterized by high radiation resistance. For this purpose, synthetically produced quartz crystals are smelted to give an initial product that consists of quartz glass, and contains hydroxyl groups in a number greater than the number of SiH groups. In order to remove the SiH groups, the initial product is subjected to a tempering step at a temperature of at least 850 °C, thereby obtaining the quartz glass component. The inventive quartz glass component is characterized in that the quartz glass is smelted from synthetically produced quartz crystals and has an SiH group content of less than 5 x 10 17 molecules/cm 3 . The invention also relates to a method for testing the aptitude of a quartz glass component for the use thereof with a UV radiation source.
Abstract translation: 在已知的处理的石英玻璃部件的制造中的SiO 2 砂砾的熔化进行一个用于含UV辐射源。 要指定此基础上具有成本效益的方法，通过其获得石英玻璃元件，其特征是高耐辐射性，本发明提出的是合成产生的熔融石英的晶体，以形成一个初步的产品，它由石英玻璃含有以羟基数 比SiH基团的数量越多，并且进行消除SiH基团，所述前体的退火在至少850℃的温度，而获得石英玻璃元件。 在本发明的石英玻璃元件，合成产生的石英晶体的石英玻璃被熔化并具有小于5×10 17 分子/ cm 3 到的SiH基团的含量 ， 对于石英玻璃元件的适用性使用用UV辐射的源的诊断方法也被要求保护。
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210.发明申请
公开(公告)号：WO2005059972A3
公开(公告)日：2005-08-04
申请号：PCT/JP2004019443
申请日：2004-12-17
Applicant: ASAHI GLASS CO LTD , IKUTA YOSHIAKI , AGATA NORIYUKI
Inventor： IKUTA YOSHIAKI , AGATA NORIYUKI
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B2201/03 , C03B2201/04 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2207/36 , Y02P40/57
Abstract: A synthetic quartz glass for an optical member which is free from compaction and rarefaction is obtained. A synthetic quartz glass for an optical member to be used for an optical device employing a light having a wavelength of at most 400 nm and at least 170 nm as a light source, which contains substantially no oxygen excess defects, dissolved oxygen molecules nor reduction type defects, which has a chlorine concentration of at most 50 ppm and a OH group concentration of at most 100 ppm, and which contains oxygen deficient defects within a concentration range of at most 5x10(14) defects/cm(3) and at least 1x10(13) defects/cm(3). The fluorine concentration is preferably at most 100 ppm. A process for producing the synthetic quartz glass is also claimed.
Abstract translation: 得到不含压实和稀释的用于光学构件的合成石英玻璃。 用于光学构件的合成石英玻璃，其用于使用波长最多为400nm且至少170nm的光作为光源的光学元件，其基本上不含氧过剩缺陷，溶解的氧分子或还原型 缺陷，其氯浓度最多为50ppm，OH基浓度为至多100ppm，并且在至少5×10（14）个缺陷/ cm 3（3）的浓度范围内含有缺氧缺陷，并且至少1×10 （13）缺陷/ cm（3）。 氟浓度优选为100ppm以下。 保护合成石英玻璃的方法。
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